图像自动匹配标记方法、装置、电子设备及存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术实施例公开了一种图像自动匹配标记方法、装置、电子设备及存储介质。该方法包括：获取待标记图像，并将所述待标记图像进行等间距划分得到至少两个第一网格；从所述第一网格中选取满足预设条件的网格得到第二网格；其中，所述满足预设条件包括第一网格内图像轮廓个数以及对比度同时满足预设条件；以所述第二网格内的图像轮廓为模板，在预设范围内进行模板匹配确定目标网格；其中，所述预设范围是以第二网格为中心进行扩大形成的范围区域；对所述目标网格进行标记确定目标标记图像，并输出所述目标标记图像的标记位置信息。采用本发明专利技术实施例的技术方案，以实现在图像中自动匹配标记位置，减少人工参与成本，提高检测效率。提高检测效率。提高检测效率。

【技术实现步骤摘要】
图像自动匹配标记方法、装置、电子设备及存储介质


[0001]本专利技术实施例涉及半导体检测领域，尤其涉及一种图像自动匹配标记方法、装置、电子设备及存储介质。

技术介绍

[0002]在工业缺陷检测领域，特别是在半导体缺陷检测领域，在图像检测之前需要对图像进行对准定位，而在图像定位时一般需要用到模板匹配的方法。模板匹配法定位图像时，需要先训练用于定位的匹配模型，在图像中利用模板匹配可以查找到该模型在图像中的坐标位置。
[0003]在以往训练匹配模型时，需要人工在图像中挑选合适的标记位置用来训练匹配模型，用来作为匹配标记的图像需要具有对比度高、轮廓易提取以及唯一性等特点。在半导体检测领域，由于其较高的检测精度要求，往往一张图片有着极高的分辨率，需要人工花费更多的时间在图片中寻找合适的匹配标记位置，影响检测效率。

