一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，包括：第一固定治具、第一掩膜光罩、第二固定治具和真空泵；所述第一固定治具用于装载所述第一掩膜光罩并与所述真空泵连接；所述第一固定治具上设置有第一镂空部；所述第一掩膜光罩的第一侧面通过真空吸附在所述第一镂空部的框架内表面上；所述第一固定治具的内表面与所述第二固定治具的内表面通过真空吸附在一起；所述第一掩膜光罩的第二侧面与所述第二固定治具的内表面之间通过真空吸附有用于曝光的柔性基材。本实用新型专利技术能够防止基材曝光后出现重影和/或锯齿。够防止基材曝光后出现重影和/或锯齿。够防止基材曝光后出现重影和/或锯齿。

【技术实现步骤摘要】
一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置


[0001]本技术属于治具装置
，具体涉及一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置。

技术介绍

[0002]接触式曝光是指掩膜光罩直接与光刻胶层接触，曝光出来的图形与掩膜光罩上的图形分辨率相当。然而，针对高分辨率(线宽小于2um(微米))的掩膜光罩线路，基材厚度通常为13～200微米，如果使用非真空接触式曝光，则无法让基材在掩模版中间吸附平整，曝光时就会出现重影1和/或锯齿2的问题(如图1、图2所示)。重影1是指曝光后的线路出现阶梯型结构，及大小双层线路。锯齿2是指曝光后的线路边缘出现类似锯齿边。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于针对现有技术的不足之处，提供一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其能够防止基材曝光后出现重影和/或锯齿。
[0004]为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案：一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，包括：第一固定治具、第一掩膜光罩、第二固定治具和真空泵；所述第一固定治具用于装载所述第一掩膜光罩并与所述真空泵连接；所述第一固定治具上设置有第一镂空部；所述第一掩膜光罩的第一侧面通过真空吸附在所述第一镂空部的框架内表面上；所述第一固定治具的内表面与所述第二固定治具的内表面通过真空吸附在一起；所述第一掩膜光罩的第二侧面与所述第二固定治具的内表面之间通过真空吸附有用于曝光的柔性基材。
[0005]在一个具体实施例中，所述第二固定治具上设置有与所述第一镂空部呈相对布置的第二镂空部，所述第二镂空部的框架内表面上通过真空吸附第二掩膜光罩的第一侧面，所述柔性基材通过真空吸附在所述第二掩膜光罩的第二侧面和所述第一掩膜光罩的第二侧面之间。
[0006]在一个具体实施例中，所述第一固定治具的内部设置有与所述真空泵相连通的第一回字形真空槽，所述第一回字形真空槽环绕设置在所述第一镂空部的外部。
[0007]在一个具体实施例中，所述第一回字形真空槽的底面上设置有与所述真空泵相连通的第一真空孔。
[0008]在一个具体实施例中，所述第一回字形真空槽的内部框架形成所述第一镂空部的框架，所述第一回字形真空槽的内部框架上设置有与所述真空泵相连通的第一掩膜光罩真空槽，所述第一掩膜光罩通过所述第一掩膜光罩真空槽内的真空吸附在所述第一回字形真空槽的内部框架上。
[0009]在一个具体实施例中，所述第一掩膜光罩真空槽的底面上设置有与所述真空泵相连通的第二真空孔。
[0010]在一个具体实施例中，所述第一回字形真空槽的内部框架的顶面与所述第一回字
形真空槽的底面的距离小于所述第一固定治具的内表面与所述第一回字形真空槽的底面的距离。
[0011]在一个具体实施例中，所述第二固定治具的内部设置有与所述真空泵相连通的第二回字形真空槽，所述第二回字形真空槽环绕设置在所述第二镂空部的外部。
[0012]在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽的内部框架形成所述第二镂空部的框架，所述第二回字形真空槽的内部框架上设置有与所述真空泵相连通的第二掩膜光罩真空槽，所述第二掩膜光罩通过所述第二掩膜光罩真空槽内的真空吸附在所述第二回字形真空槽的内部框架上。
[0013]在一个具体实施例中，所述第二掩膜光罩真空槽的底面上设置有与所述真空泵相连通的第三真空孔。
[0014]在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽与所述第一回字形真空槽呈相对布置。
[0015]在一个具体实施例中，所述第二掩膜光罩真空槽与所述第一掩膜光罩真空槽呈相对设置。
[0016]在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽的槽口宽度与所述第一回字形真空槽的槽口宽度相同。
[0017]在一个具体实施例中，所述第二掩膜光罩真空槽的槽口宽度与所述第一掩膜光罩真空槽的槽口宽度相同。
[0018]在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽的槽深与所述第一回字形真空槽的槽深相同。
[0019]在一个具体实施例中，所述第二掩膜光罩真空槽的槽深与所述第一掩膜光罩真空槽的槽深相同。
[0020]在一个具体实施例中，所述第二回字形真空槽的内部框架的顶面与所述第二回字形真空槽的底面的距离小于所述第二固定治具的内表面与所述第二回字形真空槽的底面的距离。
[0021]在一个具体实施例中，所述第一固定治具的内表面上位于所述第一回字形真空槽的外部设置有密封圈。
[0022]在一个具体实施例中，所述密封圈的数目为多个。
[0023]在一个具体实施例中，所述多个密封圈绕所述第一回字形真空槽呈间隔设置。
[0024]在一个具体实施例中，所述第一镂空部与所述第二镂空部的孔径相同。
[0025]在一个具体实施例中，所述第一固定治具和所述第二固定治具通过连接件连接。
[0026]在一个具体实施例中，所述柔性基材包括：聚对苯二甲酸乙二醇酯膜、无色透明聚酰亚胺膜、环烯烃聚合物膜或超复屈折膜。
[0027]与现有技术相比，本技术的有益效果为：
[0028]本技术能够利用大气压将第一掩膜光罩、第二掩膜光罩和柔性基材紧密的压在一起，并能够实现高真空接触曝光，照度分布小于3％，且利用此真空接触式曝光方式，能够实现良好的精度和/或解析度，精度和/或解析度为1～2微米，线均匀性小于10％。
附图说明
[0029]图1示出了现有技术中基材在曝光时出现重影的示意图；
[0030]图2示出了现有技术中基材在曝光时出现锯齿的示意图
