【技术实现步骤摘要】
一种用于磁控溅射设备回流传输的调整装置
[0001]本技术涉及磁控溅射领域，尤其涉及一种用于磁控溅射设备回流传输的调整装置。
技术介绍
[0002]磁控溅射是物理气相沉积的一种，一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。
[0003]在进行平板太阳能的集热器吸热体磁控溅射镀膜生产过程中，需用到一种用于传输吸热体镀膜的回流传输装置，其中为了避免在传输过程中产生颠簸，或装置整体位移，会使用调整装置对回流传输装置进行调整。
[0004]而现在位置偏移的回流传输装置进行位置调整时，由于传输固定块、调整块之间时通过多个螺栓固定的，在调整时需要大量拆卸螺栓，浪费时间，降低调整效率。
[0005]因此，有必要提供一种用于磁控溅射设备回流传输的调整装置解决上述技术问题。
技术实现思路
[0006]本技术提供一种用于磁控溅射设备回流传输的调整装置，解决了现有的调整装置上的传送固定块、调整块通过多个螺栓固定，调整时拆卸耗费较多时间的问题。
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于磁控溅射设备回流传输的调整装置，其特征在于，包括：支架；支撑杆，所述支撑杆固定连接于所述支架的顶部的前后两侧，所述支撑杆的顶端固定连接有第一固定板；第二固定板，所述第二固定板设置于所述第一固定板的顶部的中间；卡接组件，所述卡接组件固定连接于所述第一固定板的底部的中间，所述卡接组件的顶端贯穿所述第一固定板和所述第二固定板且延伸至所述第二固定板的顶部；脚座，所述脚座设置于所述第二固定板的顶部的中间，所述脚座中间设置有螺纹杆，所述螺纹杆的顶端螺纹连接有传送装置。2.根据权利要求1所述的用于磁控溅射设备回流传输的调整装置，其特征在于，所述第二固定板顶部的四周均固定连接有条形槽，所述第二固定板的顶部且位于所述条形槽内表面的左右两侧均开设有卡槽。3.根据权利要求2所述的用于磁控溅射设备回流传输的调整装置，其特征在于，所述卡接组件包括工字板，所述工字板顶部的四周均转动连接有卡杆，所述卡杆的顶端贯穿所述第一固定板且延伸至所述条形槽的内部，所述卡杆两侧的顶部均固定连接有卡块，所述卡块的一端延伸至所述卡槽的内部。4.根据权利要求3所述的用于磁控溅射设备回流传输的调整装置，其特征在于，所述...
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