曝光装置和制造物品的方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及曝光装置和制造物品的方法。本发明专利技术提供了一种曝光装置，所述曝光装置包括被配置为在基板上的抗蚀剂膜上形成标记的形成单元，以及控制单元，该控制单元被配置为通过基于标记的测量位置将图案投影到基板上的抗蚀剂膜上的目标位置上来执行曝光处理以形成潜像，其中，在对去除具有第一标记的第一抗蚀剂膜之后其上已形成有第二抗蚀剂膜的返工基板执行曝光处理之前，控制单元使形成单元执行在第二抗蚀剂膜上形成第二标记的形成处理，以使第二标记将位于返工基板上的偏离第一标记的位置的位置处。的位置的位置处。的位置的位置处。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置和制造物品的方法
[0001]本申请是申请日为2019年4月3日、申请号为201910263549.2、专利技术名称为“曝光装置和制造物品的方法”的专利技术专利申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及一种曝光装置和制造物品的方法。

技术介绍

[0003]当要通过使用光刻技术制造设备(半导体设备，液晶显示设备，薄膜磁头等)时，使用曝光装置，该曝光装置通过经由投影光学系统将掩模(中间掩模(reticle))的图案投影到已经涂覆有光致抗蚀剂的基板上，来将该图案转印到涂覆有光致抗蚀剂的基板。
[0004]近年，在日本专利公报第11
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307449号中已经提出了一种曝光装置，该曝光装置通过在单层上多次执行曝光处理并在不执行显影处理的情况下将在各个曝光处理中形成的潜像图案加起来，来形成单层图案。在这种曝光装置中，在执行第一曝光处理之前形成对准(AMF：Alignment Mark Former，对准标记形成器)标记，并且基于这些对准标记来管理(控制)在各个曝光处理中形成的潜像图案的相对位置。
[0005本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其特征在于，包括：形成单元，形成单元被配置为在基板上的抗蚀剂膜上形成标记；其中，形成单元在已被去除其上形成了第一标记的第一抗蚀剂膜且已被形成第二抗蚀剂膜的返工基板上形成第二抗蚀剂膜上的第二标记，以使第二标记将位于返工基板上的偏离第一标记的位置的位置处。2.根据权利要求1所述的装置，其中，形成单元在第二抗蚀剂膜上形成至少三个第二标记。3.根据权利要求2所述的装置，其中，形成单元将所述至少三个第二标记形成为使得要形成在第二抗蚀剂膜上的所述至少三个第二标记之间的距离将长于预先确定的距离。4.根据权利要求1所述的装置，其中，形成单元在第二抗蚀剂膜上形成的多个第二标记的数量等于在第一抗蚀剂膜上形成的多个第一标记的数量。5.根据权利要求4所述的装置，其中，形成单元将所述多个第二标记形成为使得要在第二抗蚀剂膜上形成的所述多个第二标记之间的相对距离等于在第一抗蚀剂膜上形成的所述多个第一标记之间的相对距离。6.根据权利要求1所述的装置，其中，形成单元在第二抗蚀剂膜上形成第二标记，使得在返工基板上第二标记的位置与第一标记的位置不重叠。7.根据权利要求1所述的装置，还包括测量单元，测量单元被配置为测量由形成单元形成的标记的位置，其中，形成单元在第二抗蚀剂膜上形成第二标记，使得形成...

【专利技术属性】
技术研发人员：松田丰，玉置公寿，
申请(专利权)人：佳能株式会社，
类型：发明
国别省市：