【技术实现步骤摘要】
支撑单元和包括该支撑单元的基板处理装置
[0001]在此描述的本专利技术构思的实施方式涉及一种支撑单元和包括该支撑单元的基板处理装置，更具体地，涉及一种用于在基板处理工艺期间在加热基板的同时执行工艺的支撑单元和包括该支撑单元的基板处理装置。
技术介绍
[0002]通常，执行各种工艺，例如光刻胶涂覆工艺、显影工艺、蚀刻工艺和灰化工艺以制造半导体器件或平面显示面板。在每个过程中，为了去除附着在基板上的各种污染物，执行使用化学品或去离子水的清洁工艺和用于干燥残留在基板表面上的化学品或去离子水的干燥工艺。
[0003]近来，正在执行使用高温化学品例如硫酸和磷酸来选择性地去除氮化硅膜和氧化硅膜的蚀刻工艺。在使用高温化学品的基板处理装置中，用于加热基板的基板处理装置用于提高蚀刻速率。美国专利申请公开号2016
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0013079公开了上述基板处理装置的实施方式。根据上述专利，基板处理装置包括用于在旋转头中加热基板的灯和用于反射由所述灯辐射的热的反射板。
[0004]然而，由于灯形式的热源是全方向发射的，因...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种支撑基板的基板支撑单元，所述基板支撑单元包括：卡盘，所述卡盘支撑并旋转基板；和灯单元，所述灯单元设置在所述基板下方以加热所述基板，其中所述灯单元包括第一灯，所述第一灯在其表面上具有反射层以阻挡和/或反射从所述第一灯发射但未导向至所述基板的光以将所述光导向至所述基板。2.根据权利要求1所述的基板支撑单元，其中当从竖直横截面看时，所述反射层的第一端部位于从所述第一灯发射到所述基板的端部的光的第一路径上。3.根据权利要求2所述的基板支撑单元，其中所述支撑单元还包括反射板，所述反射板包括将从所述第一灯发射的光反射至所述基板的边缘区域的突起，并且所述反射层的第二端部位于从所述第一灯发射到所述反射板的边缘区域的光的第二路径上。4.根据权利要求1所述的基板支撑单元，其中所述支撑单元还包括反射板，所述反射板包括将从所述第一灯发射的光反射至所述基板的边缘区域的突起，并且所述反射层设置在所述第一灯的与面向所述突起的表面相反的表面。5.根据权利要求4所述的基板支撑单元，其中所述反射层设置在阻挡从所述第一灯发射但不直接导向所述基板的光的位置处。6.根据权利要求5所述的基板支撑单元，其中所述反射层设置在阻挡由所述反射板反射的和从所述第一灯发射的光之中的、由所述反射板反射和/或从所述第一灯发射但不直接导向所述基板的光的位置处。7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板支撑单元，其中所述第一灯设置为环形，所述灯单元还包括位于所述第一灯的内侧的一个或多个第二灯，并且所述反射层仅设置在所述第一灯和所述第二灯之中的所述第一灯处。8.一种基板处理装置，包括：碗状部，所述碗状部具有内部处理空间；支撑单元，所述支撑单元在所述处理空间内支撑基板；液体供应单元，所述液体供应单元向由所述支撑单元支撑的所述基板供应处理液，其中所述支撑单元包括：卡盘，所述卡盘支撑并旋转所述基板；加热单元，所述加热单元加热由所述卡盘支撑的所述基板；所述加热单元包括位于所述基板下方的第一灯，所述第一灯加热由所述卡盘支撑的所述基板，并在其表面的一部分上设置有反射层以阻挡和/或反射从所述第一灯发射但未被导向至所述基板的光以将所述光导向至基板。9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中所述第一灯设置为环形，所述加热单元设置为环形并且包括位于所述第一灯内侧的一个或多个第二灯，并且所述反射层仅设置在所述第一灯和所述第二灯之中的所述第一灯处。10.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中所述卡盘包括卡盘台和透射板，所述卡盘台和所述透射板组...
【专利技术属性】
技术研发人员：尹嫝燮，金喆求，崔重奉，宋修汉，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：
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