一种电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备，包括真空容器，真空容器内部形成有放卷室、蒸发镀膜室一、蒸发镀膜室二和收卷室，放卷室输出薄膜基材经过蒸发镀膜室一和蒸发镀膜室二后进入收卷室中复卷，蒸发镀膜室一设有镀膜辊一和电子束蒸发镀膜器一，蒸发镀膜室二设有镀膜辊二和电子束蒸发镀膜器二，薄膜基材绕过镀膜辊一和镀膜辊二使其正反两面分别与电子束蒸发镀膜器一和电子束蒸发镀膜器二对应。本实用新型专利技术提供一种电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备，采用电子束加热膜材，加热功率大，热能量集中且能量大，能蒸发各种难熔金属及非金属材料，采用双镀膜辊双电子束加热蒸发镀膜实现薄膜基材的连续双面镀膜。热蒸发镀膜实现薄膜基材的连续双面镀膜。热蒸发镀膜实现薄膜基材的连续双面镀膜。

【技术实现步骤摘要】
一种电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备


[0001]本技术涉及真空镀膜
，尤其是涉及一种电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备。

技术介绍

[0002]目前，镀膜技术一般采用电阻加热蒸发镀膜和磁控溅射镀膜等单一方式镀膜以及单面镀膜，其中，电阻加热蒸发镀膜是在真空条件下，对镀膜材料加热气化而进行沉积成膜的方法。具有镀膜速度较快，效率较高的优点，但是其良品率低，镀膜的均匀性和结合力较差，电阻加热不能蒸发各种难熔金属，不能够满足现今5G电子产品的镀膜、装饰材料和新能源电池方面镀膜的要求。磁控溅射镀膜是通过辉光放电离化气体轰击靶材溅射出材料粒子而形成膜层的方法，具有镀膜稳定性好，均匀度好，膜层致密的优点。但是其镀膜效率低、靶材利用率低、产能不高，不能满足高效生产的要求。

