一种基于电子背散射衍射花样的晶面衍射衬度的成像方法技术

技术编号:33775212 阅读:33 留言:0更新日期:2022-06-12 14:28
本发明专利技术提供一种基于电子背散射衍射花样的晶面衍射衬度的成像方法,包括如下步骤:将待检样品表面抛光后置于扫描电镜的样品台上,样品台倾转60

【技术实现步骤摘要】
一种基于电子背散射衍射花样的晶面衍射衬度的成像方法


[0001]本专利技术涉及金属、无机非金属等晶体材料的晶体结构显微分析、表征领域,具体地,涉及一种基于材料电子背散射衍射花样中任一菊池带,即晶面衍射衬度的成像方法。

技术介绍

[0002]电子背散射衍射仪(Electron Backscattered Diffraction,EBSD)是扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope;SEM)的核心关键部件之一,是一种能在较大范围内(单幅图片分析范围可达数百平方微米)、高精度地实现微区晶体学显微结构分析的新型显微分析设备,它可应用于几乎所有的多晶和单晶材料,获得晶粒尺寸分布、相组成、取向以及织构等的统计信息。它通过采集发生布拉格衍射的背散射电子与磷屏相交形成的菊池带花样,再对菊池带花样进行处理分析后形成相应图像。因此,其成像机理完全不同于扫描电镜和透射电镜。该设备与X射线衍射和中子衍射相比,在获得晶体结构和取向信息的同时还可与微观组织形貌对应起来,可确定材料中不同相的晶体学参数以及含量,还可给出不同取向晶粒的分布情况和本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于电子背散射衍射花样的晶面衍射衬度的成像方法,其特征在于,包括如下步骤:将待检样品表面抛光后置于扫描电镜的样品台上,样品台倾转60
°‑
70
°
,并设置电子背散射衍射分析的最佳工作距离;在经抛光的待检样品表面采集电子背散射衍射花样信号;将采集得到的衍射花样逐一导入至Matlab程序中,通过傅里叶变换、高斯低通滤波、反傅里叶变化降噪;通过霍夫变换识别菊池带中心线;逐一提取、线性叠加每一条衍射花样中心线所对应衍射花样中图像像素点,即晶面所对应的衍射花样上像素点灰度值;依据任意晶面可收集一组衍射花样上像素点灰度值,依据电子背散射衍射采集面分布图像x\y坐标,输出该晶面衍射衬度图像。2.根据权利要求1所述的基于电子背散射衍射花样的晶面衍射衬度的成像方法,其特征在于,所述待检样品为金属、非金属、单晶、多晶材料抛光后的表面或截面,抛光方法包括机械抛光、电解抛光、震动抛光和离子抛光,优选地为先经过机械抛光、然后经过电解抛光、震动抛光和/或离子抛光。3.根据权利要求1或2所述的基于电子背散射衍射花样的晶面衍射衬度的成像方法,其特征在于,在经抛光的待检样品表面采集电子背散射衍射花样信号的步骤中,所述待检样品为非导体样品时,表面需蒸镀5

10nm无定形碳导电薄膜。4.根据权利要求3所述的基于电子背散射衍射花样的晶面衍射衬度的成像方法,其特征在于,扫描电镜入射加速电压在10

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【专利技术属性】
技术研发人员:王墉哲曾毅张积梅林初城
申请(专利权)人:中国科学院上海硅酸盐研究所
类型:发明
国别省市:

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