一种用于远距离大视场虹膜光学成像装置的照明光源辐射系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种用于远距离大视场虹膜光学成像装置的LED照明光源辐射系统，其特征在于所述LED照明光源辐射系统包括辐射强度立体角和/或辐射强度方向角，响应于不同工作半径/距离对应的虹膜光学成像系统的视场角之间匹配关系和光学功率组合控制。本发明专利技术提供的一种远距离大视场虹膜光学成像的装置及方法，同时实现大范围时视场角和辐射照度恒定。实现大范围时视场角和辐射照度恒定。实现大范围时视场角和辐射照度恒定。

【技术实现步骤摘要】
一种用于远距离大视场虹膜光学成像装置的照明光源辐射系统
[0001]本申请是申请日为2020年4月18日，申请号202010308691.7，“一种远距离大视场虹膜光学成像的装置及方法”的分案申请。


[0002]本专利技术涉及光学成像
，特别涉及一种远距离大视场虹膜光学成像的装置及方法。

技术介绍

[0003]已知用于虹膜成像装置存在以下缺陷，在远工作距离和大工作视场场景下获得图像的成像时间超过1
‑
3s，用户无法在如此长时间内保持一致相对静止，归因于图像虹膜直径要求>200pixel的大放大倍率要求，导致即使非常轻微移动都能造成超过虹膜成像系统视场需要重新调整视场，变焦聚焦，照明。
[0004]此外，传统测距包括软件映射虹膜直径或双眼距离，因为归因于人群中变化差异大于20％导致误差过大而无法提供精确工作距离信息直接影响整体性能，同样红外，超声，tof等物理测距在远工作距离和大工作视场场景下也误差过大无法提供精确工作距离信息，同时已知技术存在景深，图像亮度，图像相对照度，照明光源辐射强度，眼本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.用于远距离大视场虹膜光学成像装置的LED照明光源辐射系统，其特征在于，所述LED照明光源辐射系统，包括辐射强度立体角和/或辐射强度方向角，响应于不同工作半径/距离对应的虹膜光学成像系统的视场角之间匹配关系和光学功率组合控制。2.根据权利要求1所述的LED照明光源辐射系统，其特征在于，所述LED照明光源辐射系统的辐射强度方向角度，定义为：ψ＝arctan(D/R)，其中，ψ定义为在LED照明光源辐射系统的辐射强度峰值方向对应的中心线和虹膜光学成像系统的光轴间夹角，D为LED照明光源辐射系统的光学中心和虹膜光学成像系统光学中心的距离，R为虹膜光学成像系统的工作半径。3.根据权利要求1所述的LED照明光源辐射系统，其特征在于，所述LED照明光源辐射系统的辐射强度立体角和不同工作半径/距离对应的虹膜光学成像系统的视场角之间匹配关系定义为：Ω(ω)＝4π*sin2(ω)单位：球面度sr，其中：ω＝arctan((PXiris2+PYiris2)
1/2
/2*PSiris/((1+β)*EFLiris))＝arctan((PXiris2+PYiris2)
1/2
/2*PSiris/(β*R))，ω为虹膜光学成像系统的半视场角，PXiris为虹膜光学成像系统的X水平方向像素分辨率，PYiris为虹膜光学成像系统的Y垂直方向像素分辨率，EFLiris为虹膜光学成像系统的焦距，β＝PR*PSiris，PR为虹膜物理直径像方分辨率，PSiris为虹膜光学成像系统的图像成像传感器的像素单位分辨率，R为为虹膜光学成像系统的工作半径。4.根据权利要求1所述的LED照明光源辐射系统，其特征在于，所述LED照明光源辐射系统定义恒定的总光学功率OP，单位mw。5.根据权利要求1所述的LED照明光源辐射系统，其特征在于，所述LED照明光源辐射系统的辐射强度峰值Ipeak定义为：OP＝Ipeak*Ω(ω)，单位mw/sr。6.根据权利要求1所述的LED照明光源辐射系统，其特征在于，所述LED照明光源辐射系统的辐射强度定义为：I(Ω)＝Ipeak*f(Ω)，其中：I(Ω)为LED照明光源辐射系统的辐射强度，单位mw/sr；Ω为LED照明光源辐射系统的立体角，单位sr球面度；f(Ω)为LED照明光源辐射系统的辐射强度归一化分布函数。7.根据权利要求6所述的LED照明光源辐射系统，其特征在于，所述LED照明光源辐射系统在辐射强度立体角Ω(...

【专利技术属性】
技术研发人员：倪蔚民，
申请(专利权)人：苏州思源科安信息技术有限公司，
类型：发明
国别省市：