【技术实现步骤摘要】
三基色发光二极管芯片
[0001]本公开涉及光电子制造
,特别涉及一种三基色发光二极管芯片。
技术介绍
[0002]三基色发光二极管是通过三基色原理使发光二极管发出不同颜色的光的电子元件。三基色发光二极管具有自发光特性,具有高亮度、高对比度、高反应性及省电的特点。
[0003]相关技术中,三基色发光二极管通常包括外延结构、第一电极和第二电极,外延结构包括同层并列分布的蓝光外延层、绿光外延层和红光外延层。其中,第一电极和第二电极均设置外延结构的同侧或异侧。
[0004]然而,外延结构中该种并列分布的三种外延层会占用较大的面积,限制了三基色发光二极管芯片尺寸的进一步缩小,不利于满足使用需求。
技术实现思路
[0005]本公开实施例提供了一种三基色发光二极管芯片,能缩减三基色发光二极管芯片的尺寸,且使三基色发光二极管芯片满足使用需求。所述技术方案如下:
[0006]本公开实施例提供了一种三基色发光二极管芯片,所述三基色发光二极管芯片包括:透明基板、外延结构、第一透明导电层、第二透明导电层、第三透明导电层、第一电极、第二电极、第三电极、第四电极;所述外延结构包括第一外延层、第二外延层和第三外延层,所述第一外延层、所述第一透明导电层、所述第二透明导电层、所述第二外延层、所述第三透明导电层和所述第三外延层依次层叠于所述透明基板外,所述第一电极、所述第二电极、所述第三电极和所述第四电极均位于所述第三外延层远离所述透明基板的一侧,且所述第一电极与所述第一透明导电层、所述第二透明导电层和所述第 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种三基色发光二极管芯片,其特征在于,所述三基色发光二极管芯片包括:透明基板(10)、外延结构(2)、第一透明导电层(31)、第二透明导电层(32)、第三透明导电层(33)、第一电极(41)、第二电极(421)、第三电极(422)、第四电极(423);所述外延结构(2)包括第一外延层(21)、第二外延层(22)和第三外延层(23),所述第一外延层(21)、所述第一透明导电层(31)、所述第二透明导电层(32)、所述第二外延层(22)、所述第三透明导电层(33)和所述第三外延层(23)依次层叠于所述透明基板(10)外,所述第一电极(41)、所述第二电极(421)、所述第三电极(422)和所述第四电极(423)均位于所述第三外延层(23)远离所述透明基板(10)的一侧,且所述第一电极(41)与所述第一透明导电层(31)、所述第二透明导电层(32)和所述第三透明导电层(33)相连,所述第二电极(421)与所述第一外延层(21)相连,所述第三电极(422)与所述第二外延层(22)相连,所述第四电极(423)与所述第三外延层(23)相连。2.根据权利要求1所述的三基色发光二极管芯片,其特征在于,所述第一外延层(21)包括依次层叠于所述透明基板(10)上的第一n型层(211)、第一发光层(212)和第一p型层(213);所述第二外延层(22)包括依次层叠于所述第二透明导电层(32)上的第二p型层(223)、第二发光层(222)和第二n型层(221);所述第三外延层(23)包括依次层叠于所述第三透明导电层(33)上的第三p型层(233)、第三发光层(232)和第三n型层(231)。3.根据权利要求2所述的三基色发光二极管芯片,其特征在于,所述第三n型层的表面具有绝缘结构(61),所述发光二极管芯片具有第一凹槽(201),所述第一凹槽(201)从第三外延层(23)至少延伸至所述第一透明导电层(31),以露出所述第一透明导电层(31)、所述第二透明导电层(32)和所述第三透明导电层(33);所述第一电极(41)包括:p电极(410)和第一金属条(411),所述p电极(410)与所述第一金属条(411)相连;所述p电极(410)位于所述绝缘结构(61)上,所述第一金属条(411)位于所述第一凹槽(201)中,且与所述第一透明导电层(31)、所述第二透明导电层(32)和所述第三透明导电层(33)相连。4.根据权利要求3所述的三基色发光二极管芯片,其特征在于,所述发光二极管芯片具有第二凹槽(202),所述第二凹槽(202)从第三外延层(23)至少延伸至所述第一n型层(211),以露出所述第一n型层(211),所述第二凹槽(202)中具有第一绝缘层(62),所述第一绝缘层(62)从所述第三外延层(23)延伸至所述第一n型层(211);所述第二电极(421)包括:第一n电极(4201)和第二金属条(424),所述第一n电极(4201)与所述第二金属条(424)相连;所述第一n电极(4201)位于所述绝缘结构(61)上,所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:兰叶,王江波,朱广敏,
申请(专利权)人:华灿光电浙江有限公司,
类型:新型
国别省市:
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