技术实现思路

[0003]本技术的目的旨在提供一种电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备，采用电子束加热膜材，加热功率大，热能量集中且能量大，能蒸发各种难熔金属及非金属材料，采用双镀膜辊双电子束加热蒸发镀膜实现薄膜基材的连续双面镀膜。
[0004]为解决上述技术问题，本技术提供的技术方案是：一种电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备，包括真空容器，真空容器内部形成有放卷室、蒸发镀膜室一、蒸发镀膜室二和收卷室，放卷室输出薄膜基材经过蒸发镀膜室一和蒸发镀膜室二后进入收卷室中复卷，蒸发镀膜室一设有镀膜辊一和电子束蒸发镀膜器一，蒸发镀膜室二设有镀膜辊二和电子束蒸发镀膜器二，薄膜基材绕过镀膜辊一和镀膜辊二使其正反两面分别与电子束蒸发镀膜器一和电子束蒸发镀膜器二对应。r/>[0005]本技术采用上述技术方案，薄膜基材从放卷室输出依次通过蒸发镀膜室一和蒸发镀膜室二中时，电子束蒸发镀膜器一对缠绕于镀膜辊一上的薄膜基材的第一面进行电子束加热蒸发镀膜，电子束蒸发镀膜器二对缠绕与镀膜辊二上的薄膜基材的第二面进行电子束加热蒸发镀膜，实现薄膜基材的正反双面镀膜。采用电子束加热膜材，加热功率大，能量集中，可蒸发各种难容金属及非金属材料，保障镀膜效果；采用双镀膜辊双电子束加热蒸发镀膜，实现了薄膜基材的连续双面镀膜，薄膜基材镀完膜后进入收卷室中复卷。
[0006]进一步地，电子束蒸发镀膜器一包括电子枪一和蒸发坩埚一，蒸发坩埚一设于镀膜辊一下方，电子枪一设于真空容器侧壁、其发出的电子束射向蒸发坩埚一。电子枪一发出的电子束射向蒸发坩埚一，加热蒸发坩埚一中的蒸发材料，蒸发材料受热后向上蒸发形成蒸发气流，该蒸发气流向上扩散贴附在缠绕于镀膜辊一上的薄膜基材的第一面，在薄膜基材的表面完成镀膜。
[0007]进一步地，电子束蒸发镀膜器二包括电子枪二和蒸发坩埚二，蒸发坩埚二设于镀膜辊二下方，电子枪二设于真空容器侧壁、其发出的电子束射向蒸发坩埚二。电子枪二发出
电子束射向蒸发坩埚二，加热蒸发坩埚二中的蒸发材料，蒸发材料受热后向上蒸发形成蒸发气流，该蒸发气流向上扩散贴附在缠绕于镀膜辊二上的薄膜基材的第二面，在薄膜基材的表面完成镀膜。
[0008]进一步地，收卷室与蒸发镀膜室一和蒸发镀膜室二之间通过挡板分隔。通过挡板，可使收卷室中复卷的薄膜基材不会接触到蒸发镀膜室一和蒸发镀膜室二中的蒸发材料，不受污染保障镀膜质量。
[0009]进一步地，放卷室中设有放卷系统，收卷室中设有收卷系统，放卷系统缠绕输出薄膜基材，薄膜基材绕过镀膜辊一和镀膜辊二后复卷在收卷系统上。薄膜基材从镀膜辊一输出进入镀膜辊二时，从镀膜辊一的下侧进入镀膜辊二的上侧，缠绕在镀膜辊二上，实现将薄膜基材的正反两面暴露在镀膜辊上，配合电子束蒸发镀膜时完成双面镀膜。
[0010]进一步地，真空容器上设有真空抽气系统。真空抽气系统用于抽真空，使真空容器内部满足真空条件。
[0011]进一步地，薄膜基材的输送行程中设有导辊。导辊用于导向和压紧薄膜基材的输送。
[0012]本技术还取得的有益效果是：采用双镀膜辊结构，实现对薄膜基材的双面镀膜效果；采用一套或两套或以上的电子枪加热蒸发镀膜，满足不同幅宽薄膜基材的镀制，满足不同的生产需求；卷绕系统可正向卷绕，亦可反向卷绕，实现连续往复双面镀制多层薄膜，提高镀膜的厚度，满足现今装饰材料和新能源电池方面镀膜的生产要求。
附图说明
[0013]图1是本技术的真空容器内的具体结构示意图。
[0014]附图标记说明：1为真空容器，2a为放卷室，3a为蒸发镀膜室一，3b为蒸发镀膜室二，4a为收卷室，5为薄膜基材，6为挡板，7为真空抽气系统，8为导辊，21为放卷系统，31为镀膜辊一，32为电子束蒸发镀膜器一，33为镀膜辊二，34为电子束蒸发镀膜器二，321为电子枪一，322为蒸发坩埚一，341为电子枪二，342为蒸发坩埚二，41为收卷系统。
具体实施方式
[0015]下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步的说明。
[0016]参照图1所示，一种电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备，包括真空容器1，真空容器1内部形成有放卷室2a、蒸发镀膜室一3a、蒸发镀膜室二3b和收卷室4a，放卷室2a输出薄膜基材5经过蒸发镀膜室一3a和蒸发镀膜室二3b后进入收卷室4a中复卷，蒸发镀膜室一3a设有镀膜辊一31和电子束蒸发镀膜器一32，蒸发镀膜室二3b设有镀膜辊二33和电子束蒸发镀膜器二34，薄膜基材5绕过镀膜辊一31和镀膜辊二33使其正反两面分别与电子束蒸发镀膜器一32和电子束蒸发镀膜器二34对应。
[0017]电子束蒸发镀膜器一32包括电子枪一321和蒸发坩埚一322，蒸发坩埚一322设于镀膜辊一31下方，电子枪一321设于真空容器1侧壁、其发出的电子束射向蒸发坩埚一322。
[0018]电子束蒸发镀膜器二34包括电子枪二341和蒸发坩埚二342，蒸发坩埚二342设于镀膜辊二33下方，电子枪二341设于真空容器1侧壁、其发出的电子束射向蒸发坩埚二342。
[0019]本实施方式中，电子枪321、341可以为直型电子枪或E型电子枪，直型电子枪和E型
电子枪配合并列使用。蒸发镀膜室一3a和蒸发镀膜室二3b中内可各分别设置一套或以上的电子枪。蒸发坩埚一322和蒸发坩埚二342可以是长槽型，亦可以是圆型，可设置为一个或以上的组合。
[0020]收卷室4a与蒸发镀膜室一3a和蒸发镀膜室二3b之间通过挡板6分隔。
[0021]放卷室2a中设有放卷系统21，收卷室4a中设有收卷系统41，放卷系统21缠绕输出薄膜基材5，薄膜基材5绕过镀膜辊一31和镀膜辊二33后复卷在收卷系统41上。放卷系统21与收卷系统41配合，用于放卷和收卷薄膜基材。可正向卷绕亦可反向卷绕，配合镀膜辊一31和镀膜辊二33，将薄膜基材5的正反两面与电子束蒸发镀膜器一32和电子束蒸发镀膜器二34分别对应，实现薄膜基材5的正反双面镀膜。
[0022]真空容器1上设有真空抽气系统7。薄膜基材5的输送行程中设有导辊8。其中，真空容器1的截面形状包括但不限于长方形、圆筒形。
[0023]本技术在具体实施时，薄膜基材5通过放卷本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备，包括真空容器(1)，其特征在于：所述真空容器(1)内部形成有放卷室(2a)、蒸发镀膜室一(3a)、蒸发镀膜室二(3b)和收卷室(4a)，所述放卷室(2a)输出薄膜基材(5)经过蒸发镀膜室一(3a)和蒸发镀膜室二(3b)后进入收卷室(4a)中复卷，所述蒸发镀膜室一(3a)设有镀膜辊一(31)和电子束蒸发镀膜器一(32)，所述蒸发镀膜室二(3b)设有镀膜辊二(33)和电子束蒸发镀膜器二(34)，薄膜基材(5)绕过镀膜辊一(31)和镀膜辊二(33)使其正反两面分别与电子束蒸发镀膜器一(32)和电子束蒸发镀膜器二(34)对应。2.根据权利要求1所述的电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设备，其特征在于：所述电子束蒸发镀膜器一(32)包括电子枪一(321)和蒸发坩埚一(322)，所述蒸发坩埚一(322)设于镀膜辊一(31)下方，所述电子枪一(321)设于真空容器(1)侧壁、其发出的电子束射向蒸发坩埚一(322)。3.根据权利要求1所述的电子束蒸发双面镀膜的卷对卷设...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱刚毅，朱刚劲，
申请(专利权)人：广东腾胜科技创新有限公司，
类型：新型
国别省市：