用于制备低聚物的设备制造技术

本发明专利技术涉及一种用于制备低聚物的设备，更具体地，涉及一种用于制备低聚物的设备，包括：反应器，该反应器包括在下部设置有第一气体反应物入口的气体区域，和在所述气体区域上方包括与气体反应物接触的反应介质的反应区域；第二气体反应物入口和第三气体反应物入口，所述第二气体反应物入口设置在所述气体区域中的反应器内壁上，所述第三气体反应物入口设置在面对所述第二气体反应物入口的反应器内壁上；以及第一注射喷嘴和第二注射喷嘴，所述第一注射喷嘴与所述第二气体反应物入口连接，所述第二注射喷嘴与所述第三气体反应物入口连接。二注射喷嘴与所述第三气体反应物入口连接。二注射喷嘴与所述第三气体反应物入口连接。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制备低聚物的设备


[0001]对相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2020年9月22日提交的韩国专利申请No.10
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2020
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0121969的优先权的权益，其全部内容作为本说明书的一部分并入本文中。

[0003][0004]本专利技术涉及一种用于制备低聚物的设备，更具体地，涉及一种用于制备低聚物的设备，当反应器内发生滴漏现象时，该设备通过在短时间内使工艺不稳定性最小化而在不停止工艺运行的情况下确保稳定的运行时间。

技术介绍

[0005]α
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烯烃是一种在共聚单体、洗涤剂、润滑剂、增塑剂等中使用的重要材料，并且在商业上广泛使用。其中，1
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己烯和1
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辛烯在制备线性低密度聚乙烯(LLDPE)中已广泛用作调节聚乙烯的密度的共聚单体。
[0006]α
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烯烃代表性地通过乙烯的低聚反应来制备。作为进行乙烯低聚反应的反应器的类型，已使用鼓泡塔反应器，该鼓泡塔反应器通过使用作反应物的气体乙烯与包括包含催化剂的液体反应介质的反应区域接触而进行乙烯的低聚反应(三聚反应或四聚反应)。
[0007]在鼓泡塔反应器中，通过安装在鼓泡塔反应器下部的多孔分散板将气体反应物引入并同时分散在包括液体反应介质的反应区域中，并且通过分散气体的力产生湍流，使得液体反应介质和气体反应物自然地相互混合。
[0008]在这种情况下，用于有效混合的气体反应物入口的最理想位置是反应器下部的中心处。然而，在进行混合的初始稳定阶段，会发生如下问题：除了根据反应的预期低聚物外，由于在催化反应中产生的副产物即聚合物而阻碍了气体反应物的分散流动，或者由于在操作流量控制装置时操作人员的错误使气体反应物的供应流量瞬时降低。
[0009]因此，会发生滴漏，这是一种在反应区域中的一部分液体反应介质落入反应器下部的气体区域中的现象，在这种情况下，落入气体区域的液体反应介质会堵塞气体反应物入口，从而持续地阻碍气体的注入和流动。因此，反应区域中的混合效率显著降低，导致关闭整个工艺运行的问题。
[0010]因此，为了解决上述问题，需要当反应器内发生滴漏现象时，通过在短时间内使工艺不稳定性最小化而在不停止工艺运行的情况下来确保稳定的运行时间的措施。

