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本发明提供的一种用于抛光头的清洗装置，包括：清洗基座具有轴向贯通的第一流道；第一清洗臂成型于清洗基座上，第一清洗臂具有轴向贯通的第二流道，第二流道与第一流道垂直且连通；第一清洗臂的两轴端处均成型有第二清洗臂，第二清洗臂具有轴向设置的第三流道...
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