一种高发光效率的电致发光阳极材料制造技术

本实用新型专利技术涉及一种高发光效率的电致发光阳极材料，包括柔性基底（0），其特征在于：在柔性基底（0）上，从下至上依次设有金属氧化物薄膜（1）、合金薄膜（2）、金属薄膜（3）、金属氧化物薄膜（4）。本实用新型专利技术优点：阳极材料总厚度≤110nm，镀膜时间缩短，Zn价格较In价格低廉，使得制造成本降低；本实用新型专利技术所述阳极材料在室温下即可达到比ITO薄膜更佳的光电性能，透光率可达88%，力学性能好，可以弯曲、变形、卷曲甚至完全折叠，机械耐久性好，反复弯折不会断裂且不会留下痕迹。且不会留下痕迹。且不会留下痕迹。

【技术实现步骤摘要】
一种高发光效率的电致发光阳极材料


[0001]本技术涉及柔性显示器件领域，具体涉及一种高发光效率的电致发光阳极材料。

技术介绍

[0002]现有电致发光显示器件阳极主要采用ITO薄膜，金属薄膜或金属氧化物薄膜等结构，且其厚度需要达到150nm以上才能实现较好的光电性能指标；上述阳极材料多采用价格较为昂贵的高纯In、Sn材料，致使制造成本高、镀膜时间长、加工温度高；且材料本身也存在着耐弯折性差、透光性低或者导电性不理想等问题。

