一种离子束溅射沉积薄膜压力传感装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种离子束溅射沉积薄膜压力传感装置，包括喷射管道和外套，所述喷射管道外表面中间安装有滑槽，所述滑槽内表面中间位置处安装有外套，所述外套顶端中间位置处与低端中间位置处均设有装夹孔，两侧所述装夹孔内表面中间位置处通过密封环套接有压力传感器，所述外套外表面一侧中间位置处安装有齿轮台，所述喷射管道顶端一侧中间位置处安装有电机，所述电机输出轴末端位于齿轮台一侧位置处安装有齿轮。本实用新型专利技术解决了现有装置多采用单个压力传感器固定探测喷射压力，无法全方位探测喷射压力，探测精度不佳，且压力传感器拆卸较为不便，维护校准较为不便，实用性不佳的问题，提高了本实用新型专利技术的探测精度。提高了本实用新型专利技术的探测精度。提高了本实用新型专利技术的探测精度。

【技术实现步骤摘要】
一种离子束溅射沉积薄膜压力传感装置


[0001]本技术涉及离子束溅射沉积薄膜生产
，具体为一种离子束溅射沉积薄膜压力传感装置。

技术介绍

[0002]直流溅射镀膜装置是由阴极与阳极组成的，顾名思义，采用直流电，又因为是在阴极的靶上加副高压，所以又叫阴极溅射。直流溅射的靶材是导体，放电的工作气体是氩气，现在以直流二极溅射为例来讨论其原理和过程，直流偏压溅射相对二极溅射在基片上增加了固定的直流负偏压，清除可能进入薄膜表面上的气体及附着力小的气体，还可以在沉积工艺之前对基片进行轰击净化表面，即可以提高膜层的纯度，又可以改变膜结构。但应选择正确的偏压值，来保证膜纯度。在离子束溅射沉积薄膜领域，需要使用压力传感装置时刻监测喷射压力。
[0003]现有的压力传感装置，多采用单个压力传感器固定探测喷射压力，无法全方位探测喷射压力，探测精度不佳，且压力传感器拆卸较为不便，维护校准较为不便，实用性不佳，为此，我们提出一种离子束溅射沉积薄膜压力传感装置。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种离子束溅射沉积薄膜压力传感装置，具本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种离子束溅射沉积薄膜压力传感装置，包括喷射管道(1)和外套(2)，其特征在于：所述喷射管道(1)外表面中间安装有滑槽(11)，所述滑槽(11)内表面中间位置处安装有外套(2)，所述外套(2)顶端中间位置处与低端中间位置处均设有装夹孔(16)，两侧所述装夹孔(16)内表面中间位置处通过密封环套接有压力传感器(5)，所述外套(2)外表面一侧中间位置处安装有齿轮台(13)。2.根据权利要求1所述的一种离子束溅射沉积薄膜压力传感装置，其特征在于：所述喷射管道(1)顶端一侧中间位置处安装有电机(12)，所述电机(12)输出轴末端位于齿轮台(13)一侧位置处安装有齿轮(3)，所述齿轮(3)与齿轮台(13)相啮合。3.根据权利要求1所述的一种离子束溅射沉积薄膜压力传感装置，其特征在于：所述外套(2)内表面位于滑槽(11)两侧间隙位置处均安装有密封垫(14)。4.根据权利要求1所述的一种离子束溅射沉积薄膜压力传感装置，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆桥宏，曹俊，
申请(专利权)人：江苏籽硕科技有限公司，
类型：新型
国别省市：