【技术实现步骤摘要】
一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构
[0001]本专利技术涉及原子层沉积
，具体而言，涉及一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构。
技术介绍
[0002]原子层沉积(Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。并且，沉积层具有极均匀的厚度和优异的一致性。
[0003]可以理解的是，在原子层沉积镀膜的过程中，同样会对镀膜设备的内部进行镀膜，或者在镀膜设备内部生成各种杂质。因此，定期对镀膜设备的内部进行清洗，从而保证镀膜的质量。但是现有镀膜设备结构复杂，不容易对镀膜设备的内部进行清洗。
[0004]有鉴于此，申请人在研究了现有的技术后特提出本申请。
技术实现思路
[0005]本专利技术提供了一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构，旨在改善不容易对镀膜设备的内部进行清洗的技术问题。
[0006]为解决上述技术问题，本专...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构，其特征在于，包含：箱体组件，包括依次连接的加热腔体(12)、连接腔体(5)和冷却腔体(9)；所述加热腔体(12)设置有加热腔室(6)；所述连接腔体(5)内设置有用以给工件镀膜的镀膜腔室(10)；所述冷却腔体(9)设置有冷却腔室(3)；所述加热腔室(6)和所述冷却腔室(3)分别能够连通于所述镀膜腔室(10)；驱动组件，包括两个驱动构件(32)；两个所述驱动构件(32)分别配置于所述加热腔室(6)和所述冷却腔室(3)；配置于所述加热腔室(6)的驱动构件(32)被构造为：能够沿着预定轨迹来回移动，以将所述加热腔室(6)外的工件移动至所述加热腔室(6)内，以及用以将所述加热腔室(6)内的工件移动至所述镀膜腔室(10)内；配置于所述冷却腔室(3)的驱动构件(32)被构造为：能够沿着预定轨迹来回移动，以将所述镀膜腔室(10)内的工件移动至所述冷却腔室(3)内，以及用以将所述冷却腔室(3)内的工件移动到所述冷却腔室(3)外；所述箱体组件还包括配置于所述连接腔体(5)的第一检修门(1)。2.根据权利要求1所述的物料移动结构,其特征在于,所述驱动构件(32)包括能够沿着预定轨迹活动的第一移动机构(34)、配置于所述第一移动机构(34)的棘爪机构(33)、接合于所述第一移动机构(34)的传动机构，以及接合于所述传动机构的驱动机构(37)；所述驱动机构(37)能够通过所述传动机构驱动所述第一移动机构(34)沿着预定轨迹正向移动或反向移动；所述棘爪机构(33)构造为：当所述第一移动机构(34)正向移动时能够抵接于外部物体并进行避让，当所述第一移动机构(34)反向移动时能够抵接于外部物体并带动外部物体正向移动。3.根据权利要求2所述的物料移动结构,其特征在于,所述驱动构件(32)还包括第二移动机构(35)，所述第二移动机构(35)接合于所述传动机构，且构造为能够受所述传动机构的驱动以沿着预定轨迹正向移动或反向移动；所述第一移动机构(34)构造为：在所述第二移动机构(35)移动时，能够朝向所述第二移动机构(35)的移动方向，相对所述第二移动机构(35)移动。4.根据权利要求3所述的物料移动结构,其特征在于,所述驱动构件(32)还包括底座机构(36)；所述底座机构(36)用以配置于所述加热腔室(6)或所述冷却腔室(3)；所述第二移动机构(35)可滑动的配置于所述底座机构(36)；所述第一移动机构(34)可滑动的配置于所述第二移动机构(35)。5.根据权利要求4所述的物料移动结构,其特征在于,所述传动机构包括配置于所述底座机构(36)的第一齿轮(53)和第一齿条(52)、配置于所述第二移动机构(35)的第二齿轮(50)和第二齿条(51)，以及配置于所述第一移动机构(34)的第三齿条(49)；所述第一齿轮(53)接合于所述第二齿条(51)，且传动连接于所述驱动机构(37)，...
【专利技术属性】
技术研发人员：田玉峰，
申请(专利权)人：厦门韫茂科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。