【技术实现步骤摘要】
一种增厚绝缘胶膜及其制备方法
[0001]本专利技术属于新型电子封装材料
,更具体地,涉及一种应用于半导体系统级封装用的增厚绝缘胶膜及其制备方法。
技术介绍
[0002]随着电子信息技术的发展,特别是近年来以可穿戴电子、智能手机、超薄电脑、无人驾驶、物联网技术和5G通讯技术为主的快速发展,对电子系统的小型化、轻薄化、多功能、高性能等方面提出了越来越高的要求。因此越来越多的器件将被埋入介质层内,这就需要具有高击穿强度的厚度更厚的胶膜满足这一需求。然而,传统涂布方法加工厚度超过100μm以上胶膜难以避免溶剂残留,厚度不均等一系列问题,这将导致介电损耗增加、可靠性下降等问题。
技术实现思路
[0003]为解决上述技术问题,克服现有技术的缺陷,本专利技术提供一种可用于本导体封装的、适用于加成法或半加成法制备精细线路,以及填埋器件的增厚绝缘胶膜。本专利技术采用对压增厚方法,将有效降低胶膜内的溶剂残余量,减少气泡,获得厚度均匀的绝缘厚胶膜材料。
[0004]为了实现上述专利技术目的,本专利技术采取了以下技术 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种增厚绝缘胶膜,该绝缘胶膜材料由三层结构组成,其特征在于,所述增厚绝缘胶膜为绝缘胶膜A和绝缘胶膜B压合而成,所述增厚绝缘胶膜包括绝缘聚合物复合物层,绝缘聚合物复合物层底部的下层薄膜支撑层,以及绝缘聚合物复合物层表面的上层薄膜支撑层。2.根据权利要求1所述的增厚绝缘胶膜,其特征在于,所述绝缘胶膜A和绝缘胶膜B均由三层结构组成,所述三层结构包括绝缘聚合物层,绝缘聚合物层底部的薄膜支撑层,以及绝缘聚合物层表面的覆盖保护膜。3.根据权利要求2所述的增厚绝缘胶膜,其特征在于,所述绝缘聚合物复合物层为绝缘胶膜A的绝缘聚合物层和绝缘胶膜B的绝缘聚合物层复合而成。4.根据权利要求2所述的增厚绝缘胶膜,其特征在于,所述绝缘聚合物层由绝缘聚合物电子浆料制成,所述绝缘聚合物电子浆料包括环氧树脂、无机填料、固化剂、固化促进剂、助剂、溶剂;优选的,所述环氧树脂选自双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、酚醛型环氧树脂、邻甲酚醛型环氧树脂、多官能团环氧树脂、间苯二酚环氧树脂、橡胶改性环氧树脂、聚氨酯改性环氧树脂、联苯环氧树脂、双环戊二烯环氧树脂、化环氧树脂中的一种或多种;优选的,所述无机填料选自二氧化硅、氧化铝、氮化硼、二氧化钛、氧化锌、氧化锆、氧化镁、碳酸钙、钛酸钡、钛酸锶、钛酸锶钡、锆钛酸铅、钛酸铜钙中的一种或多种;优选的,所述固化剂选自脂肪多元胺型固化剂、脂环多元胺型固化剂、芳香胺类固化剂、酸酐类固化剂、潜伏固化剂、合成树脂类固化剂的一种或多种;优选的,所述固化促进剂选自咪唑类固化剂、苯酚、双酚A、间苯二酚、2,4,6
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三(二甲氨基亚甲基)苯酚、卞基二甲胺、酰基胍、过氧化苯甲酰、乙酰丙酮铜、乙酰丙酮铝、乙酰丙酮锆中的一种或多种;优选的,所述助剂包括分散剂、消泡剂、偶联剂、防沉剂、流平剂、流变剂、阻燃剂;优选的,所述溶剂选自芳香类溶剂、卤化烃类溶剂、脂肪烃类溶剂、脂环烃类溶剂、酯类溶剂、酮类溶剂、酰胺类溶剂中的一种或多种;优选的,所述无机填料粒子的尺寸为20nm~10μm,优选为50~3μm,更优选为200nm~1μm,或所述无机填料粒子为尺寸为20nm~10μm范围内的多尺度混合物;优选的,所述无机填料粒子的形状包括球形、类球形颗粒、棒、线、片状颗粒;优选的,所述无机填料粒子占绝缘聚合物电子浆料固体成分质量的20%~80%,优选为30%~60%,更优选为45%~5...
【专利技术属性】
技术研发人员:于淑会,于均益,罗遂斌,刘捷,徐鹏鹏,孙蓉,
申请(专利权)人:中国科学院深圳先进技术研究院,
类型:发明
国别省市:
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