线圈单元及电子设备制造技术

本发明专利技术提供一种作为部件能够被简易操作，并且能够防止异物混入的线圈单元及使用该线圈单元的电子设备。线圈单元（２２）具有平面状线圈（３０）；线圈收容框体（４０），包含用于收容平面状线圈的凹部（４１），并使平面状线圈的传送面（３２）与凹部的底面（４２）相对配置；以及基板（５０），具有在平面状线圈的非传送面（３３）侧安装有安装部件（５３）的安装面（５１），并与平面状线圈的内端引出线及外端引出线（３４）、（３５）连接。其中，基板（５０）作为线圈收容框体（４０）的盖固定在线圈收容框体（４０）的凹部（４１）的开口端（４８）侧上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及 一 种关系到 -使用线圏的无触点电力传输的线圏单 元及电子设备等。
技术介绍
近年来，即使金属部分无触点也可以利用电磁感应进行电力传 输的无触点电力传输(非接触电力传输)引人注目。作为该无触点 电力传1#的适用例子，可以用于移动电话、家用电器(例如家用电 话的子机)的充电等。专利文献1作为无触点电力传输的现有4支术。在该专利文献1 中，由连接至送电驱动器的输出的谐振电容和原线圈构成串联谐振 电路，从送电装置(一次侧)向受电装置(次级侧)供给电力。专利文献1:日本特开2006 - 60909号7>才艮在无触点电力传l叙中，在一次侧及次级侧配置线圈单元是必须 的。特别是在小型设备中容纳线圈单元的情况下，需要线圈单元自 身小型化。此外，作为装配设备所需要的一个部件，优选线圏单元 自身为容易操作的形状。而且，在线圈单元自身中不会因混入异物 而引起电气故障。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供作为部件简易操作并可以防止异物混 入的线圈单元及使用线圈单元的电子设备。本专利技术的第一方面涉及的线圏单元，包括平面状线圏；线圏 收容框体，所述线圏收容框体包含收容所述平面状线圈的凹部，使 所述平面状线圈的传送面与所述凹部的底面相对配置；以及基板， 所述基板具有在所述平面状线圈的非传送面侧安装有安装部件的 安装面，连接有所述平面状线圈的内端引出线和外端引出线，其中， 所述基一反作为所述线圏收容框体的盖固定在所述线圏收容框体的 所述凹部的开口端侧。才艮据本专利技术的第 一方面的线圈单元，由于线圏被线圏收容框体 和基板覆盖，所以作为线圏单元的平面状线圈自身不露出，作为电 气部件形成^喿作容易的形状。并且，由于不需在线圏收容框体上形 成不必要的孔，所以平面状线圏的收容空间-故线圏收容框体和基板 覆盖，防止外来异物混入。在线圏收容框体的内部空间中，虽然除 平面状线圈之外，还存在有安装部件和安装图案，很难发生因金属 异物的混入而导致电气古史障。在本专利技术的第二方面的线圏单元中，所述平面状线圏通过所述 传送面表面引出所述内端引出线，在所述线圈收容框体的所述底面 上，可以设置有收容所述内端引出线的收容部。这样，平面状线圏 的内端引出线的厚度就不会影响线圈单元的高度，或至少减低其影 响，实现线圈单元小型化。在本专利技术的第三方面的线圈单元中，所述平面状线圈具有空芯 部，在所述线圏收容才匡体中，i殳置有定位所述平面状线圈的所述空 芯部的定4立突出部。这样，能够利用作为平面状线圏自身的形状的空芯部定位平面 状线圈。在本专利技术的第四方面的线圏单元中，还具有配置在所述平面状 线圏的所述非传送面侧上的》兹片，在所述线圈收容才匡体和所述基—反 之间能够收容所述平面状线圏及所述;兹片。磁片能够进行接受来自平面状线圏磁通量的工作，并提高平面 状线圏的电感。在本专利技术的第五方面的线圏单元中，所述^兹片能够在与所述基 板的与安装面相对的一侧上层叠磁屏蔽片。磁屏蔽片能够吸收磁片未完全捕获的磁通量，避免发射到基板 上的安装部件的石兹通量的不良影响。在本专利技术的第六方面的线圏单元中，在所述万兹片的外周端部与 所述线圈收容框体的内壁之间封入有密封材料，所述平面状线圏的 所述内端引出线及外端引出线能够通过所述密封材泮牛与所述基板 连接。这样，能够覆盖磁片的端部，或密封磁片的端部材料下落的路 径。因此，在基板的安装面上能够防止有金属异物的落下，从而能 够防止引起图案短路等的电气弊端。在本专利技术的第七方面的线圈单元中，所述基玲反在与所述安装面 相反一侧的露出面上设置有连接所述内端引出线及所述外端引出 线的连4妻图案，在所述基^1的外周端上形成有切口部，所述内端引 出线及所述外端引出线能够通过所述切口部乂人所述安装面引导到 戶斤述露出面。当在基^反的露出面上有连^妄图案(pattern)时，则能够在装配 线圈单元后，将平面状线圈与连接图案连接，提高操作性。在本专利技术的第八方面的线圈单元中，所述基板在所述安装面上这样，不需在基板上设置切口部及通过切口部将内端引出线及 外端引出线引导到露出面上，能够利用基板密闭线圈收容框体。在本专利技术的第九方面的线圏单元中，所述线圏收容框体能够在 所述底面上具有贯穿的真空吸引孔。这样，能够在装配时，使平面 状线圏真空吸在线圈收容框体的底面，才是高紧密性。本专利技术的第十方面涉及的线圈单元，其特征在于，包括线圈； 包含收容所述线圈的凹部的线圈收容框体；以及安装有与所述线圏 电气连接的电子部件的基板，其中所述基板以覆盖所述凹部的形式配置。本专利技术的第十一方面涉及一种电子i殳备，包含上述的线圏单元。附图说明图1是表示具有充电器及使其横置的移动电话的充电系统的图。图2是图1的充电系统所4吏用的线圏单元的装配分解立体图。图3 (A)是线圏收容框体的平面图，图3 (B)是线圈收容框 体的背面图。 图4是线圈收容框体的部分截面图。 图5是线圏单元的部分截面图。图6是线圈单元的背面图。 图7是表示线圈单元的装配方法的图。 图8是变形例所涉及的线圏单元的装配分解立体图。 图9是变形例所涉及的线圈单元的部分截面图。 具体实施例方式以下对本专利技术的优选实施例进4亍详细地i兌明。另夕卜，以下i兌明 的实施例并不是对权利要求书中记载的本专利技术的内容的不合理限 定，实施例中说明的构成的全部未必都是本专利技术的必要技术特征。1.充电系统^图1及图2是才莫式地表示由充电器IO和利用该充电器10充电 的电子设备诸如移动电话20构成的充电系统的图。图1示出横置 在充电器10A上的移动电i舌20A。,人充电器10A向移动电i舌20A 的充电是利用在充电器10A的原线圈单元12的线圏和移动电话 20A的次级线圏单元22的线圏之间产生的电f兹感应作用，通过无 触点电力传输进行的。在这里，如图1所示，将线圈单元12、 22彼此对置实施无触 点电力传输时的对置面侧称为传送面。图1的线圈单元12的上侧 面为传送面，线圏单元22的下侧面为传送面。将与传送面相反一 侧的面称为非传送面。 2.线圈单元的构造图2是表示在图1所示的线圏单元12、 22中，尤其是在要求 小型化的次级线圈单元22中优选构成的装配分解立体图。另夕卜， 也可以将图2所示的构成适用于线圈单元12。在图2中，本实施例所涉及的线圏单元22作为其基本的构成， 包括具有空芯部31的平面状线圏30、收容平面状线圈30的线圏收 容框体40、以及基板50，所述基板50具有作为收容平面状线圈30 的线圈收容框体40的盖的作用。在图2中，还具有配置在平面状线圏30的非传送面侧上的》兹 片60,在线圈收容框体40与基板50之间，收容有平面状线圈30 及》兹片60。另夕卜，石兹片60优选在基—反50侧层叠i兹屏蔽片62 (参 照后述的图5 )。此外，在图2中，使用诸如带状的双面胶带70来 固定基板50作为线圈收容框体40的盖。平面状线圈30不特别限定为平面的空芯线圈，-渚如可以是适 用在平面上巻绕单芯或多芯的铠装线圈线的线圈。图3 (A)是线圏收容框体的平面图，图3 (B)是线圏收容框 体的背面图，图4是线圈收容框体的部分截面图，图5是线圈单元 的部分截面图。线圈收容框体40诸如由树脂材料注射模塑成型。如图4所示， 该线圈收容框体40具有收容平面状线圏30的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种线圈单元，其特征在于，包括：　平面状线圈；　线圈收容框体，所述线圈收容框体包含收容所述平面状线圈的凹部，使所述凹部的底面相对所述平面状线圈的传送面配置；以及　基板，所述基板在所述平面状线圈的非传送面侧具有安装有安装部件的安装面，连接有所述平面状线圈的内端引出线和外端引出线，　其中，所述基板作为所述线圈收容框体的盖被固定在所述线圈收容框体的所述凹部的开口端侧。

