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本发明涉及一种用于制备低聚物的设备，更具体地，涉及一种用于制备低聚物的设备，包括：反应器，该反应器包括在下部设置有第一气体反应物入口的气体区域，和在所述气体区域上方包括与气体反应物接触的反应介质的反应区域；第二气体反应物入口和第三气体反应物...
该专利属于株式会社LG化学所有，仅供学习研究参考，未经过株式会社LG化学授权不得商用。

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