支撑单元和包括该支撑单元的基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术构思提供一种基板支撑单元，包括：卡盘，其支撑并旋转基板；和灯单元，其设置在基板下方以加热基板，其中灯单元包括第一灯，该第一灯在其表面上具有反射层以阻挡和/或反射从第一灯发射但未导向至基板的光以将光导向至基板。至基板。至基板。

【技术实现步骤摘要】
支撑单元和包括该支撑单元的基板处理装置


[0001]在此描述的本专利技术构思的实施方式涉及一种支撑单元和包括该支撑单元的基板处理装置，更具体地，涉及一种用于在基板处理工艺期间在加热基板的同时执行工艺的支撑单元和包括该支撑单元的基板处理装置。

技术介绍

[0002]通常，执行各种工艺，例如光刻胶涂覆工艺、显影工艺、蚀刻工艺和灰化工艺以制造半导体器件或平面显示面板。在每个过程中，为了去除附着在基板上的各种污染物，执行使用化学品或去离子水的清洁工艺和用于干燥残留在基板表面上的化学品或去离子水的干燥工艺。
[0003]近来，正在执行使用高温化学品例如硫酸和磷酸来选择性地去除氮化硅膜和氧化硅膜的蚀刻工艺。在使用高温化学品的基板处理装置中，用于加热基板的基板处理装置用于提高蚀刻速率。美国专利申请公开号2016
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0013079公开了上述基板处理装置的实施方式。根据上述专利，基板处理装置包括用于在旋转头中加热基板的灯和用于反射由所述灯辐射的热的反射板。
[0004]然而，由于灯形式的热源是全方向发射的，因此在所有方向发射强度相同的热波，当使用该专利装置处理基板时，由于灯热波的全方向性而浪费了大量能量。
[0005]此外，存在的问题在于，灯的不导向基板所发射的热量可能加热相邻部件，从而使其损坏和/或变形。
[0006]此外，当与灯相邻的所有部件都由耐热材料制成以防止损坏和/或变形时，材料成本非常高，即使在这种情况下，也很难保证长期可靠性。

