聚合物的制造方法技术

本发明专利技术提供聚合物的制造方法，其包括：第一工序，其中，使包含嘧啶三酮结构、咪唑烷二酮结构或三嗪三酮结构的单体在有机溶剂中、季鏻盐或季铵盐的存在下反应而合成粗聚合物；和第二工序，其中，将上述第一工序中得到的含有粗聚合物的溶液与不良溶剂混合，使精制聚合物沉淀，滤离。滤离。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】聚合物的制造方法


[0001]本专利技术涉及聚合物的制造方法，更详细地说，涉及通过再沉淀精制使包含嘧啶三酮结构、咪唑烷二酮结构或三嗪三酮结构的单体反应而得到的聚合物的缩合系聚合物的制造方法。

技术介绍

[0002]以往，作为上述缩合系聚合物的制造方法，已知使单烯丙基二缩水甘油基异氰脲酸与5，5
‑
二乙基巴比妥酸反应的方法。例如，在专利文献1和专利文献2的合成例1中记载了：使上述各化合物和苄基三乙基氯化铵溶解于丙二醇单甲基醚后，在130℃下反应24小时，得到含有重均分子量6800的聚合物的溶液。
[0003]在专利文献1和专利文献2中还记载了使用所得到的含有上述聚合物的溶液，制备了防反射膜形成组合物或EUV光刻用抗蚀剂下层膜形成组合物。
[0004]通过化学合成而得到的聚合物通常为分子量(聚合度)不同的分子的集合体，这样的聚合物的分子量以重均分子量Mw、数均分子量Mn等平均分子量来表示。因此，聚合物中的低分子量成分含量越多，该聚合物的平均分子量越低，多分散指数(Mw/Mn)越大。
[0005]但是，采用上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.聚合物的制造方法，其包括：第一工序，其中，使由下述式(a)所示的单体和由下述式(b)所示的单体在有机溶剂中在季鏻盐或季铵盐的存在下反应，以合成具有由下述式(1)所示的重复单元的粗聚合物；和第二工序，其中，将所述第一工序中得到的含有粗聚合物的溶液与不良溶剂混合，以将具有式(1)所示的重复单元的精制聚合物沉淀、滤离，[化1]式(1)及式(a)中，A相互独立地表示氢原子、甲基或乙基，式(1)、式(a)及式(b)中，Q1及Q2表示式(2)或式(3)：[化2]式中，Q3表示可含有硫醚键或二硫醚键的碳原子数1～10的亚烷基、碳原子数2～10的亚烯基、亚苯基、亚萘基或亚蒽基，所述亚苯基、亚萘基和亚蒽基相互独立地可以被选自碳原子数1～6的烷基、苯基、卤素原子、碳原子数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基和碳原子数1～6的烷硫基中的基团取代；B相互独立地表示单键或碳原子数1～5的亚烷基；n相互独立地为0或1；m相互独立地为0或1；X表示式(4)、式(5)或式(6):[化3]式中，R1相互独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数3～6的烯基、苄基或苯基，所述烷基及烯基可以被卤素原子、羟基或氰基取代，所述苄基的芳环上的氢原子可被羟基取代，所述苯基可以被选自碳原子数1～6的烷基、卤素原子、碳原子数1～6的烷氧基、硝基、氰基、羟基和碳原子数1～6的烷硫基中的基团取代，2个R1可以相互键合而
形成碳原...

【专利技术属性】
技术研发人员：桥本雄人，洼寺俊，小田切薰敬，上林哲，西田登喜雄，后藤裕一，染谷安信，远藤勇树，
申请(专利权)人：日产化学株式会社，
类型：发明
国别省市：