技术实现思路

[0004]本专利技术实施例提供一种图像自动匹配标记方法、装置、电子设备及存储介质，以实现在图像中自动匹配标记位置，减少人工参与成本，提高检测效率。
[0005]第一方面，本专利技术实施例提供了一种图像自动匹配标记方法，包括：
[0006]获取待标记图像，并将所述待标记图像进行等间距划分得到至少两个第一网格；
[0007]从所述第一网格中选取满足预设条件的网格得到第二网格；其中，所述满足预设条件包括第一网格内图像轮廓个数以及对比度同时满足预设条件；
[0008]以所述第二网格内的图像轮廓为模板，在预设范围内进行模板匹配确定目标网格；其中，所述预设范围是以第二网格为中心进行扩大形成的范围区域；
[0009]对所述目标网格进行标记确定目标标记图像，并输出所述目标标记图像的标记位置信息。
[0010]第二方面，本专利技术实施例还提供了一种图像自动匹配标记装置，包括：
[0011]第一网格获取模块，用于获取待标记图像，并将所述待标记图像进行等间距划分得到至少两个第一网格；
[0012]第二网格获取模块，用于从所述第一网格中选取满足预设条件的网格得到第二网格；其中，所述满足预设条件包括第一网格内图像轮廓个数以及对比度同时满足预设条件；
[0013]目标网格获取模块，用于以所述第二网格内的图像轮廓为模板，在预设范围内进行模板匹配确定目标网格；其中，所述预设范围是以第二网格为中心进行扩大形成的范围区域；
[0014]图像位置标记模块，用于对所述目标网格进行标记确定目标标记图像，并输出所述目标标记图像的标记位置信息。
[0015]第三方面，本专利技术实施例还提供了一种电子设备，该电子设备包括：
[0016]一个或多个处理器；
[0017]存储装置，用于存储一个或多个程序；
[0018]当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理器执行，使得所述一个或多个处理器实现本专利技术任意实施例所述的图像自动匹配标记方法。
[0019]第四方面，本专利技术实施例还提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现本专利技术任意实施例所述的图像自动匹配标记方法。
[0020]本专利技术实施例提供了一种图像自动匹配标记方法、装置、电子设备和存储介质，通过获取待标记图像，并将所述待标记图像进行等间距划分得到至少两个第一网格；从所述第一网格中选取满足预设条件的网格得到第二网格；其中，所述满足预设条件包括第一网格内图像轮廓个数以及对比度同时满足预设条件；以所述第二网格内的图像轮廓为模板，在预设范围内进行模板匹配确定目标网格；其中，所述预设范围是以第二网格为中心进行扩大形成的范围区域；对所述目标网格进行标记确定目标标记图像，并输出所述目标标记图像的标记位置信息。采用本专利技术实施例的技术方案，将所述待标记图像划分为至少两个第一网格，并将所述第一网格进行对比度计算、轮廓提取以及模板匹配，获取满足图像匹配标记的目标网格图像，以实现在图像中自动匹配标记位置，减少人工参与成本，提高检测效率。
附图说明
[0021]通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本专利技术的其它特征、目的和优点将会变得更明显。附图仅用于示出优选实施方式的目的，而并不认为是对本专利技术的限制。而且在整个附图中，用相同的参考符号表示相同的部件。在附图中：
[0022]图1A是本专利技术实施例一提供的一种图像自动匹配标记方法的流程图；
[0023]图1B是本专利技术实施例提供的一种图像等间距划分示意图；
[0024]图1C是本专利技术实施例提供的一种将第一网格经过对比度计算后得到的第三网格图像的示意图；
[0025]图1D是本专利技术实施例提供的一种将第三网格经过轮廓提取后得到的第二网格图像的示意图；
[0026]图1E是本专利技术实施例提供的一种轮廓提取前后的对比示意图；
[0027]图1F是本专利技术实施例提供的一种将第二网格进行模板匹配后得到的目标网格的示意图；
[0028]图2A为本专利技术实施例二提供的一种图像自动匹配标记方法的流程图；
[0029]图2B是本专利技术实施例提供的一种第二网格内图像的轮廓长度以及角点个数的示意图；
[0030]图2C是本专利技术实施例提供的一种扩大矩形细分法示意图；
[0031]图2D是本专利技术实施例提供的一种螺旋线细分法示意图；
[0032]图2E是本专利技术实施例提供的一种唯一性验证流程示意图；
[0033]图2F是本专利技术实施例提供的一种细分后的网格进行唯一性验证后的所述图像示意图；
[0034]图2G是本专利技术实施例提供的一种可用于进行匹配标记的网格示意图；
[0035]图3是本专利技术实施例三提供的一种图像自动匹配标记装置的结构示意图；
[0036]图4是本申请实施例四提供的一种电子设备的结构示意图。
具体实施方式
[0037]下面结合附图和实施例对本专利技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本专利技术，而非对本专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本专利技术相关的部分而非全部结构。
[0038]在更加详细地讨论示例性实施例之前，应当提到的是，一些示例性实施例被描述成作为流程图描绘的处理或方法。虽然流程图将各项操作(或步骤)描述成顺序的处理，但是其中的许多操作(或步骤)可以被并行地、并发地或者同时实施。此外，各项操作的顺序可以被重新安排。当其操作完成时所述处理可以被终止，但是还可以具有未包括在附图中的附加步骤。所述处理可以对应于方法、函数、规程、子例程、子程序等等。
[0039]实施例一
[0040]图1A是本专利技术实施例一提供的一种图像自动匹配标记方法的流程图，本实施例可适用于对图像进行自动匹配标记的情况，本实施例的方法可以由图像自动匹配标记装置来执行，该装置可以采用硬件和/或软件的方式来实现。该装置可以配置于图像自动匹配标记的服务器中。该方法具体包括如下步骤：
[0041]S110、获取待标记图像，并将所述待标记图像进行等间距划分得到至少两本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种图像自动匹配标记方法，其特征在于，所述方法包括：获取待标记图像，并将所述待标记图像进行等间距划分得到至少两个第一网格；从所述第一网格中选取满足预设条件的网格得到第二网格；其中，所述满足预设条件包括第一网格内图像轮廓个数以及对比度同时满足预设条件；以所述第二网格内的图像轮廓为模板，在预设范围内进行模板匹配确定目标网格；其中，所述预设范围是以第二网格为中心进行扩大形成的范围区域；对所述目标网格进行标记确定目标标记图像，并输出所述目标标记图像的标记位置信息。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述从所述第一网格中选取满足预设条件的网格得到第二网格，包括：获取所述第一网格内图像的灰度值，通过对比度计算滤除小于预设对比度阈值的网格确定第三网格；对第三网格内的图像进行轮廓提取，滤除大于预设轮廓数量阈值的网格确定第二网格。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述以所述第二网格内的图像轮廓为模板，在预设范围内进行模板匹配确定目标网格，包括：以第二网格内的图像轮廓作为匹配模板；其中，所述第二网格内的图像轮廓是指能够包含第二网格内所有图像的轮廓；依据匹配模板在预设范围内进行模板匹配确定满足唯一性条件的目标网格；其中，所述唯一性条件包括匹配结果个数唯一且匹配模板的中心点与匹配到的模板的中心点距离小于预设距离。4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述以所述第二网格内的图像轮廓为模板，在预设范围内进行模板匹配确定目标网格，还包括：获取第二网格内图像的属性信息，并依据所述属性信息对第二网格进行筛选确定可用于创建匹配模型的第二网格；其中，所述第二网格内图像的属性信息包括图像轮廓长度以及图像角点个数。5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述依据所述属性信息对第二网格进行筛选确定可用于创建匹配模型的第二网格，包括：获取第二网格内图像的轮廓长度，并滤除小于预设轮廓长度阈值的...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘翔，
申请(专利权)人：合肥御微半导体技术有限公司，
类型：发明
国别省市：