一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置，包括低位储槽，低位储槽内设有循环泵，循环泵通过输液管连接于高位储槽，高位储槽还通过溢流管连接于低位储槽，高位储槽通过辅助给液管路连接脱铜槽，低位储槽通过主给液管路连接于脱铜槽，主给液中铜离子浓度低，辅助给液中铜离子浓度高，该种装置大大提高了砷的脱除率，降低了电解液净化成本，铜和砷的比例容易控制，对操作人员素质要求不高，容易操作。容易操作。容易操作。

【技术实现步骤摘要】
一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置


[0001]本技术涉及铜电解
，具体为一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置。

技术介绍

[0002]目前国内铜冶金企业在电解铜的生产中净化电解液的方法大多是运用诱导法来脱除电解液中的砷、锑、铋，砷的脱除率在60
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85％之间，在实际生产中由于铜砷比失调，造成脱砷槽内脱砷率只有30
‑
50％，只有将铜和砷的比例控制在1.7
‑
3:1,同时铜离子浓度还不能高于8g/l，才能最大效率将砷从电解液中脱除。采用诱导法脱砷，主给液和辅助给液采用的是同一种溶液，辅助给液溶液中本身含有砷离子，使脱砷槽内铜和砷的比例失调，造成脱砷率低，增加了净化电解液成本。

技术实现思路

[0003]本技术的目的在于提供一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置，包括低位储槽，所述低位储槽内设有循环泵，所述循环泵通过输液管连接于高位储槽，所述高位储槽还通过溢流管连接于低位储槽，所述高位储槽通过辅助给液管路连接脱铜槽，所述低位储槽通过主给液管路连接于脱铜槽，主给液中铜离子浓度低，辅助给液中铜离子浓度高。
[0005]进一步的，所述辅助给液管路和主给液管路上均设有阀门。
[0006]进一步的，所述主给液为低位储槽内部经过一段、二段脱铜后的溶液。
[0007]进一步的，所述低位储槽和高位储槽均使用不锈钢材质，主给液管路和辅助给液管路均使用CPVC材质。
[0008]进一步的，所述低位储槽上还设有注液管路，所述注液管路上设有开关阀。
[0009]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0010]该种装置大大提高了砷的脱除率，降低了电解液净化成本，铜和砷的比例容易控制，对操作人员素质要求不高，容易操作。
附图说明
[0011]图1是本技术的工艺示意图。
[0012]附图标记中：1、低位储槽；2、循环泵；3、输液管；4、高位储槽；5、溢流管；6、辅助给液管路；7、脱铜槽；8、主给液管路；9、阀门；10、注液管路。
具体实施方式
[0013]下面结合附图和实施例，对本技术进一步详细说明。其中相同的零部件用相
同的附图标记表示。需要说明的是，下面描述中使用的词语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”和“下”指的是附图中的方向，词语“底部”和“顶部”、“内”和“外”分别指的是朝向或远离特定部件几何中心的方向。
[0014]请参阅图1，本技术提供一种技术方案：一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置，包括低位储槽1，低位储槽1内设有循环泵2，循环泵2通过输液管3连接于高位储槽4，高位储槽4还通过溢流管5连接于低位储槽1，高位储槽4通过辅助给液管路6连接脱铜槽7，低位储槽1通过主给液管路8连接于脱铜槽7，主给液中铜离子浓度低，辅助给液中铜离子浓度高。
[0015]辅助给液管路6和主给液管路8上均设有阀门9，用于控制辅助给液管路6和主给液管路8的出液量。
[0016]主给液为低位储槽1内部经过一段、二段脱铜后的溶液。
[0017]低位储槽1和高位储槽4均使用不锈钢材质，主给液管路8和辅助给液管路6均使用CPVC材质。
[0018]低位储槽1上还设有注液管路10，注液管路10上设有开关阀，便于将电解原液注满低位储槽1。
[0019]工作原理：该种装置在使用时，首先打开低位储槽1的注液管路10上的开关阀，将电解原液注满低位储槽1，开启低位储槽循环泵2，将电解原液打入高位储槽4，打开辅助给液管路6上的阀门9，使电解液小流量流入脱铜槽7中，通过化验后调节辅助给液管路6的阀门9，将脱铜槽7中铜离子浓度控制在2
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5g/l即可达到预期脱砷效果。
[0020]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置，其特征在于：包括低位储槽(1)，所述低位储槽(1)内设有循环泵(2)，所述循环泵(2)通过输液管(3)连接于高位储槽(4)，所述高位储槽(4)还通过溢流管(5)连接于低位储槽(1)，所述高位储槽(4)通过辅助给液管路(6)连接脱铜槽(7)，所述低位储槽(1)通过主给液管路(8)连接于脱铜槽(7)，主给液中铜离子浓度低，辅助给液中铜离子浓度高。2.根据权利要求1所述的一种诱导脱铜工艺中提高砷的脱除率的装置，其特征在于：所述辅助给液管路(6)和主给液管路(8)...

【专利技术属性】
技术研发人员：柴胜利，武军龙，高红霞，候伟，武二龙，
申请(专利权)人：山西北方铜业有限公司，
类型：新型
国别省市：