压印衬底制造技术

本实用新型专利技术提供一种压印衬底，用于固定于压印设备的载物台上，压印衬底为用于制备衍射光学元件或微透镜阵列的压印衬底，压印衬底包括：功能部和稳定部，功能部用于涂覆光固化或热固化胶水，功能部具有厚度均匀的有效区和包围有效区的无效区，有效区用于作为纳米压印图形的承载区域。稳定部固定设置于功能部的无效区上，且稳定部的厚度大于功能部的厚度。本实用新型专利技术的实施例利用稳定部的重力抵抗胶水固化过程中的内缩应力，避免了衬底翘曲变形，提高了产品的合格率，进而为选择大尺寸超薄衬底提供了条件。同时，本实用新型专利技术还提供了一种压印方法，依靠前述的压印衬底进行纳米压印。依靠前述的压印衬底进行纳米压印。依靠前述的压印衬底进行纳米压印。

【技术实现步骤摘要】
压印衬底


[0001]本技术大致涉及纳米压印
，尤其是一种压印衬底。

技术介绍

[0002]纳米压印技术是一种通过模板将图形转移到衬底上的技术，依靠其高精度的特点能够用于加工纳米级元器件，例如制备衍射光学元件或微透镜阵列。纳米压印工艺过程是在衬底上形成一层高分子材料，依靠压印设备的机械力将模板上的图案压紧在还未固化的高分子材料层上，高分子材料层经过固化后在衬底上形成了与模板图形完全相反的结构，完成整个压印过程。高分子材料通常会选择含有光固化或热固化树脂的胶水，这类材料在固化过程中会发生收缩，而与其固定的衬底也会受到胶水内缩应力的影响。在衬底本身结构强度足够的情况下，胶水的内缩应力并不会对最终产品的质量产生严重影响，但随着技术发展和市场需求提升，对于减小衬底厚度，提高衬底尺寸的要求越来越高，尤其是在光学元件领域，大尺寸超薄元件具有更大的产品竞争力。但随着衬底厚度减薄，尺寸增大，其结构强度无法抵抗胶水的内缩应力，会造成变形和翘曲，在衬底的边缘处以及涂覆胶水的分界位置尤为明显，导致后续工艺良率降低，甚至无法正常运行，严重影响产品质量。
[0003]
技术介绍
部分的内容仅仅是专利技术人所知晓的技术，并不当然代表本领域的现有技术。

