压电石英晶片的超声波清洗设备制造技术

本发明专利技术涉及压电石英晶片的超声波清洗设备，包括清洗室和烘干室，所述清洗室内部包括清洗腔和排水腔，所述清洗腔内侧壁上设有用于产生超声波以对清洗液进行作用进而对零件进行作用的超声波发生器，所述排水腔内部设置有用于过滤清洗液内部杂质、便于拆卸的过滤网，所述烘干室包括烘干腔和控制室，所述烘干腔位于控制室底部，所述控制室内部设有控制设备所有电器运作的控制器，所述烘干腔内侧壁上设有加热板，所述烘干腔内部设有抽取烘干室内部灰尘的除尘装置，本发明专利技术包括清洗室和烘干室，清洗结束后立刻进行烘干，减少运输过程中造成二次污染。次污染。次污染。

【技术实现步骤摘要】
压电石英晶片的超声波清洗设备


[0001]本专利技术属于超声波清洗设备
，具体涉及压电石英晶片的超声波清洗设备。

技术介绍

[0002]在对压电石英晶片进行生产加工的时候，需要对其进行清洗，以便于后续对其进行镀膜。
[0003]现有的压电石英晶片的超声波清洗设备仅限于清洗，结束后需要到另外的烘干设备上去进行烘干，中间很容易产生二次污染。

