一种减少单色MicroOLED反射的薄膜封装结构及器件结构制造技术

本实用新型专利技术公开了一种减少单色Micro OLED反射的薄膜封装结构及器件结构，所述薄膜封装结构由下至上依次包括：第一无机封装薄膜层、第二无机封装薄膜层、由无机封装薄膜层一与无机封装薄膜层二交替排列形成的堆叠薄膜层；所述无机封装薄膜层一的折射率大于无机封装薄膜层二的折射率；通过在第二无机封装薄膜层之上设置由高折射率的无机封装薄膜层一与低折射率的无机封装薄膜层二交替排列形成的堆叠薄膜层，进而形成光学薄膜封装结构，该结构应用于绿光Micro OLED器件后可减少510nm~540nm波长范围内绿光的反射，提高510nm~540nm波长范围内的绿光的透过率。波长范围内的绿光的透过率。波长范围内的绿光的透过率。

A thin film packaging structure and device structure for reducing the reflection of monochromatic micro OLED

【技术实现步骤摘要】
一种减少单色Micro OLED反射的薄膜封装结构及器件结构


[0001]本技术属于半导体
，具体涉及一种减少单色Micro OLED反射的薄膜封装结构及器件结构。

技术介绍

[0002]随着科技的进步与科技的发展，人们在追求显示效果的体验上也有着更高的需求，加之穿戴配套显示设备使其物理意义上的方法路径可行，5G时代的到来会解决数据量传输的问题，因此近年来Micro OLED(Organic Light Emitting Display)被称为下一代显示技术的黑马，现已广泛应用于机戴头盔、枪瞄、夜视仪等军用市场，并且随着AR/VR以及自动驾驶等新技术的应用，Micro OLED微显示器将迎来爆发式的增长。
[0003]对于现阶段的量产工艺方法，具有高亮度特征的往往是单色Micro OLED显示器。针对于改显示器，如果不做任何处理，由于某些应用场景下有环境光的影响，会导致整体显示效果变差，如图3所示。衡量Micro OLED受环境光影响的指标即为产品的反射率，反射率越高说明其受环境光影响的程度越大，显示效果越差；反射率越低说明其受环境光影响的程度越小，显示效果越好。
[0004]如图3所示，由于Micro OLED的阳极必须采用高反射率材料，如果不做处理，反射率可高达35％，严重影响到显示效果。现在常用的方法有两种。图4所示是采用贴合偏光片的方式，该方式虽然能有效降低反射率，但由于偏光片材料的限制，会损失至少50％的亮度；图5是采用绿色滤光片的方式，该方式的缺点是，损失约20％的亮度，除此之外，引入了至少两次湿法图形化工艺，对产品的可靠性有一定的负面影响。

