气敏材料及制备方法和其在NH3气敏传感器中的应用技术

技术编号:33789555 阅读:10 留言:0更新日期:2022-06-12 14:45
本发明专利技术提供一种基于MoO3@MoS2/PTH的复合材料、制备方法和在氨气气体气敏传感器的应用,涉及气体检测领域,其中,MoO3@MoS2占MoO3@MoS2/PTH质量分数的20%;其工作温度为室温,对50ppm的氨气气体灵敏度达到1.4;制备方法如下:首先通过水热法制备出花状MoO3,以MoO3为前驱体制备出MoO3@MoS2,然后通过原位聚合法制备出MoO3@MoS2/PTH气敏材料;将MoO3@MoS2/PTH材料涂覆于金电极包覆的Al2O3陶瓷管表面制成气敏元件。本发明专利技术利用原位聚合法制备的MoO3@MoS2/PTH的气敏材料对氨气具有较高的灵敏度,较快的响应时间和恢复时间。较快的响应时间和恢复时间。较快的响应时间和恢复时间。

【技术实现步骤摘要】
气敏材料及制备方法和其在NH3气敏传感器中的应用


[0001]本专利技术涉及功能纳米材料制备
,还涉及气体传感器检测
,具体涉及一种气敏材料,制备方法及其在气体传感器中的应用。

技术介绍

[0002]近年来,现代工业的快速发展,环境和生态问题越来越受到人们的重视,环境的保护和有害物质的监控成为了当务之急,而空气污染与人类的身体健康息息相关,越来越需要检测有害气体。氨气是日常生活中很常见的气体,既是许多化工产品的原料,也是许多化工产品的排泄废气,当氨气的指标浓度超过一定范围时,会对我们的身体造成损害,因此,我们需要监控氨气浓度来保证产品质量和环境安全。
[0003]现在世面上有许多种类的化学电阻传感器,以金属半导体为敏感材料的传感器类居多,半导体类传感器的灵敏度高,但是使用温度高,气体选择性差,所以迫切需要新型的电阻传感器,提高传感器的适用性和选择性。导电聚合物中的聚噻吩因为其容易聚合,高的电导率,好的热稳定性和环境稳定性等优点,被认为是一种极具有前途的传感材料,聚噻吩和无机组分之间的协同作用或互补作用,对提高元器件的气敏性能具有重要意义。
[0004]近些年来,新型二维材料发展迅速,其中MoS2具有导电性好、吸附力强、反应活性高、柔韧性好等特点,且具有天然带隙。MoS2是严格的二维材料,具有大的比表面积,边缘具有不饱和键等,这些为气体分子吸附反应提供了活性位点。这些特性使MoS2材料成了气敏传感材料研究的热点。MoS2对某些气体并不敏感,因此,采用掺杂和复合手段,提升其气敏性能,为实现低检测限、高响应度、响应/恢复时间短、生产成本低等优越性能的气敏器件开发提供新思路。
[0005]MoO3是一种宽带过渡金属氧化物半导体材料,具有特殊的层结构和良好的氧化还原催化活性,其物理化学性质稳定,同时通过控制反应条件可以较好的控制形貌结构,通过掺杂、异质结的构筑,提高材料的气敏性能。
[0006]CN105510403A专利技术采用化学或者物理刻蚀方法,在单晶硅片表面形成准周期性结构,并通过热蒸发镀膜形成电极来对氨气进行检测,但是该工艺对设备要求高、操作要求高、生产成本高,不利于大规模应用。CN102978578A采用溅射法制备出氧化铜掺杂的二氧化锡基体的氨气气敏传感器,该传感器的灵敏度高且响应恢复时间短,但是其工作温度高且体积大。CN104502415A专利技术了基于贵金属复合材料的氨气传感器,其气敏性能好,但是成本昂贵。CN110702752专利技术了催化式气敏传感器,但是其恢复时间长。CN102103103A公开了一种用于检测氨气的传感器及其制备方法,制成由有机薄膜晶体管构成的用于检测氨气的传感器,但是该晶体管传感器存在加工工艺复杂、制作周期长、制作条件苛刻、且制备过程中所用化学试剂对环境不友好的缺点。
[0007]有鉴于此,本专利技术提供了一种气敏传感器及在氨气气体检测的应用,用于解决现有技术中,气敏传感器需要升温或者紫外光灯下才能工作的缺陷。

