一种真空抑制器防溢水装置及无负压罐设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种真空抑制器防溢水装置及无负压罐设备，真空抑制器防溢水装置直接安装于真空抑制器的上方，包括壳体、集液槽、集液盖和引流板，集液槽连接于壳体，集液盖位于壳体的正上方，引流板固定于集液盖以将溢出水导引至集液槽内。借此装置，可有效解决真空抑制器的溢水问题，减少设备因溢水而受腐蚀的威胁，且成本较低，结构简单，易于生产制造。易于生产制造。易于生产制造。

【技术实现步骤摘要】
一种真空抑制器防溢水装置及无负压罐设备


[0001]本技术涉及无负压供水
，特别涉及一种真空抑制器防溢水装置及无负压罐设备。

技术介绍

[0002]随着国内房地产行业的迅速发展，二次供水设备的需求也随之急剧上升，真空抑制器是二次供水设备重要的零部件之一。当市政管网自来水进入稳流罐时，罐内的空气从真空抑制器向外排出；当稳流罐内充满水后，真空抑制器自动关闭。另一方面，当用户用水量增加，市政管网供水量小于用户用水量时，稳流罐内的水可弥补二者之间的流量差，保证用户端正常用水，此时罐内水位逐渐降低，外部空气由真空抑制器进入稳流罐，稳流罐相当于具有自由液面的开口水箱，压力与大气相同，负压被消除。
[0003]然而，现有的二次供水设备所用的真空抑制器塞体多为球状，当稳流罐内充满水，球状塞体封住真空抑制器的开孔，由于稳流罐内压力较大，在球状塞体完全封住时，存在部分罐内水向外溢出的问题，罐内一部分水从真空抑制器出口向外溢出，造成机组设备锈蚀风险，也对二次供水设备运行环境造成很大威胁。另一方面，真空抑制器直接与大气相通，外部灰尘容易进入稳流罐内，污染稳流罐内的水。
[0004]因此，本技术的主要目的在于提供一种真空抑制器防溢水装置及无负压罐设备，以至少解决上述问题之一。

