一种弱流环境雾汽腐蚀显影及蚀刻装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种弱流环境雾汽腐蚀显影及蚀刻装置，包括：用于安装待腐蚀工件的载板夹具座、喷淋件、设置在所述载板夹具座与喷淋件之间的扇窗组件、旋转驱动组件，所述载板夹具座上设置有若干弹性夹；所述扇窗组件包括：导电架、可旋转地安装于所述导电架上的圆形导电窗、与所述导电架连接的接线柱，所述圆形导电窗上等间距的设置有若干开孔，所述旋转驱动组件用于驱动所述圆形导电窗旋转。本实用新型专利技术通过接线柱接电，使得导电架、圆形导电窗带电，在电场的作用下，保证喷洒出的腐蚀雾汽做定向移动，使得腐蚀雾汽定向运动形成流场，增加药水的扩散性、活跃性，提高腐蚀效果。提高腐蚀效果。提高腐蚀效果。

【技术实现步骤摘要】
一种弱流环境雾汽腐蚀显影及蚀刻装置


[0001]本技术涉及显影蚀刻装置领域，尤其涉及一种弱流环境雾汽腐蚀显影及蚀刻装置。

技术介绍

[0002]现有的垂直/水平显影或蚀刻线喷淋装置一般是靠喷头的布局、喷淋液喷洒形状、喷头架摇摆运动等方式来保证腐蚀的均匀性，保证腐蚀质量。然而，现有技术的显影或蚀刻线喷淋装置存在以下问题：(1)不同压力下的喷洒形状不同，在摇摆机构的辅助下打击力大、浓度高、温度高的区域会先被腐蚀掉，难以保证整体一致性，甚至出现应用区点蚀的情况。(2)在雾化环境或非流动浸泡下的蚀刻速率非常慢，无论碱性还是酸性药水蚀刻速率梯度并不明显。
[0003]因此，现有技术存在缺陷，需要改进。

技术实现思路

[0004]本技术的目的是克服现有技术的不足，提供一种弱流环境雾汽腐蚀显影及蚀刻装置，解决现有技术中，腐蚀显影或蚀刻装置过程中，难以保证整体一致性，出现应用区点蚀的问题；解决雾化环境或非流动浸泡下蚀刻速度慢的问题。
[0005]本技术的技术方案如下：一种弱流环境雾汽腐蚀显影及蚀刻装置，包括：用于安装待腐蚀工件的载板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种弱流环境雾汽腐蚀显影及蚀刻装置，其特征在于，包括：用于安装待腐蚀工件的载板夹具座、喷淋件、设置在所述载板夹具座与喷淋件之间的扇窗组件、旋转驱动组件，所述载板夹具座上设置有若干弹性夹；所述扇窗组件包括：导电架、可旋转地安装于所述导电架上的圆形导电窗、与所述导电架连接的接线柱，所述圆形导电窗上等间距的设置有若干开孔，所述旋转驱动组件用于驱动所述圆形导电窗旋转。2.根据权利要求1所述的一种弱流环境雾汽腐蚀显影及蚀刻装置，其特征在于，所述旋转驱动组件包括：旋转驱动装置、与所述旋转驱动装置输出端连接的驱动轮、同步带，所述同步带套在所述驱动轮、圆形导电窗上。...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡青，徐杰，李哲轩，
申请(专利权)人：迈达微深圳半导体技术有限公司，
类型：新型
国别省市：