一种等离子制砣用的挥发物收集装置制造方法及图纸

本申请公开了一种等离子制砣用的挥发物收集装置。包括：管道本体和排放装置，本申请设计有管道本体，其包括第一管道和第二管道，第一管道的一端与第二管道的一端垂直连接，且二者内部连通，第一管道用于排放硅挥发物，第二管道用于输送挥发气体；第二管道底端设有排放装置，排放装置与第二管道连通；工作间工作时，硅挥发物通过第一管道，进入第二管道，硅挥发物气体经第二管道进入粉尘处理设备，硅挥发物固体由第二管道滑落，掉入排放装置，硅挥发物堆积，经排放装置进行排放。此方案可以使硅挥发物的处理变得省时省力，用以解决硅挥发物掉落到产品上的问题。落到产品上的问题。落到产品上的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子制砣用的挥发物收集装置


[0001]本公开涉及石英玻璃制造领域，具体涉及一种等离子制砣用的挥发物收集装置。

技术介绍

[0002]高频等离子制砣工艺是采用2000度左右高频等离子火焰来融制石英砣产品的，在产品融制过程中会产生大量硅挥发物，必须利用排风系统将硅挥发物排出收集才能保证产品质量。以前的排风管是直接连接(下方)产品加工间和(上方)硅挥发物收集装置的，由于空间狭小，一旦排风管内壁硅挥发物堆积以后，人员无法进行清理，堆积的硅挥发物经常掉落到产品上，导致产品报废，因此，我们提出一种等离子制砣用的挥发物收集装置，用以解决硅挥发物掉落到产品上的问题。

技术实现思路

[0003]鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种防止硅挥发物掉落到产品上的等离子制砣用的挥发物收集装置。
[0004]第一方面，本申请提供一种等离子制砣用的挥发物收集装置，包括：管道本体；
[0005]所述管道本体包括第一管道和第二管道，所述第一管道的一端与所述第二管道的一端垂直连接，且二者内部连通；
[0006]排放装置，设于本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子制砣用的挥发物收集装置，其特征在于，包括：管道本体；所述管道本体包括第一管道(1)和第二管道(2)，所述第一管道(1)的一端与所述第二管道(2)的一端垂直连接，且二者内部连通；排放装置(3)，设于所述第二管道(2)底端，所述排放装置(3)与所述第二管道(2)连通。2.根据权利要求1所述的一种等离子制砣用的挥发物收集装置，其特征在于：所述第一管道(1)内部形成具有90度角的圆柱形腔室。3.根据权利要求1所述的一种等离子制砣用的挥发物收集装置，其特征在于：所述第二管道(2)内部形成圆柱形腔室。4.根据权利要求1所述的一种等离子制砣用的挥发物收集装置，其特征在于：所述排放装置(3)...

【专利技术属性】
技术研发人员：李宝君，闫学超，张晓风，李京伟，李大明，刘阳，
申请(专利权)人：久智光电子材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：