一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备，涉及激光直写光刻设备技术领域，包括底座、底板、支架、曝光机构、放置槽、伸缩杆、推块、转轴、第二丝杆、第一齿轮、安装块和触点等。本实用新型专利技术通过曝光机构和第一丝杆配合，当其中一个工作台上的曝光基板进行曝光工作的同时，可对于另一个工作台上的曝光基板进行更换工作，使得曝光工作和更换工作同步进行并且可以循环工作，缩短了曝光时间，保证了装置的工作效率，曝光机构和其中一个触点进行接触，使得双向电机停止运动，从而对于曝光机构的位置进行固定，工作台的位置随之固定，从而自动完成曝光机构和工作台的定位工作，保证了装置工作时的稳定性。保证了装置工作时的稳定性。保证了装置工作时的稳定性。

【技术实现步骤摘要】
一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备


[0001]本技术涉及激光直写光刻设备
，具体为一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备。

技术介绍

[0002]光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图。这样的衬底可包括用于制造半导体器件、多种集成电路、平面显示器、电路板、生物芯片、微机械电子芯片、光电子线路芯片，为了在晶片上制造器件，需要多个分划板，高能激光在光敏感衬底上直接产生图形，加工速度慢，单个晶片曝光时间长。直写光刻技术是近年发展较快的、以替代传统的掩膜版或菲林底片等曝光的影像直接转移技术，在半导体及PCB生产领域有着非常重要的作用，可以缩短工艺流程，并降低制造成本。
[0003]现有的直写式光刻机大多以单工件台方式进行扫描曝光工作，在单工件台的系统中，用于曝光的基板的上板、对准、曝光、下板是依次进行的，曝光的时间较长，影响装置的工作效率。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为了解决上述技术问题，本技术提供如下技术方案：一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备，包括底座，所述底座顶部设有底板，所述底座顶部于所述底板外侧设有支架，所述底板内壁两侧对称设有转动连接的第一丝杆，所述底板内部于其中一个所述第一丝杆一侧开设有空腔，所述空腔内壁一侧设有双向电机，所述双向电机一个输出轴与其中一个所述第一丝杆固定连接，两个所述第一丝杆外壁套设有同一个滑动连接的第一履带，所述第一丝杆外壁套设有转动连接的工作台，所述工作台与所述底板滑动连接，所述支架内壁设有滑动连接的曝光机构，所述工作台顶部设有放置机构，所述支架外壁设有转动机构，所述支架内壁设有限位机构。
[0006]进一步的，所述放置机构包括放置槽，所述放置槽开设于所述工作台顶部，所述放置槽内壁两侧对称设有伸缩杆，所述伸缩杆输出轴套设有推块，所述推块与所述放置槽滑动连接，用于放置曝光基板。
[0007]进一步的，所述转动机构包括转轴，所述转轴转动设置于所述支架外壁一侧，所述转轴外壁靠近所述曝光机构一端设有第二丝杆，所述第二丝杆与所述曝光机构转动连接，所述双向电机另一个输出轴于所述空腔内部套设有第一齿轮，所述空腔内壁一侧设有转动连接的第二齿轮，所述第一齿轮与所述第二齿轮啮合，所述第二齿轮外壁靠近所述转轴一侧设有连接杆，所述连接杆一端延伸至所述底板外侧，所述连接杆与所述转轴外壁套设有同一个滑动连接的第二履带，带动曝光机构进行左右运动。
[0008]进一步的，所述工作台内部设有与所述第一丝杆相匹配的第一丝杆螺母，所述底
板顶部设有与所述工作台相匹配的滑轨，通过第一丝杆螺母带动工作台进行运动，滑轨保证了工作台运动时的稳定性。
[0009]进一步的，所述曝光机构内部设有与所述第二丝杆相匹配的第二丝杆螺母，所述空腔内壁设有与所述第二齿轮相匹配的滚珠轴承，通过第二丝杆螺母带动曝光机构进行运动，滚珠轴承保证了第二齿轮运动时的稳定性。
[0010]进一步的，所述限位机构包括两个安装块，两个所述安装块对称设置于所述支架内壁两侧，所述安装块外壁靠近所述曝光机构一侧设有触点，两个所述触点均与所述双向电机电性连接，对于曝光机构的位置起到限位作用。
[0011]与现有技术相比，本技术所达到的有益效果是：
[0012]1、本技术通过设置第一丝杆、第一履带、工作台和曝光机构，通过曝光机构和第一丝杆配合，当其中一个工作台上的曝光基板进行曝光工作的同时，可对于另一个工作台上的曝光基板进行更换工作，使得曝光工作和更换工作同步进行并且可以循环工作，缩短了曝光时间，保证了装置的工作效率。
