镀膜用导电装置及镀膜机制造方法及图纸

技术编号:34234061 阅读:66 留言:0更新日期:2022-07-21 00:15
本实用新型专利技术涉及一种镀膜用导电装置及镀膜机,镀膜用导电装置包括机架与两个导电机构,其中:机架开设有容纳镀液的镀槽;两个导电机构均固定于机架上,且沿镀槽的深度方向间隔相对设置,导电机构包括导电辊、钛篮以及整流器,整流器的正极与钛篮电连接,整流器的负极与导电辊电连接,钛篮至少部分浸没于镀液内,导电辊沿其径向方向的一侧浸没于镀液内,其另一侧裸露于镀液外,导电辊在其轴向方向的横截面呈工字形;当镀膜产品在通过导电机构时,镀膜产品的其中一面与两根导电辊中的其中一根接触,其另一面与另外一根导电辊接触;本实用新型专利技术提供的镀膜用导电装置,镀膜产品在电镀过程中,防止导电辊中部与镀液接触,显著提高镀膜产品的镀膜质量。膜产品的镀膜质量。膜产品的镀膜质量。

【技术实现步骤摘要】
镀膜用导电装置及镀膜机


[0001]本技术涉及电镀薄膜
,特别是涉及一种镀膜用导电装置及镀膜机。

技术介绍

[0002]电镀是复合集流体铜膜生产的一道重要工序,整流器与导电辊、钛篮相连接,电流从整流器正极经过钛篮,流经镀液、导电机构和整流器负极,使整个电镀系统形成一个完成的回路,从而实现在镀膜产品上形成薄膜。
[0003]目前,导电辊通常为直径相同的管状结构,在镀膜过程中,导电辊与镀膜产品接触的同时,也会直接或间接与镀液(铜液)接触,在导电辊上形成返镀铜或铜沉积的现象,在长时间镀铜过程中,导电辊上的镀铜积累到一定程度后,会在其表面形成不规则形状的铜质结晶层,这层铜质结晶层在导电辊上分布极不均匀,导致导电辊局部位置形成铜渣或铜刺。镀膜产品在接触导电辊时,导电辊上形成的铜渣或铜刺会划伤镀膜产品表面沉积的铜膜,严重影响镀膜产品表面铜膜的电镀质量。并且,当导电辊上的铜质结晶层积累过厚时,还会影响镀膜产品表面铜膜的色度以及均匀性。

技术实现思路

[0004]基于此,有必要针对现有导电装置在镀膜过程中,导电辊会直接或间接与镀液接触,在其表面出现返镀铜或铜沉积的现象,严重影响镀膜产品表面铜膜的镀膜质量的问题,提供一种镀膜用导电装置及镀膜机。
[0005]一种镀膜用导电装置,用于在镀膜产品表面电镀薄膜,包括:
[0006]机架,所述机架开设有容纳镀液的镀槽;
[0007]两个导电机构,两个所述导电机构均固定于所述机架上,且沿所述镀槽的深度方向间隔相对设置,所述导电机构包括导电辊、钛篮以及整流器,所述整流器的正极与所述钛篮电连接,所述整流器的负极与所述导电辊电连接,所述钛篮至少部分浸没于所述镀液内,所述导电辊沿其径向方向的一侧浸没于所述镀液内,其另一侧裸露于所述镀液外,所述导电辊在其轴向方向的横截面呈工字形;
[0008]当所述镀膜产品在通过所述导电机构时,所述镀膜产品的其中一面与两根所述导电辊中的其中一根接触,其另一面与另外一根所述导电辊接触。
[0009]上述镀膜用导电装置,机架开设有镀槽,镀槽可用于容纳镀液,两个导电机构均固定于机架上,实现两个导电机构与机架的固定连接。整流器的正极与钛篮电连接,整流器的负极与导电辊电连接,钛篮至少部分浸没于镀液内,导电辊沿其径向方向的一侧浸没于镀液内,导电辊的另一侧裸露于镀液外,整流器、钛篮、导电辊以及镀液形成一完整的电流回路,当镀膜产品在通过导电机构时,镀膜产品的其中一面与两根导电辊中的其中一根接触,并且镀膜产品的另一面与两根导电辊中的另外一根接触,以在镀膜产品两个表面电镀薄膜,实现镀膜产品的双面镀膜,提高在镀膜产品表面的电镀效率。并且导电辊在其轴向方向的横截面呈工字形,镀膜产品在电镀过程中,导电辊的中部既不与镀液接触,也不与镀膜产
品的中部接触,防止导电辊中部直接或间接与镀液接触,减弱在导电辊上出现返镀铜或铜沉积现象,降低导电辊划伤镀膜产品表面沉积薄膜的风险,显著提高镀膜产品的镀膜质量。
[0010]在其中一个实施例中,所述导电辊两端的直径为5cm