[0031]图3示出了本技术的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置的一个具体实施例的结构示意图；
[0032]图4示出了本技术的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置的第一固定治具的结构示意图；
[0033]图5示出了本技术的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置的第二固定治具的结构示意图；
[0034]图6示出了本技术的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置的局部结构的剖视示意图；
[0035]图7示出了图6中A的放大结构示意图；
[0036]图8示出了采用本技术的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置进行接触式曝光的效果图。
[0037]其中，1
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重影；2
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锯齿；3
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第一固定治具；31
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第一镂空部；32
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第一固定治具3的内表面；33
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第一回字形真空槽；331
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第一真空孔；332
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第一回字形真空槽33的内部框架；333
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第一掩膜光罩真空槽；3331
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第二真空孔；4
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第一掩膜光罩；41
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第一掩膜光罩4的第一侧面；42
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第一掩膜光罩4的第二侧面；5
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第二固定治具；5本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，包括：第一固定治具(3)、第一掩膜光罩(4)、第二固定治具(5)和真空泵(6)；所述第一固定治具(3)用于装载所述第一掩膜光罩(4)并与所述真空泵(6)连接；所述第一固定治具(3)上设置有第一镂空部(31)；所述第一掩膜光罩(4)的第一侧面(41)通过真空吸附在所述第一镂空部(31)的框架内表面上；所述第一固定治具(3)的内表面(32)与所述第二固定治具(5)的内表面(51)通过真空吸附在一起；所述第一掩膜光罩(4)的第二侧面(42)与所述第二固定治具(5)的内表面(51)之间通过真空吸附有用于曝光的柔性基材(7)。2.根据权利要求1所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二固定治具(5)上设置有与所述第一镂空部(31)呈相对布置的第二镂空部(52)，所述第二镂空部(52)的框架内表面上通过真空吸附第二掩膜光罩(8)的第一侧面(81)，所述柔性基材(7)通过真空吸附在所述第二掩膜光罩(8)的第二侧面(82)和所述第一掩膜光罩(4)的第二侧面(42)之间。3.根据权利要求2所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一固定治具(3)的内部设置有与所述真空泵(6)相连通的第一回字形真空槽(33)，所述第一回字形真空槽(33)环绕设置在所述第一镂空部(31)的外部。4.根据权利要求3所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一回字形真空槽(33)的底面上设置有与所述真空泵(6)相连通的第一真空孔(331)。5.根据权利要求3所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)形成所述第一镂空部(31)的框架，所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)上设置有与所述真空泵(6)相连通的第一掩膜光罩真空槽(333)，所述第一掩膜光罩(4)通过所述第一掩膜光罩真空槽(333)内的真空吸附在所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)上。6.根据权利要求5所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一掩膜光罩真空槽(333)的底面上设置有与所述真空泵(6)相连通的第二真空孔(3331)。7.根据权利要求5所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第一回字形真空槽(33)的内部框架(332)的顶面与所述第一回字形真空槽(33)的底面的距离小于所述第一固定治具(3)的内表面(32)与所述第一回字形真空槽(33)的底面的距离。8.根据权利要求5至7中任一项所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二固定治具(5)的内部设置有与所述真空泵(6)相连通的第二回字形真空槽(53)，所述第二回字形真空槽(53)环绕设置在所述第二镂空部(52)的外部。9.根据权利要求8所述的适用于柔性基材真空接触式曝光的治具装置，其特征在于，所述第二回字...

【专利技术属性】
技术研发人员：于洋，王华，江建国，
申请(专利权)人：浙江鑫柔科技有限公司，
类型：新型
国别省市：