双面抗静电LR薄膜、组件和显示设备制造技术

本发明专利技术公开了双面抗静电LR薄膜、组件和显示设备，LR薄膜，包括顺次设置的第一LR层、第一抗静电涂层、基材、第二抗静电涂层和第二LR层，第一LR层和第二LR层中至少一种由防反射涂布液形成；防反射涂布液包括，以重量份数计：丙烯酸类树脂15

【技术实现步骤摘要】
双面抗静电LR薄膜、组件和显示设备


[0001]本专利技术是关于多层复合材料技术，特别是关于一种双面抗静电LR薄膜、组件和显示设备。

技术介绍

[0002]近年来，TAC(三醋酸纤维薄膜)和PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)基材在电子显示屏上的应用越来越广泛和深入。TAC和PET本身的绝缘性能，在接触和摩擦过程中容易产生和聚集静电荷。一定量的静电荷的存在会对TAC和PET的电子产品造成静电冲击，会破坏电子产品性能和引发安全事故。与此同时，表面静电荷容易吸附尘埃，对高透光率膜的表观造成一定影响。
[0003]现有技术应用于塑料薄膜制品使用过程中的是掺入导电物质和添加抗静电剂。金属粉末、导电炭黑、金属氧化物等导电物质的使用成本高，且对涂布设备的要求高，故抗静电剂成为提高薄膜材料抗静电性能的主要方式。目前，常用的抗静电剂主要包括阳离子型抗静电剂，阴离子型抗静电剂，两性抗静电剂和非离子型抗静电剂。其中常用的离子型抗静电剂通过吸收环境水分，降低材料表面电阻率达到抗静电目的，所以对环境湿度的依赖性较大。显然，环境湿度越高，抗静电剂分子的吸水性就越强，抗静电性能就越显著。与此同时，环境湿度小，涂层的抗静电性能减弱，这说明离子型抗静电剂分子受环境的影响比较大，抗静电性能不稳定。
[0004]防反射层的一般可以采用三种方法成膜，包括真空蒸发、湿法涂布和磁控溅射镀膜。其中真空蒸发镀膜的镀膜均匀性差，薄膜涂层的附着力差，重复性差，难以获得结晶结构的薄膜。而磁控溅射工艺镀膜效率慢，能耗高，需要叠层镀膜，对设备和工艺条件要求高，成本高。
[0005]公开于该
技术介绍
部分的信息仅仅旨在增加对本专利技术的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种双面抗静电LR薄膜、组件和显示设备，通过优化薄膜的复合结构，使得优化后的抗静电层可以很好的疏导静电荷，使得涂层表面的抗静电值达到106‑
109Ω，从而降低静电对膜层外观和性能的影响，而防反射层可以提高薄膜对光的透过，从而减少光对膜的不良影响，增加使用者的视觉感受，两者结合适用信息设备、智能家电等电子产品制程保护。
[0007]为实现上述目的，本专利技术的实施例提供了双面抗静电LR薄膜，包括顺次设置的第一LR层、第一抗静电涂层、基材、第二抗静电涂层和第二LR层，第一LR层和第二LR层中至少一种由防反射涂布液形成；防反射涂布液包括，以重量份数计：丙烯酸类树脂15
‑
25份；光引发剂1
‑
5份；无机/有机粒子10
‑
20份；分散剂1
‑
5份；溶剂40
‑
70份。无机/有机粒子选自二氧化硅、氧化铝、氟化镁、氧化锆、二氧化钛、聚甲基丙烯酸甲酯。
[0008]在本专利技术的一个或多个实施方式中，所述丙烯酸类树脂选自聚脂类丙烯酸树脂、聚氨酯类丙烯酸树脂、环氧类丙烯酸树脂、丙烯酸树脂(指纯丙烯酸树脂)。
[0009]在本专利技术的一个或多个实施方式中，光引发剂选自2
‑
羟基
‑2‑
甲基
‑1‑
苯基
‑1‑
丙酮、4
‑
二甲胺基
‑
苯甲酸乙酯、羟基环己基苯基甲酮、2,4,6
‑
三甲基甲酰基
‑
二苯基氧化膦中的至少一种。
[0010]在本专利技术的一个或多个实施方式中，无机/有机粒子选自二氧化硅、氧化铝、氟化镁、氧化锆、二氧化钛、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)粒子。优选的，无机/有机粒子的粒径为20
‑
150nm。
[0011]在本专利技术的一个或多个实施方式中，分散剂选自乙烯基双硬脂酰胺、硬脂酸单甘油酯、三硬脂酸甘油酯。
