匀胶系统技术方案

本申请提供一种匀胶系统，涉及光刻工艺技术领域。其中，该匀胶系统包括：光源、投影卡具和底座；所述光源用于投射光线；所述投影卡具位于所述光源的下方；所述底座位于所述投影卡具的正下方，用于固定并以中心直线为轴线旋转所述基片；所述光源照射所述投影卡具后的投影映在所述底座的上表面，且所述投影的轮廓的形状和大小分别对应于所述基片，用于所述基片的定位；其中，所述中心直线穿过所述底座的中心并与所述底座的上表面垂直。本申请技术方案可以实现基片的无接触且快速对中操作，能够解决基片对中时需要使用夹具，容易划伤基片的技术问题。问题。问题。

【技术实现步骤摘要】
匀胶系统


[0001]本申请涉及光刻工艺
，尤其涉及一种匀胶系统。

技术介绍

[0002]光刻技术是一种重要的半导体加工的基本工艺流程，它的技术质量影响着产品的性能以及成品率，而作为光刻工艺的第一个关键重要环节，光刻胶的涂覆对后道工序的影响尤为重要。
[0003]涂覆光刻胶又称为匀胶，通常采用旋转涂胶法：光刻胶受离心作用，在基底上形成均一性较好的薄膜。对于透明的光学器件来说，如果其胶层不均一，光学器件的均一性差，其透过率与反射率不均一，产品质量不能得到有效的控制，所以在匀胶工序中为了让胶层的均一性更好，需要将光刻胶滴在光学器件的中间再进行旋转。
[0004]但是，现有的光学器件在对中时需要使用对中卡具，在操作过程中需要将光线器件卡入对中卡具中，完成对中后再将卡具取出，操作过程中可能会划伤并污染待加工的光学器件，影响光学器件的生产质量，划伤严重甚至会导致光学器件报废，降低生产效率，增加生产成本。

技术实现思路

[0005]本申请实施例的目的是提供一种匀胶系统，以避免在匀胶工序中，对基片进行对中定位时将基片污染本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种匀胶系统，用于基片的旋转匀胶，其特征在于，包括：光源，用于投射光线；投影卡具，位于所述光源的下方；底座，位于所述投影卡具的正下方，用于固定并以中心直线为轴线旋转所述基片；所述光源照射所述投影卡具后的投影映在所述底座的上表面，且所述投影的轮廓的形状和大小分别对应于所述基片，用于所述基片的定位；其中，所述中心直线穿过所述底座的中心并与所述底座的上表面垂直。2.根据权利要求1所述的一种匀胶系统，其特征在于，所述底座包括：凸台和安装台；所述凸台设置于所述安装台的上部中心，其上表面为第一表面；所述安装台用于旋转所述凸台，其上表面为第二表面，所述第二表面环绕所述凸台设置，所述光源照射所述投影卡具后的投影映在所述第二表面；所述凸台和所述安装台的中心贯通设置有真空通孔，用于提供真空以吸持所述基片。3.根据权利要求2所述的一种匀胶系统，其特征在于，所述凸台的上侧外周设置有清洗沟道；所述清洗沟道包括：储液槽和至少一个排液通道；所述排液通道的第一端连通于所述储液槽，所述排液通道的第二端延伸至所述凸台的外周。4.根据权利要求3所述的一种匀胶系统，其特征在于，所述储液槽的数量为一个，且呈环形设置于所述第一表面，其圆心位于所述中心...

【专利技术属性】
技术研发人员：冯季村，吕学良，张洋，周游，李开宇，李自金，李庆，周东站，王乔，郑京明，沈帆帆，蒲文轩，
申请(专利权)人：中国建筑材料科学研究总院有限公司，
类型：发明
国别省市：