一种抛光机用研磨盘制造技术

本实用新型专利技术公开了一种抛光机用研磨盘包括上研磨组件、下研磨组件，上研磨组件和所述下研磨组件上与所述待研磨工件接触的面上分别设置有第一研磨槽和第二研磨槽，第一研磨槽包括若干同心的第一环形槽、衔接若干第一环形槽的第一径向槽，第二研磨槽包括若干同心的第二环形槽、衔接若干第二环形槽的第二径向槽。上研磨组件和下研磨组件反向旋转，利用上研磨组件和下研磨组件上分别设置的第一研磨槽和第二研磨槽实现对待研磨组件的磨削，第一研磨槽和第二研磨槽的结构相同，均采用同心环状槽和径向槽的形式，磨削效果相较于传统的井字形结构的研磨盘，研磨过程中因研磨产生的碎屑及时排出，研磨对工件表面的光洁度影响小。研磨对工件表面的光洁度影响小。研磨对工件表面的光洁度影响小。

【技术实现步骤摘要】
一种抛光机用研磨盘


[0001]本技术涉及一种抛光机用研磨盘，尤其涉及一种研磨光洁度高的抛光机用研磨盘。

技术介绍

[0002]研磨盘组件主要用于研磨工件中的高精度平面、内外圆柱面、圆锥面、球面、螺纹面和其他型面，现有的研磨盘表面采用井字形的形式在研磨大尺寸产品时，磨料流失太快，导致磨盘与产品硬接触，产品表面划伤严重，平面度也无法保证，特设计环形槽，锁住砂浆，保证研磨面的光洁度。

技术实现思路

[0003]本技术所要解决的技术问题是提供一种抛光机用研磨盘，具有研磨光洁度高的特点。
[0004]为解决上述技术问题，本技术的技术方案为：一种抛光机用研磨盘，其创新点在于：所述抛光机用研磨盘包括上研磨组件、位于所述上研磨组件正下方的下研磨组件，所述上研磨组件和所述下研磨组件反向旋转，待研磨工件位于所述上研磨组件和所述下研磨组件之间，所述上研磨组件和所述下研磨组件上与所述待研磨工件接触的面上分别设置有第一研磨槽和第二研磨槽，所述第一研磨槽包括若干同心的第一环形槽、衔接若干所述第一环形槽的第一径向槽，所述第二研磨槽包括若干同心的第二环形本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种抛光机用研磨盘，其特征在于：所述抛光机用研磨盘包括上研磨组件、位于所述上研磨组件正下方的下研磨组件，所述上研磨组件和所述下研磨组件反向旋转，待研磨工件位于所述上研磨组件和所述下研磨组件之间，所述上研磨组件和所述下研磨组件上与所述待研磨工件接触的面上分别设置有第一研磨槽和第二研磨槽，所述第一研磨槽包括若干同心的第一环形槽、衔接若干所述第一环形槽的第一径向槽，所述第二研磨槽包括若干同心的第二环形槽、衔接若干所述第二环形槽的第二径向槽。2.如权利要求1所述的一种抛光机用研磨盘，其特征在于：所述上研磨组件包括通过上连接头与上驱动装置相连的上底盘、位于所述上底盘下方且与所述上底盘螺钉连接的上研磨盘，所述上研磨盘和所述上底盘之间设置有上容纳腔，所述上容纳腔中注入有冷却水，所述第一研磨槽位于所述上研磨盘上。3.如权利要求2所述的一种抛光机用研磨盘，其特征在于：所述上底盘上设置有贯通到所述上容纳腔内的上研磨盘进水口和上研磨盘出水口；所述上研磨盘和所述上底盘之间设置有第一密封圈。4.如权利要求3所述的一种抛光机用研磨盘，其特征在于：所述上研磨盘上第一密封圈位置处设置有嵌入到上底盘上设置的第一定位槽中的第一定位凸起，所述第一密封圈从所述第一定位槽和第一定位凸起之间经过。5.如权利要求1所述的一种抛光机用研磨盘，...

【专利技术属性】
技术研发人员：吕弘杲，童乾漳，谢振成，严天福，陈泽峰，
申请(专利权)人：厦门市海鼎盛科技有限公司，
类型：新型
国别省市：