技术实现思路

[0003]本技术的目的是为了弥补现有技术的不足，提供一种高发光效率的电致发光阳极材料；本技术所述的阳极材料在保障电致发光显示器件的整体结构及性能的前提下，成本更低。
[0004]为了实现上述目的，本技术采用的技术方案如下：
[0005]一种高发光效率的电致发光阳极材料，包括柔性基底（0），其特征在于：在柔性基底（0）上，从下至上依次设有金属氧化物薄膜一（1）、合金薄膜（2）、金属薄膜（3）、金属氧化物薄膜二（4）。
[0006]进一步，所述金属氧化物薄膜一（1）的厚度为20～50nm、合金薄膜（2）的厚度为0.1～2nm、金属薄膜（3）的厚度为3～11nm、金属氧化物薄膜二（4）的厚度为20～50nm。
[0007]进一步，所述柔性基底（0）为柔性超薄玻璃、高分子材料、金属箔或者塑料膜等；根据不同柔性基底，可选择不同的阳极材料，以满足阻隔水汽，防止氧化，增强耐候性并维持基底热稳定性等需求。
[0008]进一步，所述金属氧化物薄膜一（1）为ZnO、SnO2、BZO、AZO、GZO、IGZO、IZO、CTO、ZTO、ITO、FTO薄膜中的一种或多种的组合，其厚度为20、22、24、27、29、33、35、37、39、42、44、47、49或50nm。
[0009]进一步，所述合金薄膜（2）为NiCr、Cu、Ti、Al、Sn、Pb、Fe、Zn、Mg、Mo或In等金属薄膜或其任一种与Ag金属的合金薄膜，厚度为0.1、0.3、0.6、0.7、0.9、1.1、1.3、1.6、1.7、1.9或2nm。
[0010]进一步，所述（NiCr、Cu、Ti、Al、Sn、Pb、Fe、Zn、Mg、Mo或In等金属）：Ag金属的质量百分比为0.1%～3%：99.9～97%。
[0011]进一步，所述金属薄膜（3）为Ag薄膜，其厚度为3、3.7、4.2、5.3、6.1、6.7、7.3、7.5、8.3、8.9、9.3、9.7、10.3、10.6或11nm，提高整体阳极材料的导电性。
[0012]进一步，所述金属氧化物薄膜二（4）为BZO、AZO、GZO、IGZO、IZO、CTO、ZTO、FTO薄膜中的一种或多种，其厚度为20、24、27、33、36、41、44、47、49或50nm。
[0013]本技术中金属氧化物薄膜+金属薄膜+金属氧化物薄膜的结构电学性能优异，
同时具有增透作用，透光率较高可达88%。
[0014]本技术所述的复合膜层结构中，合金薄膜（2）的存在，主要起到以下作用：1.可作为种子层，促进金属薄膜（3）中Ag薄膜尽早连续成膜，避免Ag薄膜形成岛状不连续薄膜，对金属薄膜的生长和光学特性的提高都有利；2.起到保护作用，将金属氧化物薄膜一（1）与金属薄膜（3）隔离开，避免金属膜（3）被金属氧化物薄膜一（1）氧化，影响导电性；3.金属薄膜（3）中Ag薄膜稳定性提高，变得耐氧化，不会被金属氧化物薄膜二（4）氧化。
[0015]本技术的有益效果：
[0016]1.本技术制备的阳极材料总厚度≤110nm，镀膜时间缩短，Zn价格较In价格低廉，这些都使得制造成本降低；更重要的是，阳极厚度减小可以提高光的取出效率，减少光损失（透光率可达88%）；
[0017]2.ITO要求的加工温度与部分柔性基板不兼容，而本技术制得的阳极材料在室温下即可达到比ITO薄膜更佳的光电性能；
[0018]3.本技术制得的阳极材料力学性能好，可以弯曲、变形、卷曲甚至完全折叠，机械耐久性好，反复弯折不会断裂且不会留下痕迹；
[0019]4. 本技术制得的阳极材料中，如AZO（功函数5.2 eV）比ITO（功函数4.5～4.8 eV）更接近空穴传输材料的HOMO能级（5～6 eV），更适宜空穴注入，降低驱动电压，提高发光效率。
附图说明
[0020]图1是本专利技术的结构示意图；
[0021]图2是本专利技术实施例1阳极的透光图谱；
[0022]图3是本专利技术实施例2阳极的透光图谱；
[0023]图4是本专利技术实施例3阳极的透光图谱。
具体实施方式
[0024]结合图1，一种高发光效率的电致发光阳极材料，包括柔性基底0，在柔性基底0上，从下至上依次设有厚度为20～50nm的金属氧化物薄膜一1、厚度为0.1～2nm的合金薄膜2、厚度为3～11nm的金属薄膜3、厚度为20～50nm的金属氧化物薄膜二4。
[0025]实施例1
[0026]一种高发光效率的电致发光阳极材料，包括柔性PET基底0，在柔性PET基底0上，从下至上依次设有厚度为42nm的AZO薄膜1、厚度为1nm的Cu金属与Ag金属的合金薄膜（Cu：Ag质量百分比为1%：99%）2、厚度为9nm的Ag薄膜3、厚度为42nm的AZO薄膜4。
[0027]制备得到的阳极材料样片，方阻为6.3欧姆，透光率为88%，对其进行弯曲，扭折实验后与ITO薄膜对比，透光图谱如图2所示。
[0028]实施例2
[0029]一种高发光效率的电致发光阳极材料，包括柔性超薄玻璃基底0，在柔性超薄玻璃基底0上，从下至上依次设有厚度为45nm的GZO薄膜1、厚度为1nm的Ti金属薄膜2、厚度为10nm的Ag薄膜3、厚度为45nm的GZO薄膜4。
[0030]制备得到的阳极材料方阻为5.9欧姆，透光率为85.6%，透光图谱如图3所示。
[0031]实施例3
[0032]一种高发光效率的电致发光阳极材料，包括柔性金属箔基底0，在柔性金属箔基底0上，从下至上依次设有厚度为40nm的ZnO薄膜1、厚度为1.5nm的Mg金属与Ag金属的合金薄膜（Mg：Ag质量百分比为0.5%：99.5%）2、厚度为9nm的Ag薄膜3、厚度为43nm的AZO薄膜4。
[0033]制备得到的阳极材料方阻为7.6欧姆，透光率为85.4%，透光图谱如图4所示。
[0034]以上所述，仅是本专利技术的较佳实施例而已，并非对本专利技术作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本专利技术技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和
技术实现思路
对本专利技术技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本专利技术技术方案的内容，依据本专利技术的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本专利技术技术方案保护的范围内。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高发光效率的电致发光阳极材料，包括柔性基底（0），其特征在于：在柔性基底（0）上，从下至上依次设有金属氧化物薄膜一（1）、合金薄膜（2）、金属薄膜（3）、金属氧化物薄膜二（4）；其中所述金属氧化物薄膜一（1）的厚度为20～50nm、合金薄膜（2）的厚度为0.1～2nm、金属薄膜（3）的厚度为3～11nm、金属氧化物薄膜二（4）的厚度为20～50nm；金属氧化物薄膜一（1）、金属氧化物薄膜二（4）均为FTO薄膜。2.根据权利要求1所述一种高发光效率的电致发光阳极材料，其特征在于：所述柔性基底（0）为柔性超薄玻璃、高分子材料、金属箔或者塑料膜。3.根据权利要求1所述一种高发...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚婷婷，沈洪雪，李刚，王天齐，彭赛奥，杨扬，金克武，徐佳馨，王金磊，苏文静，甘治平，
申请(专利权)人：中建材玻璃新材料研究院集团有限公司，
类型：新型
国别省市：