光刻系统及形成图案的方法技术方案

于此公开的实施方式关于光刻系统和制造图案的方法。光刻系统包括用于产生掩模、图案化基板、在图案化的基板上执行计量以及将计量值与掩模进行比较的各种部件。形成图案的方法包括以下步骤：将图案化的基板与掩模进行比较；及确定新的掩模，新的掩模结合了来自先前掩模的图案化中的校正。方法可重复几次，以便顺序地提高用于光刻系统中光刻所使用的掩模的质量。集成光刻系统减少了用户的使用时间和成本。成本。成本。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光刻系统及形成图案的方法
[0001]背景


[0002]本专利技术的实施方式关于设备和方法，且更具体地，关于形成一个或多个图案的光刻系统和方法。
[0003]现有技术的描述
[0004]光刻技术广泛用于制造半导体装置和显示装置，诸如液晶显示器(LCD)。大面积基板通常用于制造LCD。LCD(或平板)通常用于主动式矩阵显示器，诸如计算器、触控面板装置、个人数字助理(PDA)、手机、电视监视器及类似者。通常，平板可包括形成夹在两个板之间的像素的液晶材料层。当将来自功率供应器的功率施加到液晶材料上时，可在像素位置处控制通过液晶材料的光量，使得能够生成图像。
[0005]通常采用光刻技术来创建电学特征，电学特征被并入作为形成像素的液晶材料层的一部分。无掩模光刻技术涉及创建虚拟掩模，并且从膜移除膜的选定部分以在基板上的膜中创建图案。无掩模光刻技术包括电子束光刻、光学光刻、直接激光写入、聚焦离子束光刻、探针
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尖端接触光刻及类似者。
[0006]本领域中的一个问题是无掩模光刻技术会导致所创建的图案的缺陷。例如，图案本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种形成多个图案的方法，包含：形成第一掩模；使用所述第一掩模在第一基板上形成第一图案；确定一个或多个计量值；确定所述第一图案中的一个或多个校正，其中所述第一图案中的所述一个或多个校正基于一个或多个目标值和所述一个或多个计量值确定；基于所述一个或多个校正确定校正表；形成第二掩模，所述第二掩模使用所述校正表而确定；及使用所述第二掩模在第二基板上形成第二图案。2.如权利要求1所述的方法，其中使用所述第二图案作为所述第一图案并使用所述第二掩模作为所述第一掩模来重复所述方法。3.如权利要求1所述的方法，其中：通过虚拟掩模设备执行形成第一掩模和所述形成第二掩模，所述第一掩模和所述第二掩模包含虚拟掩模，通过光刻工具执行形成第一图案和所述形成第二图案，通过计量工具执行确定一个或多个计量值，通过控制器执行确定一个或多个校正，且通过仿真器执行确定校正表。4.如权利要求3所述的方法，所述方法进一步包含：将所述第一掩模从所述虚拟掩模设备传输到所述光刻工具；将所述第一基板从所述光刻工具传输到所述计量工具；将所述第一掩模从所述虚拟掩模设备传输至所述计量工具；将所述一个或多个计量值从所述计量工具传输到所述控制器；将所述一个或多个校正从所述控制器传输到所述仿真器；将所述校正表从所述仿真器传输到所述虚拟掩模设备；及将所述第二掩模从所述虚拟掩模设备传输到所述光刻工具。5.如权利要求4所述的方法，其中从所述光刻工具向所述计量工具传输所述第一掩模包含发送通用计量文件(UMF)，将所述第二掩模从所述光刻工具传输到所述计量工具包含发送所述UMF，将所述一个或多个校正传输到所述仿真器包含发送所述UMF，从所述虚拟掩模设备向所述光刻工具传输所述第一掩模包含发送第二文件；及从所述虚拟掩模设备向所述光刻工具传输所述第二掩模包含发送第三文件。6.如权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个目标值包含所述第一掩模的一个或多个特征的厚度，且所述一个或多个计量值包含所述第一图案的一个或多个图案元件的厚度。7.如权利要求6所述的方法，其中所述一个或多个校正包含所述第一掩模的所述一个或多个特征的厚度与所述第一图案的所述一个或多个图案元件的厚度的差。8.一种光刻系统，包含：多个光刻系统工具，包含：
虚拟掩模设备，配置成形成一个或多个掩...

【专利技术属性】
技术研发人员：康宗勋，吉鸿宾，塔纳，
申请(专利权)人：应用材料公司，
类型：发明
国别省市：