技术实现思路

[0005]本技术提供一种真空抑制器防溢水装置，用于固定在真空抑制器上方，其包括管状的壳体、集液槽、集液盖和引流板。所述壳体与真空抑制器管道部分的直径相匹配，延长了水流自稳流罐溢出的行程。
[0006]集液槽，绕壳体外周壁设置。集液盖，位于所述壳体的正上方。引流板固定于集液盖，用于将溢出水液导引至集液槽内。
[0007]在一实施例中，所述集液盖呈弧形，所述集液盖的孔径大于所述集液槽的孔径。
[0008]在一实施例中，还包括防护板，所述防护板由集液盖的外沿向下延伸至集液槽的顶部下方。
[0009]在一实施例中，所述集液槽底部设有引流道，所述集液槽通过引流道连通至壳体内部。
[0010]在一实施例中，所述真空抑制器防溢水装置还包括活塞和弹簧，所述活塞设置在所述引流道的进水口，所述弹簧用于向上顶住活塞使活塞阻断引流道，所述引流道是通过内外压力差的方式使活塞上下活动以导通或阻断引流道。
[0011]在一实施例中，所述引流道正对于活塞的位置设有安装孔，安装孔内安装有活塞盖，所述弹簧两端分别连接活塞盖和活塞。
[0012]在一实施例中，所述壳体、集水槽、引流道由一体成型制成。
[0013]在一实施例中，所述集液盖、引流板、防护板由一体成型制成。
[0014]在一实施例中，当所述壳体通过法兰连接的方式固定在真空抑制器上方。
[0015]在一实施例中，所述活塞和所述集液盖均是可拆卸的。
[0016]本技术还提供一种无负压罐设备，其包括稳流罐和设置在稳流罐开口处的无溢水真空抑制器，无溢水真空抑制器可采用如上任意所述的无溢水真空抑制器。
[0017]本技术的一个优势在于提供一种真空抑制器防溢水装置及无负压罐设备，直接安装于现有真空抑制器上方，无需对真空抑制器进行改造，壳体延长了水流自稳流罐溢出的行程，有利于减少水流溢出，同时通过集液槽、集液盖和引流板的搭配设置，可将自真空抑制器溢出的水回收，解决真空抑制器的溢水问题，减少设备因溢水而受腐蚀的威胁，且结构简单，易于生产制造，制造成本低。
[0018]本技术的另一个优势在于提供一种真空抑制器防溢水装置及无负压罐设备，通过防护板的设置，可保护结构内部水液不受灰尘等异物污染；通过防护板和集液槽的高度差设置，可在保证气体流通的同时，有效防止外部灰尘等异物污染内部水液。
[0019]本技术的另一个优势在于提供一种真空抑制器防溢水装置及无负压罐设备，通过活塞和弹簧的搭配设置，可将溢出的水液重新导流至稳流罐内，节约用水资源。并且，通过巧妙利用集液槽对活塞进行限位，无需增设额外的零部件(如单向阀)，便可达到避免溢水和使水液二次回流的效果。
[0020]本技术的另一个优势在于提供一种真空抑制器防溢水装置及无负压罐设备，通过活塞和集液盖均可拆卸的设置，有利于安装以及后续的清洗、维护等作业。
[0021]本技术的其它特征和有益效果将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本技术而了解。本技术的目的和其他有益效果可通过在说明书、权利要求书等内容中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图；在下面描述中附图所述的位置关系，若无特别指明，皆是图示中组件绘示的方向为基准。
[0023]图1是本技术提供的无负压罐设备的结构示意图；
[0024]图2是本技术提供的无溢水真空抑制器防溢水装置的结构示意图；
[0025]图3是图2中C处的放大示意图。
[0026]附图标记：
[0027]1‑
无负压罐设备；2
‑
稳流罐；4
‑
稳流罐的开口；5
‑
真空抑制器；10
‑
真空抑制器防溢水装置；12
‑
壳体；14
‑
集液槽；142
‑
引流道；144
‑
安装孔；146
‑
进水口16
‑
集液盖；18
‑
引流板；20
‑
防护板；22
‑
固定螺栓；24
‑
活塞；26
‑
弹簧；28
‑
活塞盖；H1
‑
高度差；b
‑
倾斜角度；D1、D2
‑
孔径。
具体实施方式
[0028]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例；下面所描述的本技术不同实施方式中所设计的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合；基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“垂直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或组件必须具有特定的方位、或以本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空抑制器防溢水装置，固定在真空抑制器上，其特征在于：所述真空抑制器防溢水装置包括：管状的壳体；集液槽，环绕设置于所述壳体的外周壁；集液盖，位于所述壳体的正上方；引流板，固定于所述集液盖，用于将溢出水液导引至所述集液槽内。2.根据权利要求1所述的真空抑制器防溢水装置，其特征在于：所述集液盖呈弧形，所述集液盖的孔径大于所述集液槽的孔径。3.根据权利要求1所述的真空抑制器防溢水装置，其特征在于：所述真空抑制器防溢水装置还包括防护板，所述防护板由所述集液盖的外沿向下延伸至所述集液槽的顶部下方。4.根据权利要求3所述的真空抑制器防溢水装置，其特征在于：所述集液槽底部设有引流道，所述集液槽通过所述引流道连通至所述壳体的内部。5.根据权利要求4所述的真空抑制器防溢水装置，其特征在于：所述真空抑制器防溢水装置还包括活塞和弹簧，所述活塞设置在所述引流道的进水口，所述弹簧用于向上顶住活塞使活塞阻断引流道...

【专利技术属性】
技术研发人员：李晓倩，郑文杰，柯绍棠，
申请(专利权)人：厦门钨业股份有限公司，
类型：新型
国别省市：