技术实现思路

[0004]针对
技术介绍
中现有的压电石英晶片的超声波清洗设备仅限于清洗，结束后需要到另外的烘干设备上去进行烘干，中间很容易产生二次污染的问题，本申请提供一种压电石英晶片的超声波清洗设备，包括清洗室和烘干室，清洗结束后立刻进行烘干，减少运输过程中造成二次污染。
[0005]本专利技术解决其技术问题采用的技术方案如下：
[0006]压电石英晶片的超声波清洗设备，包括清洗室和烘干室，所述清洗室内部包括清洗腔和排水腔，所述排水腔位于清洗腔底部，所述清洗腔内部放置有清洗液，所述清洗室设置在烘干室左侧，所述清洗室远离烘干室的侧壁上端开设有与清洗室连通的入口，所述烘干室远离清洗室的侧壁上端开设有与烘干室连通、与入口相对应的出口，所述清洗室与烘干室连接处的侧壁上开设有连通烘干室与清洗室、与入口和出口相对应的连通口；
[0007]所述清洗室左侧设有第一支撑架，所述第一支撑架顶端与入口相对应，所述烘干室右端设有第二支撑架，所述第二支撑架顶端与出口相对应，所述清洗室和烘干室内设置有连通第一支撑架、清洗室、烘干室以及第二支撑架的传送带，所述传送带穿过入口、连通口和出口，所述传送带的至少一部分浸入清洗液中；
[0008]所述清洗腔内侧壁上设有用于产生超声波以对清洗液进行作用进而对零件进行作用的超声波发生器，所述排水腔内部设置有用于过滤清洗液内部杂质、便于拆卸的过滤网；
[0009]所述烘干室包括烘干腔和控制室，所述烘干腔位于控制室底部，所述控制室内部设有控制设备所有电器运作的控制器，所述烘干腔内侧壁上设有加热板，所述烘干腔内部设有抽取烘干室内部灰尘的除尘装置。
[0010]进一步的，所述排水腔两端内侧壁上设有固定块，所述固定块远离排水腔内侧壁的一端设有与过滤网相配合的凹槽，所述过滤网两端放置在凹槽中，所述固定块与过滤网通过螺栓固定连接。
[0011]进一步的，所述清洗室侧壁上开设有若干个连通排水腔与外界的排水口，所述排水口上设有与排水口相配合的防水塞。
[0012]进一步的，所述除尘装置包括过滤箱，所述过滤箱放置在烘干腔内部底端，所述过滤箱两端均设有与过滤箱内部连通的管道，所述过滤箱左侧设有连通管道的抽吸泵，所述管道左侧远离抽吸泵的一端通过若干个固定板固定在烘干腔内壁左侧壁上，所述左侧管道设有若干个与管道连通的抽风口，所述烘干腔外侧壁设有与右侧管道连通的出风口
[0013]进一步的，所述烘干腔内部两端侧壁顶端设有干燥盒，所述干燥盒内部装有100
‑
200目的硅胶。
[0014]进一步的，所述清洗室与烘干室底部设有若干个支撑脚，所述支撑脚与第一支撑架和第二支撑架底端处于同一平面上，所述支撑脚底部设有缓冲层。
[0015]本专利技术的有益效果是：采用上述方案，将需要清洗的压电石英晶片放置在传送带上，通过传送带的运行，压电石英晶片通过第一支撑架，从入口进入到清洗腔中，随着传送带浸泡在清洗液中，超声波发生器对压电石英晶片进行清洗，清洗结束后，压电石英晶片随着传送带通过连通口进入到烘干腔内，加热板放置在传送带下方，对传送带上的压电石英晶片进行烘干干燥，最后通过出口到第二支撑架上方，传送出去；减少烘干室内部灰尘，防止干燥后因烘干室内部灰尘过多造成二次污染。
附图说明
[0016]通过下面结合附图的详细描述，本专利技术前述的和其他的目的、特征和优点将变得显而易见。
[0017]图1为本专利技术内部结构示意图；
[0018]图2为本专利技术结构示意图；
[0019]图3为本专利技术除尘装置结构示意图；
[0020]图4为本专利技术过滤网结构示意图。
[0021]其中：1、清洗室；2、烘干室；3、清洗腔；4、排水腔；5、超声波发生器； 6、入口；7、出口；8、连通口；9、第一支撑架；10、第二支撑架；11、传送带；12、烘干腔；13、控制室；1301、控制器；14、加热板；15、除尘装置； 1501、过滤箱；1502、管道；1503、抽吸泵；1504、固定板；1505、抽风口； 1506、出风口；16、过滤网；1601、固定块；1602、凹槽；1603、螺栓；1604、排水口；1605、防水塞；17、干燥盒；18、支撑脚；1801、缓冲层。
具体实施方式
[0022]下面结合附图对本专利技术做进一步说明。
[0023]实施例1，参照图1，本专利技术包括清洗室1和烘干室2，清洗室1内部包括清洗腔3和排水腔4，排水腔4位于清洗腔3底部，清洗腔3内侧壁上设有用于产生超声波以对清洗液进行作用进而对零件进行作用的超声波发生器5，清洗腔3内部放置有清洗液，清洗室1设置在烘干室2左侧，清洗室1远离烘干室2的侧壁上端开设有与清洗室1连通的入口6，烘干室2远离清洗室1的侧壁上端开设有与烘干室2连通、与入口6相对应的出口7，清洗室1与烘干室2连接处的侧壁上开设有连通烘干室2与清洗室1、与入口6和出口7相对应的连通口8，清洗室1左侧设有第一支撑架9，第一支撑架9顶端与入口6相对应，烘干室2右端设有第二支撑架10，第二支撑架10顶端与出口7相对应，清洗室1 和烘干室2内设置有连通第一支撑架9、清洗室1、烘干室2以及第二支撑架10 的传送带11，传送带11穿过入口6、连通口8和出口7，传送带
11的至少一部分浸入清洗液中，烘干室2包括烘干腔12和控制室13，烘干腔12位于控制室 13底部，控制室13内部设有控制设备所有电器运作的控制器1301，烘干腔12 内侧壁上设有加热板14，将需要清洗的压电石英晶片放置在传送带11上，通过传送带11的运行，压电石英晶片通过第一支撑架9，从入口6进入到清洗腔3 中，随着传送带11浸泡在清洗液中，超声波发生器5对压电石英晶片进行清洗，清洗结束后，压电石英晶片随着传送带11通过连通口8进入到烘干腔12内，加热板14放置在传送带11下方，对传送带11上的压电石英晶片进行烘干干燥，最后通过出口7到第二支撑架10上方，传送出去；
[0024]参照图1和图3，烘干腔12内部设有抽取烘干室内部灰尘的除尘装置15，除尘装置15包括过滤箱1501，过滤箱1501放置在烘干腔12内部底端，过滤箱 1501两端均设有与过滤箱1501内部连通的管道1502，过滤箱1501左侧设有连通管道1502的抽吸泵1503，管道1502左侧远离抽吸泵1503的一端通过若干个固定板1504固定在烘干腔12内壁左侧壁上，左侧管道1502设有若干个与管道 1502连通的抽风口1505，烘干腔12外侧壁设有与右侧管道1502连通的出风口 1506，抽吸泵1503将烘干室中的灰尘和空气通过抽本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.压电石英晶片的超声波清洗设备，包括清洗室和烘干室，其特征在于：所述清洗室内部包括清洗腔和排水腔，所述排水腔位于清洗腔底部，所述清洗腔内部放置有清洗液，所述清洗室设置在烘干室左侧，所述清洗室远离烘干室的侧壁上端开设有与清洗室连通的入口，所述烘干室远离清洗室的侧壁上端开设有与烘干室连通、与入口相对应的出口，所述清洗室与烘干室连接处的侧壁上开设有连通烘干室与清洗室、与入口和出口相对应的连通口；所述清洗室左侧设有第一支撑架，所述第一支撑架顶端与入口相对应，所述烘干室右端设有第二支撑架，所述第二支撑架顶端与出口相对应，所述清洗室和烘干室内设置有连通第一支撑架、清洗室、烘干室以及第二支撑架的传送带，所述传送带穿过入口、连通口和出口，所述传送带的至少一部分浸入清洗液中；所述清洗腔内侧壁上设有用于产生超声波以对清洗液进行作用进而对零件进行作用的超声波发生器，所述排水腔内部设置有用于过滤清洗液内部杂质、便于拆卸的过滤网；所述烘干室包括烘干腔和控制室，所述烘干腔位于控制室底部，所述控制室内部设有控制设备所有电器运作的控制器，所述烘干腔内侧壁上设有加热板，所述烘干腔内部设有抽取烘干室内部灰尘的除尘装置。2.根据权利要求1所述的压电石英晶片的超声波清洗设备，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁斐，
申请(专利权)人：常州运达新科技研发有限公司，
类型：发明
国别省市：