用于清洁喷头的系统和方法技术方案

描述了用于清洁喷头的系统和方法。所述系统中的一种系统包含支撑部和位于支撑部上方将由所述支撑部支撑的压板。该系统还包含位于压板上方的清洁层。清洁层移动以清洁喷头。支撑部接触心轴组件的臂，以随着臂移动而移动。以随着臂移动而移动。以随着臂移动而移动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于清洁喷头的系统和方法


[0001]本公开中所述的实施方案涉及用于清洁喷头的系统和方法。

技术介绍

[0002]这里提供的背景描述是为了总体呈现本公开的背景的目的。当前指定的专利技术人的工作在其在此
技术介绍
部分以及在提交申请时不能确定为现有技术的说明书的各方面中描述的范围内既不明确也不暗示地承认是针对本公开的现有技术。
[0003]在等离子体工具中，一或多个射频(RF)产生器耦合至阻抗匹配网络。阻抗匹配网络耦合至等离子体室。RF信号从RF产生器供给至阻抗匹配网络。在接收到RF信号时，阻抗匹配网络将RF信号输出至等离子体室。此外，多种处理气体通过等离子体室的喷头而供给至等离子体室内的间隙。当RF信号从阻抗匹配电路供给至等离子体室且供给处理气体时，在等离子体室内处理晶片。
[0004]在等离子体室中处理一或多个晶片持续一定时间量之后，不希望的材料沉积在喷头的表面上。如果不清洁喷头，则不希望的材料将更进一步累积于喷头上且累积物会在处理晶片时不利地影响效率。此外，用于移除累积物的某些清洁处理需要太长的时间或无法有效地移除不希望的材料。本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种清洁组件，其包含：支撑部，其具有底侧和上侧，其中所述底侧连接至等离子体处理工具的臂，其中所述臂被配置成在真空下的所述等离子体处理工具中处理所述清洁组件的移动；压板，其通过压缩接口而耦合至所述支撑部的所述上侧；清洁层，其设置于所述压板上方，所述清洁层包含多个柱，其中所述臂被配置成将所述清洁层移动至所述等离子体处理工具内的表面上，以使位于所述表面上的颗粒离开所述表面并且迁移到所述清洁层上。2.根据权利要求1所述的清洁组件，其中所述压缩接口包含多个弹簧，所述多个弹簧在所述臂将所述清洁层移动至所述表面上时为所述表面提供缓冲。3.根据权利要求1所述的清洁组件，其中所述支撑部的所述底侧包含多个突出部以在所述臂移动所述清洁组件时能实现与所述臂的所述连接。4.根据权利要求1所述的清洁组件，其还包含：缓冲层，其被设置于所述压板与所述清洁层之间以在所述臂将所述清洁层压靠至所述等离子体处理工具内的所述表面上时提供额外程度的压缩吸收。5.根据权利要求1所述的清洁组件，其中所述清洁层由聚酰亚胺材料形成，所述聚酰亚胺材料被制造以限定所述多个柱。6.根据权利要求1所述的清洁组件，其中所述多个柱以微结构图案排列，所述微结构图案包含所述多个柱的上接触表面和不接触的下表面。7.根据权利要求6所述的清洁组件，其中所述臂所造成的移动使所述上接触表面接近或接触所述表面，以将所述颗粒从所述表面吸引至所述多个柱中的一或多者上，且其中所述颗粒中的一些朝向所述不接触的下表面迁移。8.根据权利要求6所述的清洁组件，其中所述臂所造成的移动使所述上接触表面与所述表面周期性接触，以将所述颗粒从所述表面吸引至所述多个柱中的一或多者上，且其中所述颗粒中的一些朝向所述不接触的下表面迁移。9.根据权利要求6所述的清洁组件，其中所述臂所造成的移动使所述上接触表面与所述表面接触且沿着所述表面呈水平接触滑动，且重复所述接触和沿着所述表面的所述呈水平接触滑动，以将所述颗粒从所述表面吸引至所述多个柱中的一或多者上。10.根据权利要求6所述的清洁组件，其中所述臂所造成的移动使所述上接触表面与所述表面接触且沿着所述表面以前后移动方式呈水平接触滑动，使所述颗粒从所述表面被移除至所述多个柱中的一或多者上。11....

【专利技术属性】
技术研发人员：埃里克，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：