一种含钛靶材及其制备方法技术

本发明专利技术提供了一种含钛靶材及其制备方法，所述制备方法包括以下步骤：将含钛靶材坯料依次进行锻造、一次热处理、冷轧和二次热处理，得到含钛靶材。本发明专利技术所述方法根据靶材的材质选择合适的制备工艺，通过对热处理及轧制工艺的控制，优化靶材的内部组织结构，控制其再结晶过程及晶粒尺寸的均匀性，从而能够提高靶材溅射时镀膜的均匀性，提高镀膜的质量；所述方法可有效增强靶材的强度，避免在高功率溅射时产生裂纹；所述方法操作简单，所需成本较低，应用范围较广。范围较广。

【技术实现步骤摘要】
一种含钛靶材及其制备方法


[0001]本专利技术属于靶材制备
，涉及一种含钛靶材及其制备方法。

技术介绍

[0002]磁控溅射技术是制备薄膜材料的关键技术之一，而靶材正是磁控溅射工艺中的关键耗材。溅射法主要是指采用高能粒子轰击靶材表面，使靶材表面的原子或分子喷射在衬底表面，形成一层致密薄膜的过程，由于薄膜材料应用于半导体芯片、平板显示器等领域时，对其均匀性有较高的要求，这就需要首先保证溅射靶材内部组织结构的均匀性，如此才能保证镀膜的均匀性，因此靶材的加工制备需要根据材质的不同选择不同的工艺。
[0003]靶材的加工制备通常采用锻造、热轧、冷轧等加工方式，再经热处理及必要的机械加工，以制备出符合要求的靶材产品，但传统的操作步骤往往难以有效调节靶材内部的组织结构，难以控制靶材晶粒尺寸的均一性，从而无法保证溅射镀膜时薄膜的均匀性；此外，由于靶材材质的不同，有时需要使用高功率溅射，此时容易在靶材表面产生裂纹，从而影响溅射镀膜过程，因而需要根据靶材材质的不同选择合适的加工工艺，使之既能够优化内部的组织结构，又可增强靶材强度。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含钛靶材的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：将含钛靶材坯料依次进行锻造、一次热处理、冷轧和二次热处理，得到含钛靶材。2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述含钛靶材包括高纯钛靶材；优选地，所述高纯钛靶材的纯度为4N以上。3.根据权利要求1或2所述的制备方法，其特征在于，所述含钛靶材坯料锻造前先进行预热；优选地，所述预热的温度为450～550℃；优选地，所述预热的保温时间为90～150min；优选地，所述保温结束后进行锻造。4.根据权利要求1
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3任一项所述的制备方法，其特征在于，所述锻造的重复次数为3～5次；优选地，每次锻造的锻造比为1.5～2.5。5.根据权利要求1
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4任一项所述的制备方法，其特征在于，所述一次热处理的温度为400～500℃；优选地，所述一次热处理的保温时间为60～180min；优选地，所述一次热处理保温结束后进行空冷，直至温度降至常温。6.根据权利要求1
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5任一项所述的制备方法，其特征在于，所述冷轧的总变形量为冷轧前厚度的50～85％；优选地，每道次冷轧的下压量为10～20mm。7.根据权利要求1
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6任一项所述的制备方法，其特征在于，所述二次热处理的温度为300～400℃；优选地，所述二次热处理的保温时间为60～180min；...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚力军，潘杰，王学泽，周友平，周敏，陈勇军，
申请(专利权)人：宁波江丰电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：