本申请公开了一种等离子制砣用的挥发物收集装置。包括：管道本体和排放装置，本申请设计有管道本体，其包括第一管道和第二管道，第一管道的一端与第二管道的一端垂直连接，且二者内部连通，第一管道用于排放硅挥发物，第二管道用于输送挥发气体；第二管道底端设有排放装置，排放装置与第二管道连通；工作间工作时，硅挥发物通过第一管道，进入第二管道，硅挥发物气体经第二管道进入粉尘处理设备，硅挥发物固体由第二管道滑落，掉入排放装置，硅挥发物堆积，经排放装置进行排放。此方案可以使硅挥发物的处理变得省时省力，用以解决硅挥发物掉落到产品上的问题。落到产品上的问题。落到产品上的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种等离子制砣用的挥发物收集装置
[0001]本公开涉及石英玻璃制造领域，具体涉及一种等离子制砣用的挥发物收集装置。
技术介绍
[0002]高频等离子制砣工艺是采用2000度左右高频等离子火焰来融制石英砣产品的，在产品融制过程中会产生大量硅挥发物，必须利用排风系统将硅挥发物排出收集才能保证产品质量。以前的排风管是直接连接(下方)产品加工间和(上方)硅挥发物收集装置的，由于空间狭小，一旦排风管内壁硅挥发物堆积以后，人员无法进行清理，堆积的硅挥发物经常掉落到产品上，导致产品报废，因此，我们提出一种等离子制砣用的挥发物收集装置，用以解决硅挥发物掉落到产品上的问题。
技术实现思路
[0003]鉴于现有技术中的上述缺陷或不足，期望提供一种防止硅挥发物掉落到产品上的等离子制砣用的挥发物收集装置。
[0004]第一方面，本申请提供一种等离子制砣用的挥发物收集装置，包括：管道本体；
[0005]所述管道本体包括第一管道和第二管道，所述第一管道的一端与所述第二管道的一端垂直连接，且二者内部连通；
[0006]排放装置，设于所述第二管道底端，所述排放装置与所述第二管道连通。
[0007]根据本申请实施例提供的技术方案，所述第一管道内部形成具有90度角的圆柱形腔室。
[0008]根据本申请实施例提供的技术方案，所述第二管道内部形成圆柱形腔室。
[0009]根据本申请实施例提供的技术方案，所述排放装置与所述第二管道通过法兰连接。
[0010]根据本申请实施例提供的技术方案，所述排放装置包括：
[0011]留置槽，所述留置槽呈上宽下窄的锥形结构；
[0012]出料管，所述出料管与所述留置槽相连，呈圆柱形。
[0013]根据本申请实施例提供的技术方案，所述出料管远离所述留置槽的一端设有出料口，所述出料口上铰接有出料口盖。
[0014]根据本申请实施例提供的技术方案，还包括独立设置的螺钉；所述螺钉，用于将所述出料口与所述出料口盖连接。
[0015]综上所述，本技术方案具体地公开了一种等离子制砣用的挥发物收集装置的具体结构。本申请设计有管道本体，其包括第一管道和第二管道，第一管道的一端与第二管道的一端垂直连接，且二者内部连通，第一管道用于排放硅挥发物，第二管道用于输送挥发气体；第二管道底端设有排放装置，排放装置与第二管道连通；工作间工作时，硅挥发物通过第一管道，进入第二管道，硅挥发物气体经第二管道进入粉尘处理设备，硅挥发物固体由第二管道滑落，掉入排放装置，硅挥发物堆积，经排放装置进行排放。此方案可以使硅挥发物
的处理变得省时省力，用以解决硅挥发物掉落到产品上的问题。
附图说明
[0016]通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本申请的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
[0017]图1为一种等离子制砣用的挥发物收集装置结构示意图。
[0018]图2为排放装置结构示意图。
[0019]图3为法兰结构示意图。
[0020]图中标号：1、第一管道；2、第二管道；3.排放装置；4、出料口；5、出料口盖；6、法兰；7、留置槽；8、出料管；9、螺钉。
具体实施方式
[0021]下面结合附图和实施例对本申请作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释相关专利技术，而非对该专利技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与专利技术相关的部分。
[0022]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本申请。
[0023]实施例一
[0024]请参考图1所示的本申请提供的一种等离子制砣用的挥发物收集装置的第一种实施例的结构示意图，包括：
[0025]管道本体；
[0026]管道本体包括第一管道1和第二管道2，第一管道1的一端与第二管道2的一端垂直连接，且二者内部连通；
[0027]排放装置3，设于第二管道2底端，排放装置3与第二管道2连通。
[0028]在本实施例中，管道本体用于排放和收集挥发物，其包括第一管道1和第二管道2，第一管道1的一端与第二管道2的一端垂直连接，且二者内部连通，第一管道1的另一端与工作间连通，第二管道2的另一端与粉尘处理设备相连，第一管道1用于排放硅挥发物，第二管道2用于输送挥发气体；
[0029]排放装置3，设于第二管道2底端，排放装置3与第二管道2连通，排放装置3用于排放硅挥发物。
[0030]如图1所示，第一管道1呈直角结构，其内部形成具有90度角的圆柱形腔室，此结构用以防止挥发物掉回工作间影响产品品质。
[0031]如图1所示，第二管道2内部形成圆柱形腔室，此结构避免挥发物挂壁存留，方便挥发物掉落进排放装置3中。
[0032]如图2所示，排放装置3与第二管道2通过法兰连接，此连接方式便于排放装置3的拆卸使用。
[0033]如图2所示，具体地，排放装置3包括：
[0034]留置槽7，留置槽7呈锥形结构，圆锥直径沿远离第二管道的方向减小，留置槽用于留置挥发物；
[0035]出料管8，出料管8与留置槽7相连，呈圆柱形，用于输送挥发物；
[0036]留置槽7与出料管8配合使用，用于排放挥发物。
[0037]如图2所示，出料管8远离留置槽7的一端设有出料口4，出料口用于排放挥发物，出料口4上铰接有出料口盖5，用以封住出料口4。
[0038]如图2所示，具体地，还包括独立设置的螺钉9；螺钉9用于将出料口4与出料口盖5连接。
[0039]具体工作过程：
[0040]工作间工作时，产生硅挥发物，硅挥发物经第一管道1进入第二管道2，气体进入粉尘处理设备，而挥发物产生的固体杂质从第二管2道滑落掉进排放装置3，通过拆卸螺钉9，打开出料口盖5定期排放硅挥发物；硅挥发物堆积较多时，硅挥发物无法从出料口4排放，通过拆卸法兰6，将排放装置取下，清理排放装置3中的硅挥发物。
[0041]以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的专利技术范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述专利技术构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种等离子制砣用的挥发物收集装置，其特征在于，包括：管道本体；所述管道本体包括第一管道(1)和第二管道(2)，所述第一管道(1)的一端与所述第二管道(2)的一端垂直连接，且二者内部连通；排放装置(3)，设于所述第二管道(2)底端，所述排放装置(3)与所述第二管道(2)连通。2.根据权利要求1所述的一种等离子制砣用的挥发物收集装置，其特征在于：所述第一管道(1)内部形成具有90度角的圆柱形腔室。3.根据权利要求1所述的一种等离子制砣用的挥发物收集装置，其特征在于：所述第二管道(2)内部形成圆柱形腔室。4.根据权利要求1所述的一种等离子制砣用的挥发物收集装置，其特征在于：所述排放装置(3)...
【专利技术属性】
技术研发人员：李宝君，闫学超，张晓风，李京伟，李大明，刘阳，
申请(专利权)人：久智光电子材料科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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