一种非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法技术

本发明专利技术公开了一种非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法，该发明专利技术属于薄膜非线性光学技术领域。该发明专利技术采用原子层薄膜沉积技术制备氮化硅薄膜，通过调控前驱物组份的化学计量比，实现氮化硅薄膜非线性光学增强的效果。具体是指将洁净的衬底放置在镀膜夹具后，利用原子层沉积方法获得氮化硅薄膜，采用流量控制方式，实现硅氮元素化学计量比控制在1：10

【技术实现步骤摘要】
一种非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法


[0001]本专利技术涉及非线性光学
，特别涉及一种非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法。

技术介绍

[0002]非线性光学主要研究介质在强光作用下产生的非线性现象及其理论和应用，其研究源于泡克斯效应和克尔效应的发现。激光的出现为非线性光学研究提供了必需的高强度和强相干性的光束，使其得到迅速发展，并在现代光子学功能器件和系统中扮演着非常重要的角色，从而得以广泛应用于光通信、全光信息处理与存储、光谱技术、量子信息技术等领域。非线性光学技术广阔的应用前景凸显出非线性光学材料的重要性。与此同时，随着材料工艺和微纳加工技术的进步，各种适用于非线性光学的新材料、新结构层出不穷，不断为非线性光学效应的产生和应用提供新平台、新机制和新方法，推动着非线性光学蓬勃发展。
[0003]反饱和吸收是一种典型的非线性光学现象，具体表现为介质的吸收系数随光强的增加而增加的现象。处于低能态的电子被激发后会向高能态跃迁，当激发态的吸收截面大于基态的吸收截面时，则表现为反饱和吸收。反饱和吸收可以用作吸收型光开关或吸收型光双稳器件本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法，其特征在于，包括以下步骤：a.提供衬底；b.在真空环境下，利用原子层沉积法在衬底表面沉积氮化硅薄膜，通过控制沉积过程中硅氮化学计量比例和薄膜厚度，获得一种具有非线性反饱和吸收的氮化硅薄膜。2.根据权利要求1所述的一种非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法，其特征在于：所述步骤a中，所述衬底为石英或玻璃或晶体或硅片。3.根据权利要求1所述的一种非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法，其特征在于：所述步骤a中，所述衬底需依次经过超声清洗和干燥处理。4.根据权利要求3所述的一种非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法，其特征在于：所述超声清洗包括依次经丙酮、酒精和去离子水的超声清洗。5.根据权利要求4所述的一种非线性光学增强氮化硅薄膜制备方法，其特征在于：所述的丙酮、酒精...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄建兵，杨振宇，黄建明，
申请(专利权)人：苏州领锐源奕光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：