技术实现思路

[0004]针对现有技术中的一个或多个缺陷，本技术提供一种压印衬底，用于制备衍射光学元件或微透镜阵列，能够有效抵抗胶水固化过程中产生的内缩应力，防止衬底翘曲或变形，提高产品的合格率。本技术还提供了一种压印方法，用以配合前述的压印衬底。
[0005]为解决上述技术问题，本技术采用如下的技术方案：
[0006]一种压印衬底，用于固定于压印设备的载物台上，所述压印衬底为用于制备衍射光学元件或微透镜阵列的压印衬底，所述压印衬底包括：
[0007]功能部，所述功能部用于涂覆光固化或热固化胶水，所述功能部具有厚度均匀的有效区和包围有效区的无效区，所述有效区用于作为纳米压印图形的承载区域；和
[0008]稳定部，所述稳定部固定设置于所述功能部的无效区上，且稳定部突出于所述功能部，所述稳定部的重力用于抵消或部分抵消所述胶水固化变形的内缩应力。
[0009]根据本技术的一个方面，其中所述功能部的两面均为平整的平面，两面均可以作为承载纳米压印图形的有效区，所述稳定部设置在所述功能部的其中一个平面上或者所述功能部的两面上。
[0010]根据本技术的一个方面，其中所述稳定部围绕所述功能部的边缘区域设置，所述功能部的厚度不大于0.55毫米，所述稳定部的厚度为功能部厚度的1
‑
5倍。
[0011]根据本技术的一个方面，其中所述功能部的厚度不大于0.3毫米。
[0012]根据本技术的一个方面，其中所述功能部由玻璃、石英、刚玉、多晶硅、金刚石和塑料中的一种或多种制成。
[0013]根据本技术的一个方面，其中所述功能部为晶圆玻璃。
[0014]根据本技术的一个方面，其中所述功能部的直径不小于6英寸。
[0015]根据本技术的一个方面，其中所述稳定部远离所述功能部的表面上开设有一个或多个放射状沟槽，用于在压印的过程中将胶水排出。
[0016]根据本技术的一个方面，其中所述放射状沟槽为弧形，所述沟槽的弧形弯曲方向与旋涂工艺的旋转方向一致。
[0017]根据本技术的一个方面，其中所述稳定部朝向压印设备的载物台放置，稳定部配置成能够保持所述功能部用于承载纳米压印图形的一面平行于所述载物台。
[0018]根据本技术的一个方面，其中所述功能部和所述稳定部由相同的材料一体成型。
[0019]根据本技术的一个方面，其中所述功能部与所述稳定部之间具有平滑的过渡区域。
[0020]根据本技术的一个方面，其中所述功能部和所述稳定部贴合，并经胶粘固定。
[0021]根据本技术的一个方面，其中所述功能部的外缘与所述稳定部的外缘基本重合。
[0022]根据本技术的一个方面，所述压印衬底还包括由所述稳定部围绕的垫板，所述垫板与所述功能部贴合，并置于所述功能部与所述载物台之间，用于支撑所述功能部。
[0023]根据本技术的一个方面，其中所述垫板具有与所述载物台上的真空线对应的通孔。
[0024]本技术的技术方案还包括一种压印方法，所述压印方法包括：
[0025]S101：制备压印衬底，所述压印衬底为用于制备衍射光学元件或微透镜阵列的压印衬底，所述压印衬底具有功能部和稳定部，所述功能部具有厚度均匀的有效区和包围有效区的无效区，所述有效区用于作为纳米压印图形的承载区域，所述稳定部设置于所述功能部的无效区上，且稳定部突出于所述功能部，所述稳定部的重力用于抵消或部分抵消所述胶水固化变形的内缩应力；
[0026]S102：将压印衬底的一侧固定在压印设备的载物台上；
[0027]S103：在压印衬底的另一侧上涂覆光固化或热固化胶水；
[0028]S104：利用压印设备在胶水上完成压印；
[0029]S105：固化所述胶水。
[0030]根据本技术的一个方面，其中所述步骤S101包括：将所述功能部和稳定部一体成型。
[0031]根据本技术的一个方面，其中所述步骤S101包括：分别制备所述功能部和稳定部，并将所述稳定部贴合在所述功能部上，并使用粘胶固定。
[0032]根据本技术的一个方面，其中所述步骤S102包括：通过真空吸附、静电吸附或胶粘固定的方式将压印衬底固定在压印设备的载物台上。
[0033]根据本技术的一个方面，其中所述稳定部设置于所述功能部的一侧，所述功能部不具有稳定部的一侧吸附于所述载物台上。
[0034]根据本技术的一个方面，其中所述稳定部远离所述功能部的一侧开设有一个或多个放射状沟槽，其中所述沟槽为弧形，所述步骤S103包括：采用旋涂工艺刷涂光固化或热固化胶水，所述沟槽的弧形弯曲方向与旋涂工艺的旋转方向一致。
[0035]根据本技术的一个方面，其中所述稳定部设置于所述功能部的一侧或两侧，所述功能部具有稳定部的一侧固定于所述载物台上，所述步骤S102中还包括在所述功能部与所述载物台之间放置垫板，或使用具有与所述功能部有效区相匹配的凸台的载物台承载所述压印衬底，以支撑所述功能部。
[0036]根据本技术的一个方面，当所述步骤S102中，采用真空吸附固定所述压印衬底时，所述垫板具有与所述载物台上的真空线对应的通孔。
[0037]与现有技术相比，本技术的实施例提供了一种压印衬底，用于制备衍射光学元件或微透镜阵列，利用稳定部的重力抵抗胶水固化过程中的内缩应力，避免了衬底翘曲变形，提高了产品的合格率，进而为选择大尺寸超薄衬底提供了条件。同时，本技术还提供了一种压印方法，依靠前述的压印衬底进行纳米压印。
附图说明
[0038]附图用来提供对本技术的进一步理本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种压印衬底，用于固定于压印设备的载物台上，所述压印衬底为用于制备衍射光学元件或微透镜阵列的压印衬底，其特征在于，所述压印衬底包括：功能部，所述功能部用于涂覆光固化或热固化胶水，所述功能部具有厚度均匀的有效区和包围有效区的无效区，所述有效区用于作为纳米压印图形的承载区域；和稳定部，所述稳定部固定设置于所述功能部的无效区上，且稳定部突出于所述功能部，所述稳定部的重力用于抵消或部分抵消所述胶水固化变形的内缩应力。2.根据权利要求1所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部的两面均为平整的平面，两面均可以作为承载纳米压印图形的有效区，所述稳定部设置在所述功能部的其中一个平面上或者所述功能部的两面上。3.根据权利要求1所述的压印衬底，其特征在于，其中所述稳定部围绕所述功能部的边缘区域设置，所述功能部的厚度不大于0.55毫米，所述稳定部的厚度为功能部厚度的1
‑
5倍。4.根据权利要求3所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部的厚度不大于0.3毫米。5.根据权利要求1所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部由玻璃、石英、刚玉、多晶硅、金刚石或塑料制成。6.根据权利要求5所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部为晶圆玻璃。7.根据权利要求6所述的压印衬底，其特征在于，其中所述功能部的直径不小于6英寸。8.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐琦，张国伟，刘博，蒋超，田克汉，王淼，
申请(专利权)人：北京驭光科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：