[0013]2、本技术通过设置安装块和触点，随着运动的进行，曝光机构和其中一个触点进行接触，使得双向电机停止运动，从而对于曝光机构的位置进行固定，双向电机停止运动时，工作台的位置随之固定，从而自动完成曝光机构和工作台的定位工作，保证了装置工作时的稳定性。
附图说明
[0014]附图用来提供对本技术的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本技术的实施例一起用于解释本技术，并不构成对本技术的限制。在附图中：
[0015]图1是本技术整体的主视图；
[0016]图2是本技术底座的俯视剖面图；
[0017]图3是本技术支架的侧视图；
[0018]图4是本技术工作台的结构示意图；
[0019]图中：1、底座；2、底板；3、支架；4、第一丝杆；5、空腔；6、双向电机；7、第一履带；8、工作台；9、曝光机构；10、放置槽；11、伸缩杆；12、推块；13、转轴；14、第二丝杆；15、第一齿轮；16、第二齿轮；17、连接杆；18、第二履带；19、安装块；20、触点。
具体实施方式
[0020]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0021]请参阅图1
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4，本技术提供技术方案：一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备，包括底座1，所述底座1顶部设有底板2，所述底座1顶部于所述底板2外侧设有支架3，所述底板2内壁两侧对称设有转动连接的第一丝杆4，所述底板2内部于其中一个所述第一丝杆4一侧开设有空腔5，所述空腔5内壁一侧设有双向电机6，所述双向电机6一个输出轴与其中一个所述第一丝杆4固定连接，两个所述第一丝杆4外壁套设有同一个滑动连接的第一
履带7，所述第一丝杆4外壁套设有转动连接的工作台8，所述工作台8与所述底板2滑动连接，所述支架3内壁设有滑动连接的曝光机构9，所述工作台8顶部设有放置机构，所述放置机构包括放置槽10，所述放置槽10开设于所述工作台8顶部，所述放置槽10内壁两侧对称设有伸缩杆11，所述伸缩杆11输出轴套设有推块12，所述推块12与所述放置槽10滑动连接，所述支架3外壁设有转动机构，所述转动机构包括转轴13，所述转轴13转动设置于所述支架3外壁一侧，所述转轴13外壁靠近所述曝光机构9一端设有第二丝杆14，所述第二丝杆14与所述曝光机构9转动连接，所述双向电机6另一个输出轴于所述空腔5内部套设有第一齿轮15，所述空腔5内壁一侧设有转动连接的第二齿轮16，所述第一齿轮15与所述第二齿轮16啮合，所述第二齿轮16外壁靠近所述转轴13一侧设有连接杆17，所述连接杆17一端延伸至所述底板2外侧，所述连接杆17与所述转轴13外壁套设有同一个滑动连接的第二履带18。
[0022]所述工作台8内部设有与所述第一丝杆4相匹配的第一丝杆螺母，所述底板2顶部设有与所述工作台8相匹配的滑轨，第一丝杆4和第一丝杆螺母相对转动，带动第一丝杆螺母进行运动，工作台8随之进行运动，滑轨对于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)顶部设有底板(2)，所述底座(1)顶部于所述底板(2)外侧设有支架(3)，所述底板(2)内壁两侧对称设有转动连接的第一丝杆(4)，所述底板(2)内部于其中一个所述第一丝杆(4)一侧开设有空腔(5)，所述空腔(5)内壁一侧设有双向电机(6)，所述双向电机(6)一个输出轴与其中一个所述第一丝杆(4)固定连接，两个所述第一丝杆(4)外壁套设有同一个滑动连接的第一履带(7)，所述第一丝杆(4)外壁套设有转动连接的工作台(8)，所述工作台(8)与所述底板(2)滑动连接，所述支架(3)内壁设有滑动连接的曝光机构(9)，所述工作台(8)顶部设有放置机构，所述支架(3)外壁设有转动机构，所述支架(3)内壁设有限位机构。2.根据权利要求1所述的一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备，其特征在于：所述放置机构包括放置槽(10)，所述放置槽(10)开设于所述工作台(8)顶部，所述放置槽(10)内壁两侧对称设有伸缩杆(11)，所述伸缩杆(11)输出轴套设有推块(12)，所述推块(12)与所述放置槽(10)滑动连接。3.根据权利要求1所述的一种可以缩短曝光时间的激光直写光刻设备，其特征在于：所述转动机构包括转轴(13)，所述转轴(13)转动设置于所述支架(3)外壁一侧，所述转轴(13)外壁靠近...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨彬，
申请(专利权)人：珠海驰铭精密电路有限公司，
类型：新型
国别省市：