【技术实现步骤摘要】
本技术涉及等离子体设备，具体而言，涉及一种应用于peald设备的等离子体装置。
技术介绍
1、现存的单片式peald设备的等离子体发生装置，多采用石英管或者氧化物陶瓷作为等离子体腔体。然而等离子体发生装置由于等离子体腔体的材质问题，在工艺过程中由于等离子体对壁管的刻蚀作用，壁管内的氧元素会被剥离，混合到生产的氮化物薄膜中，对于含氧量要求极低的薄膜工艺，往往膜层无法满足性能需求。
技术实现思路
1、本技术公开了一种应用于peald设备的等离子体装置，旨在解决上述技术提到的问题。
2、本技术采用了如下方案：
3、一种应用于peald设备的等离子体装置，包括：
4、一等离子体壁管，所述等离子体壁管采用氮化铝材质制成，以使得在等离子体壁管内建立等离子体后，等离子体对壁管的刻蚀效应不会产生氧元素；
5、一rf线圈，所述rf线圈设置于所述等离子体壁管外侧以用于提供向等离子体壁管提供激发电磁场；
6、一法拉第屏蔽筒，所述法拉第屏蔽筒设置于所述等...
【技术保护点】
1.一种应用于peald设备的等离子体装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的应用于peald设备的等离子体装置，其特征在于，所述等离子体壁管的上下两端设置有法兰，所述法兰上设置有工艺气体进气管。
3.根据权利要求2所述的应用于peald设备的等离子体装置，其特征在于，所述法兰适于套设在所述等离子体壁管端部的外壁上，所述等离子体壁管与所述法兰之间采用活动式密封连接。
4.根据权利要求3所述的应用于peald设备的等离子体装置，其特征在于，所述等离子体壁管与所述法兰之间设置有密封组件以及密封压法兰；其中，所述密封压法兰适于在...
【技术特征摘要】
1.一种应用于peald设备的等离子体装置，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的应用于peald设备的等离子体装置，其特征在于，所述等离子体壁管的上下两端设置有法兰，所述法兰上设置有工艺气体进气管。
3.根据权利要求2所述的应用于peald设备的等离子体装置，其特征在于，所述法兰适于套设在所述等离子体壁管端部的外壁上，所述等离子体壁管与所述法兰之间采用活动式密封连接。
4.根据权...
【专利技术属性】
技术研发人员：靳伟，雷志佳，赵茂生，
申请(专利权)人：厦门韫茂科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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