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本申请提供一种匀胶系统，涉及光刻工艺技术领域。其中，该匀胶系统包括：光源、投影卡具和底座；所述光源用于投射光线；所述投影卡具位于所述光源的下方；所述底座位于所述投影卡具的正下方，用于固定并以中心直线为轴线旋转所述基片；所述光源照射所述投影卡...
该专利属于中国建筑材料科学研究总院有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中国建筑材料科学研究总院有限公司授权不得商用。

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