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本发明提供了一种连续式ALD镀膜设备的物料移动结构，涉及原子层沉积技术领域。其中，这种物料移动结构包含箱体组件和驱动组件。箱体组件包括依次连接的加热腔体、连接腔体和冷却腔体。驱动组件包括两个驱动构件。两个驱动构件分别配置于加热腔体和冷却腔体...
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