一种靶材的防变形结构及具有防变形结构的离子镀膜靶材制造技术

本实用新型专利技术公开了一种靶材的防变形结构，此结构为在靶材的周向侧壁中开设有盲孔；盲孔的数量不少于2个，且均匀分布；一种具有防变形结构的离子镀膜靶材，此离子镀膜靶材呈圆形，其径向外侧壁中开设有盲孔；盲孔的数量为4组，每组之间间隔90度分布；盲孔呈阶梯状，沿离子镀膜靶材的半径方向分布，其包括大孔和小孔，大孔位于远离离子镀膜靶材的中心轴线一端；大孔的直径为2mm，而小孔的直径为1mm，二者同轴相通；本实用新型专利技术中通过在靶材的侧壁中开设盲孔，使得温差引起的变形能够有效得到补偿，能够有效提高镀膜的稳定性和一致性，并进一步提高靶材的利用率，并使得靶材在薄膜沉积过程中表面的电弧轨迹更加稳定。表面的电弧轨迹更加稳定。表面的电弧轨迹更加稳定。

【技术实现步骤摘要】
一种靶材的防变形结构及具有防变形结构的离子镀膜靶材


[0001]本技术涉及靶材结构强化
，尤其涉及一种靶材的防变形结构及具有防变形结构的离子镀膜靶材。

技术介绍

[0002]圆片形靶材是离子镀膜靶材的最常见的形状，在使用过程中通常采用靶背面水冷的方式，根据靶材的溅射功率调节水冷流量和流速，进而减少由于靶材变形对镀膜过程的影响。但是，由于在离子镀膜过程中，轰击粒子的能量大部分会转变成靶材表面的热能，而靶材表面的热量集聚非常迅速，在长时间镀膜过程中，容易引起靶材表面离子束刻蚀部位产生局部过热，在冷却后会导致靶材严重变形，甚至镀膜过程中也容易产生扭曲变形，这将导致离子镀膜过程中离子束会偏离预定的刻蚀轨迹，从而造成成品不合格；并且在生产过程中无法更换靶材，进一步导致良品率低，造成生产成本增加。

技术实现思路

[0003]本部分的目的在于概述本技术的实施例的一些方面以及简要介绍一些较佳实施例。在本部分以及本申请的说明书摘要和技术名称中可能会做些简化或省略以避免使本部分、说明书摘要和技术名称的目的模糊，而这种简化或省略不能用于限制本技术的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种靶材的防变形结构，其特征在于：包括，靶材（A），其周向侧壁中开设有盲孔（100）；所述盲孔（100）的数量不少于2个，且均匀分布；所述盲孔（100）的孔型规则，其朝向所述靶材（A）边缘侧壁的一端直径大于另一端的直径；所述盲孔（100）的中心轴线与所述靶材（A）底部的垂直距离为2mm。2.一种具有如权利要求1所述的防变形结构的离子镀膜靶材，其特征在于：离子镀膜靶材（200），其径向外侧壁中开设有所述盲孔（100）。3.根据权利要求2所述的具有防变形结构的离子镀膜靶材，其特征在于：所述盲孔（100）的数量为4组，每组之间间隔90度分布。4.根据权利要求3所述的具有防变形结构的离子镀膜靶材，其特征在于：所述盲孔（100）呈阶梯状，沿所述离子镀膜靶材（200）的半径方向分布...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵毅红，王锴，陈荣发，陈倩钰，王笃雄，周晓进，史敏杰，
申请(专利权)人：扬州大学，
类型：新型
国别省市：