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本技术提供了一种应用于peald设备的等离子体装置，涉及等离子体设备技术领域。包括：一等离子体壁管，所述等离子体壁管采用氮化铝材质制成，以使得在等离子体壁管内建立等离子体后，等离子体对壁管的刻蚀效应不会产生氧元素；一RF线圈，所述RF线圈设...
该专利属于厦门韫茂科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过厦门韫茂科技有限公司授权不得商用。

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