【技术特征摘要】
JP 2007-7-11 2007-1823711.一种线圈单元，其特征在于，包括平面状线圈；线圈收容框体，所述线圈收容框体包含收容所述平面状线圈的凹部，使所述凹部的底面相对所述平面状线圈的传送面配置；以及基板，所述基板在所述平面状线圈的非传送面侧具有安装有安装部件的安装面，连接有所述平面状线圈的内端引出线和外端引出线，其中，所述基板作为所述线圈收容框体的盖被固定在所述线圈收容框体的所述凹部的开口端侧。2. 根据权利要求1所述的线圈单元，其特征在于，所述平面状线圈通过所述传送面表面引出所述内端引出线，在所述线圈收容框体的所述底面上设置有收容所述内端 引出线的收容部。3. 根据权利要求1或2所述的线圏单元，其特征在于，所述平面状线圏具有空芯部，在所述线圏收容框体中设置有定位突起部，所述定位突 起部用于定位所述平面状线圈的所述空芯部。4.根据权利要求1至3中任一项所述的线圏单元，其特征在于，还具有配置在所述平面一犬线圏的所述非传送面侧的磁片，在所述线圏收容框体与所述基板之间收容有所述平面状 线圏及所述磁片。5. 根据权利要求4所述的线圏单元，其特征在于，所述磁片在面对所述基板的安装面的一侧上...

【专利技术属性】
技术研发人员：冈田敬文，近藤阳一郎，
申请(专利权)人：精工爱普生株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]