一种用于抛光头的清洗装置及抛光设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供的一种用于抛光头的清洗装置，包括：清洗基座具有轴向贯通的第一流道；第一清洗臂成型于清洗基座上，第一清洗臂具有轴向贯通的第二流道，第二流道与第一流道垂直且连通；第一清洗臂的两轴端处均成型有第二清洗臂，第二清洗臂具有轴向设置的第三流道；第三流道的一端与第二流道连通，第三流道的另一端封堵；第三流道与第二流道的夹角不小于90

【技术实现步骤摘要】
一种用于抛光头的清洗装置及抛光设备


[0001]本专利技术涉及抛光
，具体涉及一种用于抛光头的清洗装置。

技术介绍

[0002]CMP技术是化学腐蚀作用和机械磨削作用协同效应的组合技术。它的基本原理是：在研磨抛光液存在条件下，承载在抛光头底部的晶圆相对于抛光垫作同方向的旋转运动，同时施加一定的压力；晶圆表面材料与研磨抛光液发生化学反应生成一层相对容易去除的反应膜，这一表面层通过抛光液中的研磨剂，在研磨压力的作用下与抛光垫相对运动从而被机械地磨去。
[0003]在研磨过程中需要持续对抛光头进行冲洗，去除旧抛光头上的旧液残浆、粘附的晶圆去除物，抛光过程产生的各种杂质，或者大颗粒研磨介质。现有设备中的抛光头清洗结构，绝大部分零件通过螺钉链接或者粘接，因此，连接件零件之间存在很多缝隙、死角、台阶结构，在设备长期使用后，会有大量的研磨液、残渣、沉淀在死角、狭缝中无法清洗和去除。

