一种单晶炉副室制造技术

本实用新型专利技术涉及一种清扫擦拭更加方便的单晶炉副室。采用的技术方案包括：单晶炉副室本体，所述单晶炉副室本体的侧壁至少设有一个清洗窗，所述清洗窗包括焊接于所述单晶炉副室本体侧壁上的底座以及通过铰链铰接于所述底座一端的上盖所述上盖内设有冷却液流道、一侧设有与所述冷却液流道连通的进水口和出水口。优点如下：1、通过在单晶炉副室本体侧壁设置一组清洗窗，通过清洗窗可对单晶炉副室本体进行分段清扫擦拭，可以不需要将单晶炉副室本体拆卸。卸。卸。

【技术实现步骤摘要】
一种单晶炉副室


[0001]本技术涉及一种单晶炉副室。

技术介绍

[0002]单晶炉副室是单晶炉的重要组件之一，当单晶棒拉制结束后，单晶炉副室内壁会粘有挥发物，需要每炉都要清扫擦拭。由于单晶炉副室是一个数米高的筒状结构，对其内壁的清扫擦拭非常的麻烦，传统通常需要将其拆卸后，再利用很长的清扫擦拭装置从单晶炉副室的端口插入进行清扫擦拭，存在清扫擦拭麻烦、维护周期长等缺点，从而大大降低了生产效率和提高了生产成本。

技术实现思路

[0003]本技术要解决的技术问题是提供一种清扫擦拭更加方便的单晶炉副室。
[0004]为解决上述问题，本技术采用的技术方案包括：单晶炉副室本体，其特征在于：所述单晶炉副室本体的侧壁至少设有一个清洗窗，所述清洗窗包括焊接于所述单晶炉副室本体侧壁上的底座以及通过铰链铰接于所述底座一端的上盖所述上盖内设有冷却液流道、一侧设有与所述冷却液流道连通的进水口和出水口。
[0005]所述的单晶炉副室，其特征在于：所述冷却液流道由相对的设置在所述上盖上端、且交错设置的第一筋板、第二筋板围成，在所述上盖上端焊接有封盖于所述冷却液流道的封盖板。
[0006]所述的单晶炉副室，其特征在于：所述封盖板对应所述第一筋板、第二筋板位置处设有焊接孔。
[0007]所述的单晶炉副室，其特征在于：所述底座、上盖之间设有密封圈。
[0008]所述的单晶炉副室，其特征在于：所述底座的另一端通过安装座设有可转动的螺杆座，所述螺杆座上设有锁紧螺杆，所述上盖上设有与所述锁紧螺杆配合的“U”形锁紧口。
[0009]所述的单晶炉副室，其特征在于：所述单晶炉副室本体侧壁的上、中、下位置均设有所述清洗窗。
[0010]本技术的单晶炉副室优点如下：1、通过在单晶炉副室本体侧壁设置一组清洗窗，通过清洗窗可对单晶炉副室本体进行分段清扫擦拭，可以不需要将单晶炉副室本体拆卸，便可借助较便捷的清扫擦拭装置或直接用手就能完成清扫擦拭工作，从而大大提高了清扫擦拭的便捷性和效率；2、清洗窗上设有冷却系统，也不会影响单晶炉的晶体生长。
[0011]下面结合说明书附图对本技术做进一步说明。
附图说明
[0012]图1是本技术单晶炉副室的结构示意图；
[0013]图2是本技术单晶炉副室的剖视图；
[0014]图3是本技术清洗窗的爆炸图；
[0015]图4是本技术上盖的结构示意图；
[0016]图5是本技术封盖板的结构示意图；
[0017]图6是本技术底座的结构示意图。
具体实施方式
[0018]参照图1
‑
6所示，本技术的单晶炉副室，包括单晶炉副室本体1，所述单晶炉副室本体1的侧壁的上、中、下位置均设置所述清洗窗2。所述清洗窗2包括焊接于所述单晶炉副室本体1侧壁上的底座3以及通过铰链17铰接于所述底座3一端的上盖4。所述单晶炉副室本体1的侧壁由内壁和外壁组成，所述内壁和外壁之间的空隙用于装冷却水。所述底座3底部也设有分别与所述单晶炉副室本体1的内壁和外壁焊接的底座内壁18、内壁外壁19。所述上盖4内设有冷却液流道5，且所述上盖4一侧设有与所述冷却液流道5连通的进水口6和出水口7。所述进水口6、出水口7可分别与管道连接，使所述冷却液流道5内形成循环冷却水路。
[0019]优选的，所述冷却液流道5由相对的设置在所述上盖4上端，且交错设置的第一筋板8、第二筋板9围成，使所述冷却液流道5形成连续的“S”形结构。所述第一筋板8、第二筋板9与所述上盖4一体加工成型。最后在所述上盖4上端焊接有封盖于所述冷却液流道5的封盖板10。通过上述结构，以方便在所述上盖4上端对所述冷却液流道5的加工、且冷却效果理想。
[0020]优选的，所述封盖板10对应所述第一筋板8、第二筋板9位置处设有焊接孔11。通过对所述焊接孔11进行焊接，使所述封盖板10与所述第一筋板8、第二筋板9进行连接，以提高所述封盖板10的连接强度，以防止所述封盖板10因压力过高而变形。
[0021]优选的，所述底座3、上盖4之间设有密封圈12，以提高所述底座3、上盖4之间密封性能。
[0022]优选的，所述底座3的另一端通过安装座13设有可转动的螺杆座14，所述螺杆座14上设有锁紧螺杆15，所述上盖4上设有与所述锁紧螺杆15配合的“U”形锁紧口16，通过上述结构，可实现所述底座3、上盖4之间的快速锁定或打开。
[0023]上所述，并非对本技术做任何形式上的限制，虽然本技术已以较佳实施案例揭示如上，然而并非用以限定本技术，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本技术技术方案范围内，当可利用上述揭示的结构及
技术实现思路
做出些许的更动或修饰为等同变化的等效实施案例，但是凡是未脱离本技术技术方案的内容，依据本技术的技术实质对以上实施案例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属本技术技术方案范围。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种单晶炉副室，包括单晶炉副室本体（1），其特征在于：所述单晶炉副室本体（1）的侧壁至少设有一个清洗窗（2），所述清洗窗（2）包括焊接于所述单晶炉副室本体（1）侧壁上的底座（3）以及通过铰链（17）铰接于所述底座（3）一端的上盖（4），所述上盖（4）内设有冷却液流道（5）、一侧设有与所述冷却液流道（5）连通的进水口（6）和出水口（7）。2.根据权利要求1所述的单晶炉副室，其特征在于：所述冷却液流道（5）由相对的设置在所述上盖（4）上端、且交错设置的第一筋板（8）、第二筋板（9）围成，在所述上盖（4）上端焊接有封盖于所述冷却液流道（5）的封盖板（10）。3.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：周云龙，
申请(专利权)人：浙江晶泰半导体有限公司，
类型：新型
国别省市：