技术实现思路

[0008]针对于现有的技术不足之处,本专利技术的目的在于提供一种MoO3@MoS2/PTH的气敏材料,制备方法及其在气敏传感器中的应用。
[0009]为实现上述专利技术目的,本专利技术技术方案如下:
[0010]一种气敏材料,所述材料为MoO3@MoS2/PTH,通过以MoO3为核、以MoS2为壳形成核壳结构MoO3@MoS2,然后与噻吩单体进行聚合得到,其中MoO3和MoS2的核壳结构MoO3@MoS2占材料质量分数的10~30%。
[0011]作为优选方式,首先采用水热法制备出花状纳米三氧化钼,然后制备出MoO3和MoS2的核壳结构,通过原位聚合法制备出MoO3@MoS2/PTH。
[0012]作为优选方式,气敏材料为片状堆积结构,所述MoO3@MoS2/PTH气敏材料工作温度为室温,对50ppm的氨气气体灵敏度达到1.4。
[0013]本专利技术还提供一种所述的气敏材料的制备方法,具体包括以下步骤:
[0014]S1:制备花状三氧化钼:将摩尔比为1:10至3:10的四水合七钼酸按(NH4)6Mo7O
24
·
4H2O和硫酸铵(NH4)2SO4溶解在50mL去离子水中,然后继续添加0.93mol氨水和适量的去离子水定容到70mL,将所得溶液搅拌均匀,再加入1.817g硫代乙酰胺搅拌均匀得到澄清溶液,接下来,将溶液转移到100mL的水热反应釜中,并在180~240℃下加热24小时;自然冷却至室温后,收集所得沉淀,用去离子水和乙醇洗涤数次,最后在60℃真空干燥10小时;
[0015]S2:制备MoO3@MoS2:称取1mM的MoO3粉末,超声分散于100mL的水和乙醇的混合溶液中,混合溶液中水与乙醇体积比为2:3,待得到均质得MoO3分散液之后,加入不同摩尔比的硫脲,MoO3:H2NSNH2的摩尔比为1:1~1:10,待硫脲完全溶解,将整个混合分散液转移至容量为100mL的水热釜中,水热釜填充比为70%,水热温度为180℃

220℃,水热时间为18

24h;反应结束后,待冷却至室温,分别用水和乙醇离心洗涤若干次,干燥后得到MoO3@MoS2;
[0016]S3:制备材料,称取无水氯化铁溶于氯仿中,噻吩单体和无水氯化铁的摩尔比为3:1,搅拌1h后得到深绿色浊液,称取噻吩单体和MoO3@MoS2溶于氯仿中,噻吩单体和MoO3@MoS2的质量比为10:1~10:3,超声1h得到噻吩和二硫化钼的分散液,将分散液缓慢滴加到氯化铁浊夜,室温搅拌反应9h;反应完成后室温蒸干溶剂,加入适量的1mol/L HCI室温搅拌12h;将得到的产物用HCl多次洗涤,再用去离子水洗涤后在60~80℃干燥6~8小时。
[0017]作为优选方式,S1中,将溶液转移至水热反应釜中,在180℃下反应24h。
[0018]作为优选方式,S2中,称取摩尔比为1:3的MoO3和H2NSNH2加入到溶液中。
[0019]作为优选方式,S3中,称取质量比为10:2的噻吩单体和MoO3@MoS2溶于氯仿。
[0020]本专利技术还提供一种气敏材料在NH3气敏传感器中的应用,其为:将MoO3@MoS2/PTH敏材料涂覆与金电极包覆的Al2O3陶瓷管表面制成气敏传感元件。
[0021]作为优选方式,所述NH3气敏传感元件的制备方法具体如下:取MoO3@MoS2/PTH粉末产物研磨10min,再加入无水乙醇混合研磨至糊状,将得到的糊状物均匀涂抹于金电极包覆的Al2O3陶瓷管表面,在室温下将乙醇蒸干,再将金电极焊接在陶瓷底座上。
[0022]本专利技术的有益效果:本专利技术提供了一种气敏传感器,在常温可见光的条件下,即可对不同浓度的氨气进行检测,具有响应性好、灵敏度高、响应及恢复时间快、选择性强的优点;且制备简单,生产成本低,适用于某些环境中的氨气检测。解决了现有技术中,气敏传感器需在高温或者紫外光下才可工作的技术缺陷。
为壳形成核壳结构MoO3@本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种气敏材料,其特征在于:所述材料为MoO3@MoS2/PTH,通过以MoO3为核、以MoS2为壳形成核壳结构MoO3@MoS2,然后与噻吩单体进行聚合得到,其中MoO3和MoS2的核壳结构MoO3@MoS2占材料质量分数的10~30%。2.根据权利要求1所述的气敏材料,其特征在于:首先采用水热法制备出花状纳米三氧化钼,然后制备出MoO3和MoS2的核壳结构,通过原位聚合法制备出MoO3@MoS2/PTH。3.根据权利要求1所述的气敏材料,其特征在于:气敏材料为片状堆积结构,所述MoO3@MoS2/PTH气敏材料工作温度为室温,对50ppm的氨气气体灵敏度达到1.4。4.权利要求1至3任意一项所述的气敏材料的制备方法,其特征在于:具体包括以下步骤:S1:制备花状三氧化钼:将摩尔比为1:10至3:10的四水合七钼酸按(NH4)6Mo7O
24
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4H2O和硫酸铵(NH4)2SO4溶解在50mL去离子水中,然后继续添加0.93mol氨水和适量的去离子水定容到70mL,将所得溶液搅拌均匀,再加入1.817g硫代乙酰胺搅拌均匀得到澄清溶液,接下来,将溶液转移到100mL的水热反应釜中,并在180~240℃下加热24小时;自然冷却至室温后,收集所得沉淀,用去离子水和乙醇洗涤数次,最后在60℃真空干燥10小时;S2:制备MoO3@MoS2:称取1mM的MoO3粉末,超声分散于100mL的水和乙醇的混合溶液中,混合溶液中水与乙醇体积比为2:3,待得到均质得MoO3分散液之后,加入不同摩尔比的硫脲,MoO3:H2NSNH2的摩尔比为1:1~1:10,待硫脲完全溶解,将整个混合分散液转移至容量为100mL的水热釜中,水热釜填充比为7...

【专利技术属性】
技术研发人员:周国云周慧敏何为王守绪李婧马朝英郭珊
申请(专利权)人:电子科技大学
类型:发明
国别省市:

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