[0012]在本专利技术的一个或多个实施方式中，溶剂选自甲基乙基酮、丙二醇甲醚、甲基异丁基酮、异丙醇、乙酸乙酯、甲苯。
[0013]在本专利技术的一个或多个实施方式中，第一LR层和第二LR层的厚度范围均为50nm
‑
200nm。
[0014]在本专利技术的一个或多个实施方式中，第一LR层和第二LR层是等厚的。
[0015]在本专利技术的一个或多个实施方式中，双面抗静电薄膜组件，包括设置有贴合区的界面结构以及如前述的双面抗静电LR薄膜，双面抗静电LR薄膜贴合于贴合区。
[0016]在本专利技术的一个或多个实施方式中，显示设备，包括如前述的双面抗静电薄膜组件以及限定结构，限定结构具有用于限制双面抗静电薄膜组件的安装位。
[0017]与现有技术相比，根据本专利技术实施方式的双面抗静电LR薄膜、组件和显示设备：
[0018]膜层抗静电值可以适应产品需求进行调控，通过同时或者分别调整两层抗静电涂层的厚度，可以控制抗静电值的范围在106‑
109Ω。在长期使用中，膜层抗静电值稳定且均一性好。抗静电层具有永久的抗静电性能，且对环境的湿度要求小。抗静电涂层可印刷，可以在抗静电涂层上进行二次涂布。
[0019]并且通过优化防反射涂层，采用湿法工艺，操作便利，获得的涂层性能优良，该防反射涂层在400
‑
700nm宽波段的反射率低，平均反射率在1.0％左右。
附图说明
[0020]图1是根据本专利技术一实施方式的双面抗静电LR薄膜的结构示意图；
[0021]图2是根据本专利技术一实施方式的双面抗静电LR薄膜的反射曲线图(实施例21)。
具体实施方式
[0022]下面结合本专利技术的具体实施方式，对本专利技术技术方案进行示例性的详细描述，但应当理解本专利技术的保护范围并不受具体实施方式的限制。
[0023]除非另有其它明确表示，否则在整个说明书和权利要求书中，术语“包括”或其变换如“包含”或“包括有”等等将被理解为包括所陈述的元件或组成部分，而并未排除其它元件或其它组成部分。
[0024]如图1所示，根据本专利技术优选实施方式的双面抗静电LR薄膜，包括顺次设置的第一LR层1、第一抗静电涂层2、基材3、第二抗静电涂层4和第二LR层5，第一LR层1和第二LR层5中
至少一种由防反射涂布液形成。其中基材3的厚度可以为40μm、50μm、60μm、100μm、125μm以及50μm
‑
125μm范围内的其它任意值。第一抗静电涂层2和/或第二抗静电涂层4的厚度可以为400nm、450nm、500nm、550nm、600nm、650nm、700nm、750nm、800nm以及400nm
‑
800nm范围内的其它任意值。第一LR层1和/或第二LR层5的厚度可以为50nm、100nm、150nm、200nm以及50nm
‑
200nm范围内的其它任意值。无机/有机粒子的粒径可以为20nm、30nm、40nm、50nm、60nm、70nm、80nm、90nm、100nm、110nm、120nm、1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双面抗静电LR薄膜，其特征在于，包括顺次设置的第一LR层、第一抗静电涂层、基材、第二抗静电涂层和第二LR层，所述第一LR层和第二LR层中至少一种由防反射涂布液形成；所述防反射涂布液包括，以重量份数计：丙烯酸类树脂15
‑
25份；光引发剂1
‑
5份；无机/有机粒子10
‑
20份；分散剂1
‑
5份；溶剂40
‑
70份。2.如权利要求1所述的双面抗静电LR薄膜，其特征在于，所述丙烯酸类树脂选自聚脂类丙烯酸树脂、聚氨酯类丙烯酸树脂、环氧类丙烯酸树脂、丙烯酸树脂。3.如权利要求1所述的双面抗静电LR薄膜，其特征在于，所述光引发剂选自2
‑
羟基
‑2‑
甲基
‑1‑
苯基
‑1‑
丙酮、4
‑
二甲胺基
‑
苯甲酸乙酯、羟基环己基苯基甲酮、2,4,6
‑
三甲基甲酰基

【专利技术属性】
技术研发人员：严俊，于佩强，汪金铭，胡业新，刘世琴，
申请(专利权)人：江苏日久光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：