一种4AA非对映异构体的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种4AA非对映异构体的制备方法。具体地，公开了一种化合物A5的制备方法，其包括以下步骤：溶剂中，在还原剂和路易斯酸的作用下，化合物A3进行还原反应，得化合物A5。本发明专利技术从商业化4AA出发，通过定向合成得到预定的非对映异构体，反应路线短，收率高。收率高。收率高。

【技术实现步骤摘要】
一种4AA非对映异构体的制备方法


[0001]本专利技术涉及一种4AA非对映异构体的制备方法。

技术介绍

[0002]4AA化学名为(3R,4R)
‑4‑
乙酸基
‑3‑
[(R)
‑
(叔丁基二甲基硅)氧基]‑2‑
氮杂环丁酮，是合成青霉烯和碳青霉烯抗生素母环的关键起始原料，主要用于合成各类培南类抗生素，如亚胺培南、比阿培南、美罗培南和法罗培南等，
[0003][0004]4‑
AA有三个手性中心和一个β
‑
内酰胺环，合成难度大，其合成过程中会产生多种非对映异构体，为了对4AA制备过程中进行质量控制，需要制备4AA的非对映异构体，并对4AA非对映异构体的制备和分析研究，对提高4AA制备的产率和纯度有着重要的作用，且对合成的4AA产品的品质把控有着至关重要的作用。

技术实现思路

[0005]为解决现有技术中4AA非对映异构体制备过程中异构体选择性较差、纯化困难、需要用到剧毒、杂质结构确认较难的问题，本专利技术提供了一种4AA非对映异构体(即本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种化合物A5的制备方法，其特征在于，其包括以下步骤：溶剂中，在还原剂和路易斯酸的作用下，化合物A3进行还原反应，得化合物A5；2.如权利要求1所述的化合物A5的制备方法，其特征在于，所述还原反应中，所述溶剂为1,4
‑
二氧六环、四氢呋喃、乙二醇二甲醚、甲基叔丁基醚、乙醚、氯仿和二氯甲烷中的一种或多种；例如四氢呋喃；和/或，所述还原反应中，所述溶剂与所述化合物A3的质量比为(5～20)：1；例如10：1；和/或，所述还原反应中，所述还原剂硼氢化钠、四氢铝锂和硼氢化钾中的一种或多种，例如硼氢化钠和/或四氢铝锂；较佳地，所述还原剂硼氢化钠；和/或，所述还原反应中，所述还原剂与所述化合物A3的质量比为1：(3～4)；例如1：3.75；和/或，所述还原反应中，所述路易斯酸为MgCl2和/或ZnCl2；较佳地，所述路易斯酸为MgCl2；和/或，所述还原反应中，所述路易斯酸与所述化合物A3的质量比为1：(0.01～0.5)；例如1：0.05；和/或，所述还原反应中，所述还原反应的温度为
‑
20～40℃；例如0～20℃；和/或，所述还原反应中，所述还原反应的时间为0.5～7小时；例如1或5小时；和/或，所述还原反应中，还包含以下后处理步骤：浓缩，萃取，浓缩。3.如权利要求1所述的化合物A5的制备方法，其特征在于，所述还原反应通过以下步骤进行：所述溶剂、所述路易斯酸和所述化合物A3混合后，在
‑
20～10℃(例如
‑
20～0或0～10℃)下加入所述还原剂，在0～20℃反应0.5～7h，得化合物A5。4.如权利要求1所述的化合物A5的制备方法，其特征在于，所述化合物A5的制备方法中，还进一步包含以下步骤：溶剂中，在氧化剂的作用下，化合物A2进行氧化反应，得化合物A3；5.如权利要求4所述的化合物A5的制备方法，其特征在于，所述氧化反应中，所述溶剂为1,4
‑
二氧六环、四氢呋喃、乙二醇二甲醚、甲基叔丁基醚、乙醚、氯仿和二氯甲烷中的一种或多种；例如二氯甲烷和/或四氢呋喃；和/或，所述氧化反应中，所述溶剂与所述化合物A2的质量比为1：(0.01～0.1)；例如，1：0.03；和/或，所述氧化反应中，所述氧化剂为戴斯
‑
马丁试剂、双氧水、次氯酸钠、高锰酸钾和
二氧化锰中的一种或多种；例如戴斯
‑
马丁试剂和/或次氯酸钠；当所述氧化剂为次氯酸钠时，还进一步添加2,2,6,6
‑
四甲基哌啶氧化物和溴化钾；较佳地，2,2,6,6
‑
四甲基哌啶氧化物与所述化合物A2的质量比为1：(20～40)；例如1：30；较佳地，溴化钾与所述化合物A2的质量比为1：(0.5～0.8)；例如1：0.6；和/或，所述氧化反应中，所述氧化剂与所述化合物A2的质量比1：(0.1～0.4)；例如1：0.12或1：0.25；和/或，所述氧化反应中，所述氧化反应的温度为
‑
10～40℃，例如30℃或35℃；和/或，所述氧化反应中，所述氧化反应的时间为2～8小时；和/或，所述氧化反应中，还包含以下后处理步骤：加入冰水，分液，浓缩有机相。6.如权利要求4所述的化合物A5的制...

【专利技术属性】
技术研发人员：申理滔，涂志波，朱婷婷，顾利民，王朝东，
申请(专利权)人：武汉中有药业有限公司，
类型：发明
国别省市：