一种晶圆清洗设备的消泡储液槽制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶圆清洗设备的消泡储液槽，涉及晶圆清洗技术领域，包括泡沫驱赶装置、泡沫挡板组件、清洗液引流板、泡沫处理装置、清洗液存放室和储液槽体，当清洗液由进液口并通过清洗液引流板向清洗液存放室输送时，会有泡沫产生，此时，泡沫驱赶装置可对泡沫挡板组件进行驱动，使泡沫挡板组件不间断的将清洗液引流板上的泡沫驱赶至泡沫处理装置内，再由泡沫处理装置对清洗液泡沫进行消除，以减少泡沫的产生，并防止过多的泡沫回流对进液口造成影响。造成影响。造成影响。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆清洗设备的消泡储液槽


[0001]本技术涉及晶圆清洗
，尤其涉及一种晶圆清洗设备的消泡储液槽。

技术介绍

[0002]晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅，高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅，硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆。
[0003]晶圆清洗，是晶圆在不断被加工成形及抛光处理的过程中，由于与各种有机物、粒子及金属接触而产生的污染物清除的工艺，是晶圆制造过程中的一个重要工艺步骤。
[0004]在现有技术中晶圆清洗用的消泡储液槽是通过设置回流挡板以减少清洗液之间的冲击力而达到消除泡沫的效果，但在清洗液与回流挡板接触时也会有泡沫产生，过多的泡沫会对储液槽及进液口造成影响。

技术实现思路

[0005]本技术实施例提供一种晶圆清洗设备的消泡储液槽，以解决现有技术中晶圆清洗用的消泡储液槽是通过设置回流挡板以减少清洗液之间的冲击力而达到消除泡沫的效果，但在清洗液与回流挡板接触时也会有泡沫产生，过多的泡沫会对储液槽及进液口造成影响的技术问题本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆清洗设备的消泡储液槽，其特征在于，包括泡沫驱赶装置(1)、泡沫挡板组件(2)、清洗液引流板(3)、泡沫处理装置(4)、清洗液存放室(5)和储液槽体(6)，所述泡沫驱赶装置(1)设置在储液槽体(6)上，且泡沫驱赶装置(1)与储液槽体(6)相连接，所述泡沫挡板组件(2)设置在储液槽体(6)的内部，且泡沫挡板组件(2)与泡沫驱赶装置(1)相连接，所述清洗液引流板(3)安装在储液槽体(6)的内部且处于泡沫挡板组件(2)的下方，所述储液槽体(6)上靠近清洗液引流板(3)位置设有进液口，所述泡沫处理装置(4)设置在清洗液引流板(3)的一侧，所述清洗液存放室(5)设置在泡沫处理装置(4)与清洗液引流板(3)的下方。2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗设备的消泡储液槽，其特征在于，所述泡沫驱赶装置(1)包括驱动板(11)、泡沫驱动杆(12)、驱动引导部件(13)、引导支撑杆(14)、抵止组件(15)、泡沫驱赶电机(16)和驱赶支撑架(17)，所述驱动板(11)上设有导向槽(18)，所述泡沫驱动杆(12)设置在驱动板(11)的一侧，且泡沫驱动杆(12)与驱动板(11)转动连接，所述引导支撑杆(14)设置在泡沫驱动杆(12)的侧端，所述引导支撑杆(14)上设有滑槽，所述驱动引导部件(13)设置在引导支撑杆(14)与泡沫驱动杆(12)之间，所述驱动引导部件(13)的一侧套设在引导支撑杆(14)上且另一侧与泡沫驱动杆(12)转动连接，所述驱动引导部件(13)与引导支撑杆(14)的接触面设有与滑槽相适配的凸块，所述抵止组件(...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆先锋，
申请(专利权)人：无锡颂林达科技有限公司，
类型：新型
国别省市：