技术实现思路

[0005]为解决上述技术问题，本技术提供了一种减少单色Micro OLED反射的光学薄膜封装结构；该结构可减少510nm～540nm波长范围内的绿光的反射，提高510nm～540nm波长范围内的绿光的透过率。
[0006]本技术还提供了一种减少单色Micro OLED反射的器件结构，该器件结构中以本技术中的光学薄膜封装结构为封装薄膜，从而实现减少Micro OLED器件反射的效果。
[0007]为实现上述目的，本技术采取的技术方案为：
[0008]一种减少单色Micro OLED反射的光学薄膜封装结构，所述光学薄膜封装结构由下至上依次包括：第一无机封装薄膜层、第二无机封装薄膜层、由无机封装薄膜层一与无机封装薄膜层二交替排列形成的堆叠薄膜层；所述无机封装薄膜层一的折射率大于无机封装薄膜层二的折射率。
[0009]所述堆叠薄膜层中，无机封装薄膜层一的层数≥2层，所述无机封装薄膜层二的层数≥1层。
[0010]所述无机封装薄膜层一的折射率≥2.2；所述无机封装薄膜层二的折射率≤1.7。
[0011]所述堆叠薄膜层中，无机封装薄膜层一的层数为3层，所述无机封装薄膜层二的层数为2层。即所述堆叠薄膜层由下至上依次包括：第一无机封装薄膜层一、第一无机封装薄膜层二、第二无机封装薄膜层一、第二无机封装薄膜层二、第三无机封装薄膜层一。
[0012]第一层无机封装薄膜层一及第三层无机封装薄膜层一的厚度均为30
‑
60nm，优选为55nm；第二层无机封装薄膜层一的厚度为80
‑
130nm，优选为110nm；第一层无机封装薄膜层二及第二层无机封装薄膜层二的厚度均为50
‑
150nm，优选为90nm。即第一无机封装薄膜层一及第三无机封装薄膜层一的厚度均为30
‑
60nm，优选为55nm；第二无机封装薄膜层一的厚度为80
‑
130nm，优选为110nm；第一无机封装薄膜层二及第二无机封装薄膜层二的厚度均为50
‑
150nm，优选为90nm。
[0013]所述第一无机封装薄膜层的材料为氧化铝、氮化硅、氧化硅、氮氧化硅中的任意一种或多种。
[0014]所述第二无机封装薄膜层的材料为氮化硅、氧化硅、氮氧化硅中的任意一种或多种。
[0015]所述无机封装薄膜层一的材料为氧化钛、氧化铪、氮化硅中的任意一种或多种。
[0016]所述无机封装薄膜层二的材料为氧化硅、氟化锂、氟化钙中的任意一种或多种。
[0017]本技术提供的一种减少单色Micro OLED反射的器件结构，所述器件结构由下之上依次包括：基板、发光器件、所述的光学薄膜封装结构、盖板。
[0018]所述发光器件中的发光材料为绿色发光材料。
[0019]本技术提供的一种减少单色Micro OLED反射的光学薄膜封装结构中，通过在第二无机封装薄膜层之上设置由高折射率的无机封装薄膜层一与低折射率的无机封装薄膜层二交替排列形成的堆叠薄膜层，进而形成光学薄膜封装结构，该结构应用于绿光Micro OLED器件后可减少510nm～540nm波长范围内绿光的反射，提高510nm～540nm波长范围内的绿光的透过率。
附图说明
[0020]图1为实施例1中的光学薄膜封装结构的示意图；
[0021]图2为实施例2中的Micro OLED器件的结构示意图；
[0022]图3为对比例1中的Micro OLED器件的结构示意图；
[0023]图4为对比例2中的Micro OLED器件的结构示意图；
[0024]图5为对比例3中的Micro OLED器件的结构示意图；
[0025]图6为实施例2中的Micro OLED器件在390
‑
780nm之间的透过率及反射率示意图；
[0026]其中，1
‑
基板、2
‑
发光器件、3
‑
光学薄膜封装结构、31
‑
第一无机封装薄膜层、32
‑
第二无机封装薄膜层、33
‑
由无机封装薄膜层一与无机封装薄膜层二交替排列形成的堆叠薄膜层、3311
‑
第一无机封装薄膜层一、3321
‑
第一无机封装薄膜层二、3312
‑
第二无机封装薄膜层一、3322
‑
第二无机封装薄膜层二、3313
‑
第三无机封装薄膜层一、4
‑
玻璃盖板、5
‑
偏光片、6
‑
绿色滤光片。
具体实施方式
[0027]一种减少单色Micro OLED反射的光学薄膜封装结构，所述光学薄膜封装结构由下
至上依次包括：第一无机封装薄膜层31、第二无机封装薄膜层32、由无机封装薄膜层一与无机封装薄膜层二交替排列形成的堆叠薄膜层33；所述无机封装薄膜层一的折射率大于无机封装薄膜层二的折射率。
[0028]所述堆叠薄膜层中，无机封装薄膜层一的层数≥2层，所述无机封装薄膜层二的层数≥1层。
[0029]所述无机封装薄膜层一的折射率≥2.2；所述无机封装薄膜层二的折射率≤本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种减少单色Micro OLED反射的薄膜封装结构，其特征在于，所述薄膜封装结构由下至上依次包括：第一无机封装薄膜层、第二无机封装薄膜层、由无机封装薄膜层一与无机封装薄膜层二交替排列形成的堆叠薄膜层；所述无机封装薄膜层一的折射率大于无机封装薄膜层二的折射率。2.根据权利要求1所述的减少单色Micro OLED反射的薄膜封装结构，其特征在于，所述堆叠薄膜层中，无机封装薄膜层一的层数≥2层，所述无机封装薄膜层二的层数≥1层。3.根据权利要求1所述的减少单色Micro OLED反射的薄膜封装结构，其特征在于，所述无机封装薄膜层一的折射率≥2.2；所述无机封装薄膜层二的折射率≤1.7。4.根据权利要求1
‑
3任意一项所述的减少单色Micro OLED反射的薄膜封装结构，其特征在于，所述堆叠薄膜层中，无机封装薄膜层一的层数为3层，所述无机封装薄膜层二的层数为2层。5.根据权利要求4所述的...

【专利技术属性】
技术研发人员：李雪原，朱平，李维维，赵铮涛，
申请(专利权)人：安徽熙泰智能科技有限公司，
类型：新型
国别省市：