技术实现思路

[0011]技术问题
[0012]本专利技术的一个目的是提供一种用于制备低聚物的设备，该设备当反应器内发生滴漏现象时，通过在短时间内使工艺不稳定性最小化而在不停止工艺运行的情况下确保稳定的运行时间。
[0013]技术方案
[0014]在一个总的方面，一种用于制备低聚物的设备包括：反应器，该反应器包括在下部设置有第一气体反应物入口的气体区域，和在所述气体区域上方包括与气体反应物接触的反应介质的反应区域；第二气体反应物入口和第三气体反应物入口，所述第二气体反应物入口设置在所述气体区域中的反应器内壁上，所述第三气体反应物入口设置在面对所述第二气体反应物入口的反应器内壁上；以及第一注射喷嘴和第二注射喷嘴，所述第一注射喷嘴与所述第二气体反应物入口连接，所述第二注射喷嘴与所述第三气体反应物入口连接。
[0015]在另一个总的方面，一种使用上述用于制备低聚物的设备制备低聚物的方法包括：当第一气体反应物入口被堵塞时，通过关闭第一流量控制装置并打开第二流量控制装置和第三流量控制装置，通过第二气体反应物供应线和第三气体反应物供应线向气体区域供应气体反应物。
[0016]有益效果
[0017]根据本专利技术的用于制备低聚物的设备可以当反应器内发生滴漏现象时，通过在短时间内使工艺不稳定性最小化而在不停止工艺运行的情况下确保稳定的运行时间。
附图说明
[0018]图1是示出根据本专利技术的一个示例性实施方案的用于制备低聚物的设备的示意图。
[0019]图2是示出用于制备低聚物的常规鼓泡塔反应器的构造的示意图。
具体实施方式
[0020]在本专利技术的说明书和权利要求书中使用的术语和词语不应限制性地解释为具有一般或字典的含义，而是基于专利技术人能够恰当地定义术语的概念以便以最佳方式描述他们自己的专利技术的原则，应解释为具有符合本专利技术的技术构思的含义和概念。
[0021]在本专利技术中，术语“流”可以是指工艺中流体流动，或者可以是指在移动管线(管道)中流动的流体本身。具体地，“流”可以是指在连接各个装置的管道中流动的流体本身和流体流动两者。此外，流体可以是指包括气体、液体和固体中的任意一种或多种。
[0022]在本专利技术中，术语“C#”是指所有具有#个碳原子的烃，其中“#”是正整数。因此，术语“C10”是指具有10个碳原子的烃化合物。此外，术语“C#+”是指所有具有#个以上碳原子的烃分子。因此，术语“C10+”是指具有10个以上碳原子的烃的混合物。
[0023]下文中，为了帮助理解本专利技术，将参考下面的图1和图2更详细地描述本专利技术。
[0024]根据本专利技术的一个示例性实施方案，提供一种用于制备低聚物的设备。所述用于制备低聚物的设备可以包括：反应器100，该反应器100包括气体区域110和反应区域120，气体区域110在其下部设置有第一气体反应物入口10，反应区域120在所述气体区域上方包括与气体反应物接触的反应介质RM；第二气体反应物入口20和第三气体反应物入口30，所述第二气体反应物入口20设置在所述气体区域110中的反应器100的内壁上，所述第三气体反应物入口30设置在面对所述第二气体反应物入口20的反应器100的内壁上；以及第一注射喷嘴22和第二注射喷嘴32，所述第一注射喷嘴22与所述第二气体反应物入口20连接，所述第二注射喷嘴32与所述第三气体反应物入口30连接。
[0025]根据本专利技术的一个示例性实施方案，反应器100可以通过在催化剂和溶剂的存在下进行单体的低聚反应来制备低聚物产物。
[0026]作为一个具体的实例，供应至气体区域110的气体反应物可以包含单体，并且在反应区域120中包括的反应介质RM可以包含催化剂和溶剂。即，供应至气体区域110中的包含气体单体的气体反应物可以与包括包含催化剂和溶剂的液体反应介质RM的反应区域120接触以进行低聚反应，从而生成低聚物产物。
[0027]根据本专利技术的一个示例性实施方案，反应器100可以是适于连续工艺的反应器100。例如，反应器100可以是鼓泡塔反应器，鼓泡塔反应器能够连续制备低聚物产物。
[0028]根据本专利技术的一个示例性实施方案，所述单体可以包括乙烯单体。作为一个具体的实例，包括乙烯单体的气体反应物可以供应至反应器100中并进行低聚反应以制备预期的α
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烯烃产物。
[0029]在这种情况下，低聚反应可以在反应器100中的气体区域110的上部区域中进行，并且单体的低聚反应可以在催化剂和助催化剂的存在下，在溶解于溶剂中的液体反应介质RM中进行。因此，可以将进行单体的低聚反应的包括反应介质RM的区本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于制备低聚物的设备，包括：反应器，该反应器包括在下部设置有第一气体反应物入口的气体区域，和在所述气体区域上方包括与气体反应物接触的反应介质的反应区域；第二气体反应物入口和第三气体反应物入口，所述第二气体反应物入口设置在所述气体区域中的反应器内壁上，所述第三气体反应物入口设置在面对所述第二气体反应物入口的反应器内壁上；以及第一注射喷嘴和第二注射喷嘴，所述第一注射喷嘴与所述第二气体反应物入口连接，所述第二注射喷嘴与所述第三气体反应物入口连接。2.根据权利要求1所述的用于制备低聚物的设备，还包括：第一气体反应物供应线，该第一气体反应物供应线与所述第一气体反应物入口连接；第二气体反应物供应线和第三气体反应物供应线，所述第二气体反应物供应线从所述第一气体反应物供应线分支出来并与所述第二气体反应物入口连接，所述第三气体反应物供应线从所述第一气体反应物供应线分支出来并与所述第三气体反应物入口连接；和第一流量控制装置、第二流量控制装置和第三流量控制装置，所述第一流量控制装置、所述第二流量控制装置和所述第三流量控制装置分别设置在所述第一气体反应物供应线、所述第二气体反应物供应线和所述第三气体反应物供应线中。3.根据权利要求1所述的用于制备低聚物的设备，其中，所述反应介质是液态。4.根据权利要求1所述的用于制备低聚物的设备，其中，所述第一气体反应物入口位于所述反应器的下部的中心。5.根据权利要求1所述的用于制备低聚物的设备，还包括多孔分散板，该多孔分散板设置在所述气体区域和所述反应区域之间。6.根据权利要求1所述的用...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄文燮，李政锡，宋宗勋，陆炅奭，宣玟浩，李洪旻，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：