技术实现思路

[0007]本专利技术构思的实施方式提供一种能够改善基板处理效率的支撑单元和包括该支撑单元的基板处理装置。
[0008]本专利技术构思的实施方式提供一种能够改善灯的效率的支撑单元和包括该支撑单元的基板处理装置。
[0009]本专利技术构思的实施方式提供一种能够改善与灯相邻或邻近的部件的热稳定性的支撑单元以及包括该支撑单元的基板处理装置。
[0010]本专利技术构思的目的不限于此，本领域技术人员可以从以下描述清楚地理解未提及的其他目的。
[0011]本专利技术构思的技术目的不限于上述的那些，通过以下描述，其他未提及的技术目的对于本领域技术人员将是显而易见的。
[0012]本专利技术构思提供了一种支撑基板的基板支撑单元。
[0013]所述基板支撑单元包括卡盘，所述卡盘支撑并旋转基板；和灯单元，所述灯单元设置在所述基板下方以加热所述基板，其中所述灯单元包括第一灯，所述第一灯在其表面上
具有反射层以阻挡和/或反射从所述第一灯发射但未导向至所述基板的光以将所述光导向至所述基板。
[0014]在一个实施方式中，当从竖直横截面看时，所述反射层的第一端部位于从所述第一灯发射到所述基板的端部的光的第一路径上。
[0015]在一个实施方式中，所述支撑单元还包括反射板，所述反射板包括将从所述第一灯发射的光反射至所述基板的边缘区域的突起，并且所述反射层的第二端部位于从第一灯发射到所述反射板的边缘区域的光的第二路径上。
[0016]在一个实施方式中，所述支撑单元还包括反射板，所述反射板包括将从所述第一灯发射的光反射至所述基板的边缘区域的突起，并且所述反射层设置在所述第一灯的与面向所述突起的表面相反的表面。
[0017]在一个实施方式中，所述反射层设置在阻挡从所述第一灯发射但不直接导向所述基板的光的位置处。
[0018]在一个实施方式中，所述反射层设置在阻挡由所述反射板反射的和从所述第一灯发射的光之中的、由所述反射板反射和/或从所述第一灯发射但不直接导向所述基板的光的位置处。
[0019]在一个实施方式中，所述第一灯设置为环形，所述灯单元还包括位于所述第一灯的内侧的一个或多个第二灯，并且所述反射层仅设置在所述第一灯和所述第二灯之中的所述第一灯处。
[0020]本专利技术构思提供了一种基板处理装置。
[0021]所述基板处理装置包括：碗状部，所述碗状部具有内部处理空间；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间内支撑基板；液体供应单元，所述液体供应单元向由所述支撑单元支撑的所述基板供应处理液，其中所述支撑单元包括：卡盘，所述卡盘支撑并旋转所述基板；加热单元，所述加热单元加热由所述卡盘支撑的所述基板；所述加热单元包括位于所述基板下方的第一灯，所述第一灯加热由所述卡盘支撑的所述基板，并在其表面的一部分上设置有反射层以阻挡和/或反射从所述第一灯发射但未被导向至所述基板的光，以将所述光导向至基板。
[0022]在一个实施方式中，所述第一灯设置为环形，所述加热单元设置为环形并且包括位于所述第一灯内侧的一个或多个第二灯，并且所述反射层仅设置在所述第一灯和所述第二灯之中的所述第一灯处。
[0023]在一个实施方式中，所述卡盘包括卡盘台和透射板，所述卡盘台和所述透射板组合限定了内部空间，所述透射板与所述基板相邻并且将从所述加热单元发射的光透射至所述基板，并且所述灯设置在所述卡盘的所述内部空间中。
[0024]在一个实施方式中，可以提供卡持销，所述卡持销在处理期间从所述卡盘台向上突出并支撑所述基板的边缘。
[0025]在一个实施方式中，所述加热单元设置为当所述卡盘旋转时不旋转。
[0026]在一个实施方式中，所述反射层位于如下位置：在所述位置，在上/下方向上从竖直横截面看，所述反射层的第一端位于穿过所述第一灯的中心和所述卡持销与由所述卡持销支撑的所述基板的接触点的线上。
[0027]在一个实施方式中，所述支撑单元还包括反射板，所述反射板包括将从所述第一
灯发射的光反射至所述基板的所述边缘区域的突起，并且所述反射层设置在所述第一灯的不面向所述突起的表面。
[0028]在一个实施方式中，所述突起被放置在：放置在所述灯的最外边缘处的所述第一灯和与所述第一灯相邻的所述第二灯之间。
[0029]在一个实施方式中，所述突起的至少一些包括形成为圆形的弯曲表面。
[0030]在一个实施方式中，所述反射层设置在所述第一灯的与面向所述突起的表面相反的表面。
[0031]本专利技术构思提供一种基板处理装置。
[0032]所述基板处理装置包括：碗状部，所述碗状部具有内部处理空间；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间内支撑基板；液体供应单元，所述液体供应单元向由所述支撑单元支撑的所述基板供应处理液，其中所述支撑单元包括：卡盘台，所述卡盘台支撑和旋转所述基板；加热单元，所述加热单元加热由所述卡盘支撑的所述基板；和透射板，所述透射板放置在由所述支撑单元支撑的所述基板和所述加热单元之间，透射从所述加热单元发射的光，所述加热单元包括：第一灯，所述第一灯位于所述卡盘台和由所述卡盘台支撑的所述基板之间，设置为环形，并且在其表面的一部分上设置有反射层；和一个或多个第二灯，所述一个或多个第二灯位于所述第一灯内侧。
[0033]在一个实施方式中，所述反射层不设置在直接朝向所述基板发射光的所述第一灯的所述表面的区域处。
[0034]在一个实施方式中，基板处本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种支撑基板的基板支撑单元，所述基板支撑单元包括：卡盘，所述卡盘支撑并旋转基板；和灯单元，所述灯单元设置在所述基板下方以加热所述基板，其中所述灯单元包括第一灯，所述第一灯在其表面上具有反射层以阻挡和/或反射从所述第一灯发射但未导向至所述基板的光以将所述光导向至所述基板。2.根据权利要求1所述的基板支撑单元，其中当从竖直横截面看时，所述反射层的第一端部位于从所述第一灯发射到所述基板的端部的光的第一路径上。3.根据权利要求2所述的基板支撑单元，其中所述支撑单元还包括反射板，所述反射板包括将从所述第一灯发射的光反射至所述基板的边缘区域的突起，并且所述反射层的第二端部位于从所述第一灯发射到所述反射板的边缘区域的光的第二路径上。4.根据权利要求1所述的基板支撑单元，其中所述支撑单元还包括反射板，所述反射板包括将从所述第一灯发射的光反射至所述基板的边缘区域的突起，并且所述反射层设置在所述第一灯的与面向所述突起的表面相反的表面。5.根据权利要求4所述的基板支撑单元，其中所述反射层设置在阻挡从所述第一灯发射但不直接导向所述基板的光的位置处。6.根据权利要求5所述的基板支撑单元，其中所述反射层设置在阻挡由所述反射板反射的和从所述第一灯发射的光之中的、由所述反射板反射和/或从所述第一灯发射但不直接导向所述基板的光的位置处。7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板支撑单元，其中所述第一灯设置为环形，所述灯单元还包括位于所述第一灯的内侧的一个或多个第二灯，并且所述反射层仅设置在所述第一灯和所述第二灯之中的所述第一灯处。8.一种基板处理装置，包括：碗状部，所述碗状部具有内部处理空间；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间内支撑基板；液体供应单元，所述液体供应单元向由所述支撑单元支撑的所述基板供应处理液，其中所述支撑单元包括：卡盘，所述卡盘支撑并旋转所述基板；加热单元，所述加热单元加热由所述卡盘支撑的所述基板；所述加热单元包括位于所述基板下方的第一灯，所述第一灯加热由所述卡盘支撑的所述基板，并在其表面的一部分上设置有反射层以阻挡和/或反射从所述第一灯发射但未被导向至所述基板的光以将所述光导向至基板。9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中所述第一灯设置为环形，所述加热单元设置为环形并且包括位于所述第一灯内侧的一个或多个第二灯，并且所述反射层仅设置在所述第一灯和所述第二灯之中的所述第一灯处。10.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中所述卡盘包括卡盘台和透射板，所述卡盘台和所述透射板组...

【专利技术属性】
技术研发人员：尹嫝燮，金喆求，崔重奉，宋修汉，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：