技术实现思路

[0004]因此，本专利技术要解决的技术问题在于克服现有技术中的抛光头清洗结构难以清洗的缺陷，从而提供一种用于抛光头的清洗装置及抛光设备。
[0005]为了解决上述技术问题，本专利技术提供的用于抛光头的清洗装置，包括：
[0006]清洗基座，一端适于固定，所述清洗基座具有轴向贯通的第一流道；
[0007]第一清洗臂，成型于所述清洗基座上，所述第一清洗臂具有轴向贯通的第二流道，所述第二流道与所述第一流道垂直且连通；
[0008]所述第一清洗臂的两轴端处均成型有第二清洗臂，所述第二清洗臂具有轴向设置的第三流道；所述第三流道的一端与所述第二流道连通，所述第三流道的另一端封堵；所述第三流道与所述第二流道的夹角不小于90
°
，所述第三流道朝向背离所述清洗基座的方向向上延伸；
[0009]所述第一清洗臂的背离所述清洗基座的一侧上设有与所述第二流道垂直连通的第一喷洗头，所述第二清洗臂的背离所述清洗基座的一侧上设有与所述第三流道垂直连通的第二喷洗头。
[0010]进一步地，所述第二流道的轴线以及两个第三流道的轴线均位于同一个平面内。
[0011]进一步地，所述第二流道的轴线、两个第三流道的轴线以及第一流道的轴线位于同一个平面内。
[0012]进一步地，所述第三流道的背离所述第二流道的一端处通过堵头进行可拆卸封堵。
[0013]进一步地，所述第一清洗臂与所述第二清洗臂之间进行平滑过渡。
[0014]进一步地，所述第三流道与所述第二流道的夹角为钝角。
[0015]进一步地，所述清洗基座上具有一体成型的法兰，所述清洗基座适于通过所述法
兰进行固定。
[0016]一种抛光设备，具有上述方案中任一项所述的用于抛光头的清洗装置。
[0017]本专利技术技术方案，具有如下优点：
[0018]本专利技术提供的用于抛光头的清洗装置，清洗基座、第一清洗臂以及第二清洗臂为一体式设计，各部件之间不存在螺钉连接或者粘接，且相互衔接处不存在缝隙；在对抛光头进行清洗的过程中，各部分的衔接处不会存在研磨液、残渣的大量堆积，附着在部件表面的残渣杂质易于清洗。
附图说明
[0019]为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0020]图1为本专利技术中提供的清洗装置的立体结构示意图。
[0021]图2为图1所示的清洗装置的剖视图。
[0022]图3为图2所示的清洗装置的主视图。
[0023]附图标记说明：
[0024]1、清洗基座；2、第一清洗臂；3、第二清洗臂；4、第一流道；5、第二流道；6、第三流道；7、法兰；8、第一喷洗头；9、第二喷洗头；10、堵头。
具体实施方式
[0025]下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0026]在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。
[0027]在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。
[0028]此外，下面所描述的本专利技术不同实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合。
[0029]实施例1
[0030]本实施例中提供的用于抛光头的清洗装置，包括：清洗基座1、第一清洗臂2以及第二清洗臂3。
[0031]本实施例中，清洗基座1的一端用于固定，以固定安装整体装置，所述清洗基座1具
有轴向贯通的第一流通，所述第一流道4用于清洗液的通入。第一清洗臂2成型于所述清洗基座1上，所述第一清洗臂2具有轴向贯通的第二流道5，所述第二流道5与所述第一流道4垂直且连通；所述第一清洗臂2的两轴端处均成型有第二清洗臂3，所述第二清洗臂3具有轴向设置的第三流道6；所述第三流道6的一端与所述第二流道5连通，所述第三流道6的另一端封堵；所述第三流道6与所述第二流道5的夹角不小于90
°
，所述第三流道6朝向背离所述清洗基座1的方向向上延伸。其中，第一清洗臂2与清洗基座1之间以及第一清洗臂2与第二清洗臂3之间均可采用焊接工艺、模具成型工艺或者3D打印工艺。所述第一清洗臂2的背离所述清洗基座1的一侧上设有与所述第二流道5垂直连通的第一喷洗头8，所述第二清洗臂3的背离所述清洗基座1的一侧上设有与所述第三流道6垂直连通的第二喷洗头9，通过第一喷洗头8以及第二喷洗头9对抛光头的工作面以及周向侧面进行清洗。
[0032]在本实施例中，清洗基座1、第一清洗臂2以及第二清洗臂3为一体式设计，各部件之间不存在螺钉连接或者粘接，且相互衔接处不存在缝隙；在对抛光头进行清洗的过程中，各部分的衔接处不会存在研磨液、残渣的大量堆积，附着在部件表面的残渣杂质易于清洗。
[0033]在本实施例中，如图1、图2、图3所示，所述清洗基座1为柱形结构，第一清洗臂2以及第二清洗臂3的横截面均为矩形结构，该矩形结构的棱边均进行倒圆角处理。清洗基座1的中部位置处成型本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于抛光头的清洗装置，其特征在于，包括：清洗基座(1)，一端适于固定，所述清洗基座(1)具有轴向贯通的第一流道(4)；第一清洗臂(2)，成型于所述清洗基座(1)上，所述第一清洗臂(2)具有轴向贯通的第二流道(5)，所述第二流道(5)与所述第一流道(4)垂直且连通；所述第一清洗臂(2)的两轴端处均成型有第二清洗臂(3)，所述第二清洗臂(3)具有轴向设置的第三流道(6)；所述第三流道(6)的一端与所述第二流道(5)连通，所述第三流道(6)的另一端封堵；所述第三流道(6)与所述第二流道(5)的夹角不小于90
°
，所述第三流道(6)朝向背离所述清洗基座(1)的方向向上延伸；所述第一清洗臂(2)的背离所述清洗基座(1)的一侧上设有与所述第二流道(5)垂直连通的第一喷洗头(8)，所述第二清洗臂(3)的背离所述清洗基座(1)的一侧上设有与所述第三流道(6)垂直连通的第二喷洗头(9)。2.根据权利要求1所述的用于抛光头的清洗装置，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：于静，张敏杰，王嘉琪，李伟，尹影，
申请(专利权)人：北京烁科精微电子装备有限公司，
类型：发明
国别省市：