接近式曝光装置用照明装置、LED单元、接近式曝光装置及接近式曝光装置的曝光方法制造方法及图纸

提供一种能够独立地使用水银灯和LED这两者作为光源部的照明装置。该照明装置具备：以水银灯(31)为光源的第一光源部(30)；使来自该第一光源部(30)的光均匀地射出的复眼透镜(46)；分别反射来自第一光源部(30)的光的多个反射镜(40、41、50、51)；以及LED单元(60)，具有将多个LED元件(62)作为光源的第二光源部(61)和移动机构(70)，该移动机构(70)使该第二光源部(61)在位于第一光源部(30)的光路EL上的工作位置AP与远离第一光源部(30)的光路EL的退避位置WP之间移动。避位置WP之间移动。避位置WP之间移动。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】接近式曝光装置用照明装置、LED单元、接近式曝光装置及接近式曝光装置的曝光方法


[0001]本专利技术涉及经由掩模向工件照射曝光用光的照明装置、LED单元、接近式曝光装置以及接近式曝光装置的曝光方法。

技术介绍

[0002]以往，作为有效利用紫外线(特别是i线)的曝光装置，公知有如下曝光装置：将超高压水银灯等放电型灯作为光源，利用从该光源照射出的光将掩模的图案曝光转印到固定于载置台的工件。
[0003]另外，在专利文献1所记载的曝光装置中，照明装置例如具备：主光源，其由水银灯构成；辅助光源，其与该主光源的输出响应特性不同，例如由LED构成；光电传感器，其检测主光源和辅助光源的射出光；以及曝光量控制部，其改变对被曝光基板照射的曝光用光的强度。对比文件1公开的曝光装置中，主光源以根据目标最小照度决定的照度发光，辅助光源发出目标照度与主光源的照度的差分的照度，通过光合成部合成从主光源和辅助光源照射出的光，在不降低装置的生产性的情况下提高光源的输出响应特性。
[0004]另外，专利文献2中，照明光学系统具有由水银灯、LED、卤素灯等构成本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种接近式曝光装置用照明装置，其特征在于，对与掩模隔着规定的间隙配置的工件，经由所述掩模照射曝光用光，所述照明装置具备：第一光源部，所述第一光源部将水银灯作为光源；复眼透镜，所述复眼透镜使来自所述第一光源部的光均匀地射出；多个反射镜，多个所述反射镜分别反射来自所述第一光源部的光；以及LED单元，所述LED单元具有将多个LED元件作为光源的第二光源部和移动机构，所述移动机构使所述第二光源部在位于所述第一光源部的光路上的工作位置与远离所述第一光源部的光路的退避位置之间移动。2.如权利要求1所述的接近式曝光装置用照明装置，其特征在于，所述第二光源部的工作位置设定在所述复眼透镜与比所述复眼透镜更靠上游侧的所述反射镜之间且所述复眼透镜的附近。3.如权利要求1或2所述的接近式曝光装置用照明装置，其特征在于，所述移动机构由滚珠丝杆机构、缸体装置、旋转机构中的至少一者构成。4.如权利要求1～3中任一项所述的接近式曝光装置用照明装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：松坂昌明，山口洋一，松下智恒，结城大悟，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：