一种真空蒸镀机的坩埚系统技术方案

本申请提供一种真空蒸镀机的坩埚系统，所述坩埚系统包括电子枪结构和坩埚结构，电子枪结构设置在坩埚结构的前方，电子枪结构发出电子束轰击加热坩埚结构的坩埚内的膜料；所述电子枪结构包括支座、灯丝、高压头、一体式线圈和磁极，所述支座具有一个从上向下的凹陷部，灯丝和高压头设置在凹陷部内，高压头设置在灯丝的下方，高压头对灯丝进行高压放电，一体式线圈设置在灯丝的前方，磁极设置在支座的两侧和后方，一体式线圈由一个水平横向设置的X线圈和两个水平纵向设置的Y线圈组成，X线圈设置在前方，两个Y线圈分别与X线圈的两端连接并且位于X线圈的后方，所述一体式线圈和磁极用于使得打入坩埚内的光斑为点形或圆形。得打入坩埚内的光斑为点形或圆形。得打入坩埚内的光斑为点形或圆形。

【技术实现步骤摘要】
一种真空蒸镀机的坩埚系统


[0001]本技术涉及真空蒸镀机
，更具体地，涉及一种真空蒸镀机的坩埚系统。

技术介绍

[0002]真空蒸镀机为在真空条件下，通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式，蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结，最后形成薄膜。真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点，因此得到广泛的应用。
[0003]在真空蒸镀的加工工艺中，在真空条件下采用坩埚气化镀膜材料，坩埚包括：蒸镀腔室、设置在蒸镀腔室内的蒸镀源(source)，加热蒸镀源使蒸镀源蒸内的蒸镀材料经过加热发生汽化，以扇形的结构向上蒸发，坩埚上方具有用来承载被镀膜工件的伞状结构的镀锅，镀锅上固定有被镀膜工件，因此使得蒸镀材料分子沉积到被镀膜工件上形成镀膜。在现有技术中，电子枪通过磁场转向之后打入坩埚内的光斑为月牙形，光斑为电子束打出的能量形成的能量环，若膜料为光学膜料或非金属膜料，由于光学膜料或非金属膜料的熔点低，光斑处容易形成深坑，甚至损坏坩埚。并且，现有技术的X线圈设置在坩埚装置的前下方，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空蒸镀机的坩埚系统，所述坩埚系统包括电子枪结构(1)和坩埚结构(2)，电子枪结构(1)设置在坩埚结构(2)的前方，电子枪结构(1)发出电子束轰击加热坩埚结构(2)的坩埚(21)内的膜料，其特征在于，所述电子枪结构(1)包括支座(11)、灯丝(12)、高压头(13)、一体式线圈(14)和磁极(15)，所述支座(11)具有一个从上向下的凹陷部(111)，灯丝(12)和高压头(13)设置在凹陷部(111)内，高压头(13)设置在灯丝(12)的下方，高压头(13)对灯丝(12)进行高压放电，一体式线圈(14)设置在灯丝(12)的前方，磁极(15)设置在支座(11)的两侧和后方，一体式线圈(14)由一个水平横向设置的X线圈(141)和两个水平纵向设置的Y线圈(142)组成，X线圈(141)设置在前方，两个Y线圈(142)分别与X线圈(141)的两端连接并且位于X线圈(141)的后方，所述一体式线圈(14)和磁极(15)用于使得打入坩埚(21)内的光斑为点形或圆形。2.如权利要求1所述的真空蒸镀机的坩埚系统，其特征在于，所述一体式线圈(14)通电后，在磁极(15)的作用下以磁场环抱的方式使得打入坩埚(21)内的光斑为点形或圆形，通过调整两个Y线圈(142)的电流大小调整光斑的大小。3.如权利要求2所述的真空蒸镀机的坩埚系统，其特征在于，调整在X线圈(141)的左侧的Y线圈(142)的电流增大、并且调整在X线圈(141)的右侧的Y线圈(142)的电流减小，光斑向左移动；同理，调整在X线圈(141)的左侧的Y线圈(142)的电流减小、并且调整在X线圈(141)的右侧的Y线圈(142)的电流增大，光斑向右移动。4.如权利要求1所述的真空蒸镀机的坩埚系统，其特征在于，所述支座(11)的上部向前凸出于支座(11)的中部，支座(11)的上部和中部为梯形，支座(11)的下部为底座，支座(11)下部的尺寸大于支座(11)中部的尺寸，所述凹陷部(111)贯穿支座(11)的上部的中部，并且贯穿支座(11)的中部的前部，高压头(13)的下表面与凹陷部(111)的底面固定，灯丝(12)安装在高压头(13)的上端，灯丝(12)位于支座(11)的上部的凹陷部(111)内。5.如权利要求4所述的真空蒸镀机的坩埚系统，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：薛蒙晓，
申请(专利权)人：苏州佑伦真空设备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：