一种MOX@NH2-MOFs薄膜材料及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种MOX@NH2‑

【技术实现步骤摘要】
一种MOX@NH2‑
MOFs薄膜材料及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及功能材料科学领域和气敏传感材料领域，尤其是涉及一种MOX@NH2‑
MOFs薄膜材料及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]爆炸物在国防安全，太空应用，工程爆破都起了不可替代的作用，而同时，这些爆炸物爆炸时所带来的环境污染，恐怖分子用其制造的恐怖袭击等问题也一直受到整个社会的关注。TNT,DNT，TNP,RDX等是一类重要的制式硝基爆炸物，室温下的饱和蒸汽压非常低，如TNT是9ppb，DNT是180ppb，TNP是0.97ppb，RDX是4.9ppt，低蒸气压使很多技术和材料都难以实现室温下对其气氛实时在线高灵敏度检测。所以探究能高效快速检测出衡量硝基爆炸物的一些新材料非常重要。
[0003]基于金属氧化物的化学电阻型传感器，由于其价格便宜，工作寿命长，易批量制备等优点，使其在呼气诊断，智能家居，交通，空气质量检测等领域展现成广阔的应用前景。然而，工作温度高(＞200℃)和选择性差是制约MOX化学电阻型气敏传感器应用于上述领域的两大瓶本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种MOX@NH2‑
MOFs薄膜材料，其特征在于，NH2‑
MOFs均匀连续包覆在MOX薄膜上，NH2‑
MOFs的包覆率为100％。2.根据权利要求1所述的薄膜材料，其特征在于，所述MOX是具有明显的光催化活性的薄膜，包括纳米颗粒，纳米线阵列；例如，所述MOX为TiO2纳米线、ZnO和SnO2中的至少一种，优选为TiO2纳米线。3.根据权利要求1所述的薄膜材料，其特征在于，MOX材料的粒径为50
‑
300nm，长度为1
‑
4μm。4.根据权利要求1所述的薄膜材料，其特征在于，所述MOX@NH2‑
MOFs薄膜材料是均匀连续包覆的核鞘结构，NH2‑
MOFs具有可调节的带隙，所述NH2‑
MOFs的带隙为1.3
‑
3.2eV；所述MOX的带隙为3.0
‑
3.2eV。5.权利要求1
‑
4任一项所述的MOX@NH2‑
MOFs薄膜材料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：a.在不导电基底上制备MOX薄膜；b.采用籽晶协助溶剂热法在步骤a中的MOX薄膜外面封装NH2‑
MOFs材料，制备MOX@NH2‑
MOFs薄膜材料。6.权利要求5所述的MOX@NH2‑
MOFs薄膜材料的制备方法，其特征在于，步骤b中籽晶协助溶剂热法中温度100
‑
200℃，溶剂热时间为24
‑
96h,优选为72h。步骤b中封装方法为：采用旋涂，浸渍，提拉、原位生长方法中的一种，将NH2‑
M...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐刚，邓韦华，姚明水，
申请(专利权)人：中国科学院福建物质结构研究所，
类型：发明
国别省市：