基板旋转装置制造方法及图纸

一种基板旋转装置，具备主旋转机构、副旋转机构以及导引结构。主旋转机构以第一旋转轴为中心进行旋转。主旋转机构具备副旋转机构。副旋转机构随着主旋转机构的旋转而绕第一旋转轴进行公转，并且副旋转机构以第二旋转轴为中心进行自转。第二旋转轴在对应于第一旋转轴的径向上位移。导引结构具有在对应于第一旋转轴的周向上延伸的接触面。导引结构控制第二旋转轴在径向上的位移，并且当接触面与副旋转机构接触时，导引结构使副旋转机构在沿着接触面的轨道上进行公转运动。的轨道上进行公转运动。的轨道上进行公转运动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】基板旋转装置
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本国际申请要求2019年10月15日在日本专利局提交的日本专利技术专利申请第2019
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188681号的优先权，所述日本专利技术专利申请的全部内容通过引用而并入本文。


[0003]本公开涉及用于成膜的基板旋转装置。

技术介绍

[0004]已知一种薄膜蒸镀设备，其具备透镜保持器，该透镜保持器将多个透镜保持为均可以自如旋转，以便在多个透镜上形成厚度均匀的薄膜(例如参照专利文献1)。在该薄膜蒸镀设备中，当透镜保持器旋转时，通过行星齿轮机构使透镜在透镜保持器上旋转。由此，透镜在进行自转的同时配合着透镜保持器的旋转而进行公转。
[0005]现有技术文献
[0006]专利文献
[0007]专利文献1：日本专利特开平6
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192835号公报

技术实现思路

[0008]专利技术要解决的问题
[0009]在光学和半导体领域所使用的成膜装置中，通常会在基板上均匀地形成薄膜。如果可以在较大的基板上形成膜厚均匀的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种基板旋转装置，是用于成膜的基板旋转装置，其特征在于，具备：主旋转机构，所述主旋转机构以第一旋转轴为中心进行旋转；副旋转机构，所述副旋转机构随着所述主旋转机构的旋转而绕所述第一旋转轴进行公转，并且所述副旋转机构以第二旋转轴为中心进行自转；以及导引结构，所述导引结构设置在所述第一旋转轴的周围，并且控制所述副旋转机构的公转运动，并且所述主旋转机构具备所述副旋转机构，所述第二旋转轴在对应于所述第一旋转轴的径向上位移，所述副旋转机构具有支承作为成膜对象的基板的支承结构，所述支承结构以所述第二旋转轴为中心进行旋转，所述导引结构具有在对应千所述第一旋转轴的周向上延伸的接触面，所述导引结构控制所述第二旋转轴在所述径向上的位移，并且，当所述接触面与所述副旋转机构接触时，所述导引结构使所述副旋转机构在沿着所述接触面的轨道上进行公转运动。2.根据权利要求1所述的基板旋转装置，其特征在于，所述接触面是所述导引结构具有的面向所述第一旋转轴的内周面，所述内周面限制所述副旋转机构朝所述径向的外侧位移。3.根据权利要求1或2所述的基板旋转装置，其特征在千，所述主旋转机构具有以所述第一旋转轴为中心进行旋转的旋转板，所述旋转板具有沿着...

【专利技术属性】
技术研发人员：上原昇，
申请(专利权)人：SANTEC株式会社，
类型：发明
国别省市：