一种三氯化铁蚀刻液处理及再生循环的工艺方法技术

本发明专利技术公开了一种三氯化铁蚀刻液处理及再生循环的工艺方法，主要包括(1)、将产线三氯化铁蚀刻液溢流至蚀刻废液储存桶；(2)、蚀刻废液储存桶与萃取槽连接，循环萃取，萃取后的水相低铜蚀刻液输送至氧化槽，经氧化后低铜蚀刻液返回至产线；(3)、油相进入水洗段，经水洗后的油相中通入硫酸溶液进行反萃，反萃后的水相通入电解槽中进行电解，电解产生氧气通入步骤(2)中的氧化槽中；(4)、反萃后的油相通入萃取槽重新进行萃取流程。本发明专利技术的整体工艺流程不引入任何的氧化剂，可以大大缩减成本，电解期间不产生氯气带来的不安全因素。间不产生氯气带来的不安全因素。间不产生氯气带来的不安全因素。

【技术实现步骤摘要】
一种三氯化铁蚀刻液处理及再生循环的工艺方法


[0001]本专利技术涉及环保
，尤其涉及一种PCB生产过程中三氯化铁蚀刻废液的处理及再生循环工艺方法。

技术介绍

[0002]印刷电路板(PCB)是电子设备中的重要部件。随着电子产业的充分发展，我国也成为了PCB最大的生产国家及使用市场。随着电子产品不断朝着小型化、轻量化、高速化、多功能化的方向发展，PCB行业对于高精度、高密度电路的关注度越来越高。在其线路制作工艺中，蚀刻是进行图形转移后，实现线路图形至关重要的一道工序，直接决定了产品的质量水平和成品率，控制好蚀刻过程是确保整个PCB质量和性能的关键。
[0003]自20世纪60年代以来，蚀刻液经过了多种类型的更新与改进，主要包括氯化铁蚀刻液、过硫酸铵蚀刻液、硫酸/铬酸蚀刻液、硫酸/过氧化氢蚀刻液、碱性氯化铜蚀刻液、酸性氯化铜蚀刻液等。因三氯化铁蚀刻液的再生困难，废液处理量难、大的问题而逐渐退出市场。过硫酸铵蚀刻液以及含铬蚀刻液、硫酸过氧化氢体系蚀刻液由于不易再生或有毒性的问题未被市场接受。酸性氯化铜蚀刻体系相对具有蚀刻速度快、稳定性本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种三氯化铁蚀刻液处理及再生循环的工艺方法，其特征在于，包括：(1)、将产线三氯化铁蚀刻液溢流至蚀刻废液储存桶；(2)、蚀刻废液储存桶与萃取槽连接，循环萃取，加入萃取剂,搅拌混合，使铜离子和铁离子分离，将铜离子萃取出来，然后静置分层，萃取后的水相低铜蚀刻液输送至氧化槽，经氧化后低铜蚀刻液返回至产线；(3)、油相进入水洗段，经水洗后的油相中通入硫酸溶液进行反萃，将铜离子从萃取剂中反萃出来，反萃后的水相通入电解槽中进行电解，电解产生氧气通入步骤(2)中的氧化槽用于将低铜蚀刻液中亚铁离子氧化成铁离子；(4)、反萃后的油相通入萃取槽重新进行萃取流程。2.如权利要求1所述的一种三氯化铁蚀刻液处理及再生循环的工艺方法，其特征在于：步骤(2)中所述萃取剂为ad100、N902、M5640H、CLX50中的一种或几种，萃取时间1min
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10min，搅拌转速0
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2000r/min。3.如权利要求2所述的一种三氯化铁蚀刻液处理及再生循环的工艺方法，其特征在于：步骤(2)中萃取时油相与水相比为1:1
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1:5。4.如权利要求3所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：夏敏，宋德生，余德福，肖晋宜，丁德才，
申请(专利权)人：斯瑞尔环境科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：