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本实用新型提供一种用于磁控溅射设备回流传输的调整装置，包括：支架；支撑杆，所述支撑杆固定连接于所述支架的顶部的前后两侧，所述支撑杆的顶端固定连接有第一固定板；第二固定板，所述第二固定板设置于所述第一固定板的顶部的中间；卡接组件，所述卡接组件...
该专利属于厦门大学所有，仅供学习研究参考，未经过厦门大学授权不得商用。

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