20cm,所述导电辊中间位置相较于其端部位置下凹1cm

3cm。
[0011]在其中一个实施例中,所述导电辊为内部中空的管状结构。
[0012]在其中一个实施例中,所述导电辊的材质为304不锈钢、316不锈钢中的其中一种。
[0013]在其中一个实施例中,所述导电机构还包括辅助阳极,所述整流器的正极与所述辅助阳极电连接。
[0014]在其中一个实施例中,所述辅助阳极的材质为钛金属,且在其表面均匀涂覆有铱金属层。
[0015]一种镀膜机,包括放卷机构、收卷机构以及如上述技术方案任一项所述的镀膜用导电装置,所述放卷机构与所述收卷机构均固定于所述机架上,且间隔设置于所述镀膜产品的输送路径上。
[0016]上述镀膜机,导电辊在其轴向方向的横截面呈工字形,镀膜产品在电镀过程中,导电辊的中部既不与镀液接触,也不与镀膜产品的中部接触,防止导电辊直接或间接与镀液接触,在导电辊上出现返镀铜或铜沉积现象,避免导电辊划伤镀膜产品表面沉积的薄膜,显著提高镀膜产品的镀膜质量。
[0017]在其中一个实施例中,还包括多个张紧元件,多个所述张紧元件均固定于所述机架上,且均匀分布于所述放卷机构与所述收卷机构之间。
[0018]在其中一个实施例中,还包括两个喷淋元件,两个所述喷淋元件均固定于所述机架上,所述喷淋元件具有喷淋口,两个所述喷淋口中的其中一个朝向两根所述导电辊中的其中一根,其另一个朝向两根所述导电辊中的另外一根。
[0019]在其中一个实施例中,还包括加热元件,所述加热元件固定于所述机架上。
附图说明
[0020]图1为本技术提供的镀膜用导电装置的俯视图;
[0021]图2位本技术提供的镀膜机的主视图。
[0022]附图标记:
[0023]100、镀膜用导电装置;
[0024]110、机架;
[0025]120、导电机构;121、导电辊;122、钛篮;123、整流器;124、辅助阳极;
[0026]200、镀膜产品;
[0027]300、镀膜机;
[0028]310、放卷机构;320、收卷机构;330、张紧元件。
具体实施方式
[0029]为使本技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图对本技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本技术。但是本技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施,本领域
技术人员可以在不违背本技术内涵的情况下做类似改进,因此本技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0030]在本技术的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本技术和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本技术的限制。
[0031]此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本技术的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。
[0032]在本技术中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镀膜用导电装置,用于在镀膜产品表面电镀薄膜,其特征在于,包括:机架,所述机架开设有容纳镀液的镀槽;两个导电机构,两个所述导电机构均固定于所述机架上,且沿所述镀槽的深度方向间隔相对设置,所述导电机构包括导电辊、钛篮以及整流器,所述整流器的正极与所述钛篮电连接,所述整流器的负极与所述导电辊电连接,所述钛篮至少部分浸没于所述镀液内,所述导电辊沿其径向方向的一侧浸没于所述镀液内,其另一侧裸露于所述镀液外,所述导电辊在其轴向方向的横截面呈工字形;当所述镀膜产品在通过所述导电机构时,所述镀膜产品的其中一面与两根所述导电辊中的其中一根接触,其另一面与另外一根所述导电辊接触。2.根据权利要求1所述的镀膜用导电装置,其特征在于,所述导电辊两端的直径为5cm

20cm,所述导电辊中间位置相较于其端部位置下凹1cm

3cm。3.根据权利要求1所述的镀膜用导电装置,其特征在于,所述导电辊为内部中空的管状结构。4.根据权利要求1所述的镀膜用导电装置,其特征在于,所述导电辊的材质为304不锈...

【专利技术属性】
技术研发人员:蒋文强李学法张国平
申请(专利权)人:江阴纳力新材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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